1.一种使用精细液态金属熔滴的RF MEMS开关，包括：
第一层构件，其具有信号传输线；
第二层构件，其布置在所述第一层构件上，且具有室和通孔，所述室对应于所述信号传输线而形成，以便引起所述精细液态金属熔滴的形状的变化，以及所述通孔在所述室的一侧形成，以便使所述精细液态金属熔滴与所述信号传输线接触或不接触，所述精细液态金属熔滴的形状在所述室中被改变；
操作构件，其布置在所述第二层构件上，且设置在所述室的开口侧，以便通过所述室的所述开口侧将可变形性提供给所述精细液态金属熔滴；以及
第三层构件，其用于限定所述操作构件的位置，并且耦合到所述第一层构件和所述第二层构件。
2.如权利要求1所述的RF MEMS开关，其中所述信号传输线是用于在与所述精细液态金属熔滴接触时传输RF信号的DC接触类型或是用于在与所述精细液态金属熔滴不接触时传输RF信号的电容类型。
3.如权利要求1所述的RF MEMS开关，其中所述室被限定为一空间，该空间在连接所述第二层构件的顶部和所述通孔的倾斜表面上从顶部到底部变得越来越窄。
4.如权利要求3所述的RF MEMS开关，其中所述倾斜表面是改良的。
5.如权利要求1所述的RF MEMS开关，其中所述操作构件由设置在所述第二层构件和所述第三层构件之间的流体膜形成，以便向储存在所述室中的所述精细液态金属熔滴施加压力。
6.如权利要求5所述的RF MEMS开关，其中所述第三层构件包括对应于所述室而安装的气密端子，以便将从泵提供的气动压力施加到所述流体膜。
7.如权利要求1所述的RF MEMS开关，其中所述室、所述精细液态金属熔滴和所述操作构件布置在同一中心线上的向上和向下方向上。
8.如权利要求1所述的RF MEMS开关，其中所述室包括：
第一空间，其在所述第二层构件的上部形成；以及
第二空间，其连接所述第一空间和所述通孔，并且在所述第二层构件的下部形成，比所述第一空间小。
9.如权利要求8所述的RF MEMS开关，其中所述第一空间被限定成：
内壁，其相对于所述第二层构件的顶表面垂直地形成；以及
底部，其与所述内壁垂直且限定所述第二空间。
10.如权利要求9所述的RF MEMS开关，其中所述第二空间在所述底部是宽的，并且朝着所述通孔变得越来越窄。
11.如权利要求8所述的RF MEMS开关，其中所述第一空间和所述第二空间是改良的。
12.如权利要求1所述的RF MEMS开关，其中所述操作构件包括高压电极和接地的接地电极，所述高压电极和所述接地的接地电极面向彼此布置在所述室上，以便向储存在所述室中的所述精细液态金属熔滴施加或不施加静电。
13.如权利要求12所述的RF MEMS开关，其中所述接地电极包括在圆盘的中心形成的第一图案和在径向方向上从所述第一图案切割的第二图案，以及
所述高压电极包括布置在所述第一图案上的中央部分和沿着所述第二图案从所述中央部分提取的提取部分。
14.如权利要求12所述的RF MEMS开关，还包括绝缘层，所述绝缘层设置在所述操作构件和所述第二层构件之间，并密封所述室的所述开口侧。