1.一种基板处理装置，该基板处理装置包括：
具有内部空间的处理腔室，在所述内部空间中容纳有基板并且执行与所述基板相关的处理；以及
管式加热器，该管式加热器在所述处理腔室的侧壁中围绕所述内部空间布置，所述管式加热器具有通道，从外部供应的制冷剂流动通过所述通道。
2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中所述处理腔室包括：
入口端口，该入口端口布置在所述处理腔室的一侧上以允许放入所述管式加热器；以及
出口端口，该出口端口布置在所述处理腔室的另一侧上以允许取出所述管式加热器，其中所述基板处理装置进一步包括：
供应管线，该供应管线连接至布置在所述入口端口上的所述管式加热器，以供应制冷剂；以及
排放管线，该排放管线连接至布置在所述出口端口上的所述管式加热器，以排放所述管式加热器内的制冷剂。
3.根据权利要求2所述的基板处理装置，所述基板处理装置进一步包括：
绝缘连接部，该绝缘连接部将所述管式加热器连接至所述供应管线和所述排放管线的每一个；
电源，该电源布置在所述处理腔室与所述绝缘连接部之间，以将电流供应给所述管式加热器；以及
阀，该阀布置在所述供应管线或所述排放管线中，以调整制冷剂的流速。
4.根据权利要求2或3所述的基板处理装置，其中所述入口端口布置在所述出口端口的上方，并且
所述基板处理装置进一步包括制冷剂供应装置，该制冷剂供应装置连接至所述供应管线和所述排放管线，以将通过所述排放管线排放的制冷剂冷却，从而将已冷却的制冷剂供应至所述供应管线。
5.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中所述处理腔室包括：
入口端口，该入口端口布置在所述处理腔室的一侧上以允许放入所述管式加热器；以及
出口端口，该出口端口布置在所述处理腔室的另一侧上以允许取出所述管式加热器，其中所述基板处理装置进一步包括：
供应管线，该供应管线连接至布置在所述入口端口上的所述管式加热器，以供应制冷剂；以及
内部反应管，该内部反应管布置在所述内部空间中以将所述内部空间分隔成内侧和外侧，所述内部反应管具有处理空间，在所述处理空间中执行与所述基板相关的处理，其中所述管式加热器具有多个喷射孔，用于朝向所述内部反应管的外侧喷射制冷剂。
6.根据权利要求5所述的基板处理装置，所述基板处理装置进一步包括排气端口，该排气端口与限定在所述处理腔室的上部中的排气孔连通，以排放通过所述喷射孔喷射至所述外侧的制冷剂。
7.根据权利要求5或6所述的基板处理装置，其中每个所述喷射孔均向上倾斜地布置。
8.根据权利要求5或6所述的基板处理装置，所述基板处理装置进一步包括：
排放管线，该排放管线连接至布置在所述出口端口上的所述管式加热器，以排放所述管式加热器内的制冷剂；以及
泵，该泵布置在所述排放管线上以强制排放制冷剂。