1.一种用于经由投影光学系统将形成于原件上的图案的图像转印到基板上的曝光装置，其特征在于，所述曝光装置包含：
第一检测器，所述第一检测器经由形成于所述原件上的原件侧标记和所述投影光学系统来检测形成于所述基板上的基板侧标记中的至少一个；
多个第二检测器，所述多个第二检测器以与所述第一检测器相比更多的数量来布置并且在不经由所述投影光学系统的情况下分别检测所述基板侧标记；
具有多个参考标记的参考板；以及
被配置为控制所述原件与所述基板的对准的控制单元，
其中所述控制单元被配置为通过所述第二检测器来获得所述多个参考标记的第一检测结果，并且基于所述第一检测结果来获得与所述多个第二检测器之间的第一距离相关的第一信息，
其中所述控制单元被配置为通过所述第一检测器和所述第二检测器来获得同一基板侧标记的第二检测结果，并且基于所述第二检测结果来获得与所述第一检测器和所述第二检测器之间的第二距离相关的第二信息，并且
其中所述控制单元被配置为基于所述第一信息和所述第二信息来控制所述原件与所述基板的对准。
2.根据权利要求1所述的曝光装置，其中所述第一检测器按照由所述第二检测器进行检测的时序来检测所述基板侧标记。
3.根据权利要求1所述的曝光装置，包含保持所述基板的且可移动的基板保持器，其中所述参考板被布置为在所述基板保持器被移动至所述基板被交换的位置的情况下移动至可由所述第二检测器检测到的位置。
4.根据权利要求1所述的曝光装置，其中所述控制单元被配置为在所述多个第二检测器检测所述基板侧标记的情况下基于所述第一信息来校正所述第一距离。
5.根据权利要求1所述的曝光装置，其中所述控制单元被配置为在所述多个第二检测器检测所述基板侧标记的情况下基于所述第二信息来校正所述第二距离。
6.根据权利要求4所述的曝光装置，其中所述控制单元被配置为通过使用已校正的第一距离来指定所述基板侧标记在所述基板上的位置，并且基于所述位置来执行所述原件与所述基板的对准。
7.根据权利要求5所述的曝光装置，其中所述控制单元被配置为通过使用已校正的第二距离来指定所述基板侧标记在所述基板上的位置，并且基于所述位置来执行所述原件与所述基板的对准。
8.根据权利要求1所述的曝光装置包含第二驱动单元，所述第二驱动单元移动所述第一检测器或所述第二检测器，从而使得在所述基板或所述原件的扫描方向上的所述第一检测器与所述第二检测器之间的距离在曝光期间是可变的。
9.根据权利要求1所述的曝光装置，包含改变所述第二检测器之间的距离的第三驱动单元。
10.根据权利要求1所述的曝光装置，其中所述第一检测器或所述第二检测器通过使用具有与所述曝光期间使用的光的波长不同的波长的光来检测所述基板侧标记。
11.一种用于制造物品的方法，其特征在于，所述方法包含以下步骤：
使用根据权利要求1至10中的任一项所述的曝光装置对基板进行曝光；并且使所曝光的基板显影。