1.通过热喷镀，尤其通过利用等离子体炬的等离子体喷镀制备靶的方法，所述靶包含至少一种选自耐火金属、电阻氧化物、挥发性氧化物的化合物，其特征在于在受控气氛中通过热喷镀在该靶的至少一部分表面上喷镀至少一部分所述的化合物，该化合物呈所述化合物的粉末组合物形式，和特征在于使用在靶的构造期间对着该靶的并分布在等离子体炬周围的强力的任选低温的冷却射流。
2.根据权利要求1的制备方法，特征在于在腔室中进行化合物的喷镀，该腔室已经用惰性气体吹扫或者冲洗然后充满，直至可以为50mbar-1100mbar的压力，以便在其内产生贫化氧的气氛。
3.根据权利要求1或2之一的制备方法，特征在于通过等离子体炬进行热喷镀和所使
用的等离子体化气体混合物是还原性的(能够降低最初存在于粉末中的氧化物的含量)，优选地等离子体化混合物的组成包含大于10%的氢或者另一种还原性等离子体化气体。
4.根据权利要求1的制备方法，特征在于所有或部分冷却射流具有氧化性特征。
5.根据前述权利要求任一项的制备方法，特征在于使用连接下层，后者在所述化合物的热喷镀之前被沉积在所涉及的靶的表面部分上。
6.根据前述权利要求任一项的制备方法，特征在于在等离子体喷镀期间进行该靶的热调节。
7.根据前述权利要求任一项的制备方法，特征在于使用包含其粒度为525μm8.根据权利要求1-3和5-7任一项的制备方法，特征在于它包括随后的在还原气氛中
的热处理步骤，以降低在热喷镀步骤之后存在于靶中的氧含量。
9.根据前述权利要求任一项的制备方法，特征在于使用多个所述化合物的注入器以
在热射流的不同点注入不同材料，其中根据注入在每个注入器中的材料独立地调整注入参数。
10.任选地通过根据前述权利要求任一项的方法可以制备的靶，所述靶主要地包含选自耐火金属、电阻氧化物和挥发性氧化物的化合物并具有层状微结构。
11.根据前一权利要求的靶，特征在于它基于耐火化合物，并具有低于该化合物的理论电阻率的五倍、优选地三倍，更优选地二倍的电阻率。
12.根据权利要求10的靶，特征在于它基于电阻氧化物的化合物并具有低于该氧化物的公称电阻率的1000分之一，优选地10000分之一，更优选地100000分之一的靶体积电阻率。
13.根据权利要求10的靶，特征在于它基于挥发性氧化物的化合物，并具有高于3mm，优选地大于6mm的公称厚度。
14.根据前一权利要求的靶，特征在于它具有大于公称密度的85%，优选地大于公称密度的90%的密度。
15.根据权利要求10或11的靶，特征在于它基于耐火金属，其选自钼、钨、钽、铌、钛、钒、铪、锆、铼、铑和耐火合金，该耐火合金定义在于它们由AB合金构成，其中A和B属于以下元素名单：Mo、W、Ta、Nb、Ti、V、Hf、Zr、Re、Rh和AM类型合金，其中A属于以下名单：Mo、W、Ta、Nb、Ti、V、Hf、Zr、Re，和M属于以下名单：Co、Cr、Ni、Rh、Pd、Pt、Cu、Ag、Au。
16.根据前一权利要求的靶，特征在于它是由耐火金属，一方面和硅，另一方面以可以为1摩尔耐火金属/5摩尔硅至5摩尔耐火金属/1摩尔硅，优选地1摩尔耐火金属/2摩尔硅的摩尔比例组成。
17.根据前一权利要求的靶，特征在于靶的层状微结构是复合的并且包含与纯硅薄片邻近的耐火金属薄片。
18.根据权利要求10或12的靶，特征在于它基于至少一种选自具有ABO3类型式的钙
钛矿类型结构的氧化物族的电阻氧化物，其中A和B是元素或者元素的组合，使得一种或多种构成A的元素的化合价和一种或多种构成B的元素的化合价的总和等于6，或者选自具有AB2O6类型的铌铁矿/三金红石类型结构的氧化物，其中B是Nb或者Ta和A是2价元素，例如Sr、Ba、Pb等，或者选自名单：Ta2O5、Nb2O5、V2O5、ZrO2、HfO2、CeO2、Y2O3、Al2O3、La2O3、MgO、BeO。
19.根据前一权利要求的靶，特征在于它由组合物构成或者主要地包含一种电阻氧化物，该组合物由两种或更多种的电阻氧化物的混合物或者组合组成。
20.根据权利要求10、13或14的靶，特征在于它基于至少一种符合标准
Tvap锡、氧化钡、氧化镉、氧化铟、氧化钼、用铝、钼、镓、锡、氟、铟掺杂的氧化锌、混合氧化锡铟。
21.根据前一权利要求的靶，特征在于它由组合物构成或者主要地包含一种挥发性氧化物，该组合物由两种挥发性化合物的混合物或者组合组成。
22.通过靶的溅射获得层的方法，特征在于该靶通过根据权利要求1-9任一项的方法
获得。