1.一种衬底处理装置，包括：
具有内容积的腔室，
以相对的关系设置在内容积中的热源和冷却板；所述冷却板包括独立控制的多个冷却区，所述多个冷却区对应于衬底的外区、中间区和内区；
设置在内容积中的磁驱动衬底支架，所述衬底支架具有环形体，该环形体在其上表面上支撑衬底；以及
在内容积中设置在热源与衬底之间的透明窗口，
其中所述热源设置在所述窗口之下和设置在所述环形体的内径中，
其中所述环形体设置在与所述热源分隔开的槽中，所述槽连接至流体源。
2.根据权利要求1所述的装置，进一步包括：
与所述环形体耦接的环形延伸；和
与所述环形延伸可拆卸地耦合的支撑环。
3.根据权利要求1所述的装置，其中，所述环形体与定子组件磁耦合。
4.根据权利要求1所述的装置，进一步包括：
从所述窗口的上表面延伸的多个升降杆。
5.根据权利要求1所述的装置，其中，所述冷却板含有黑色材料。
6.根据权利要求1所述的装置，其中，所述冷却板具有0.70到0.95之间的发射率。
7.根据权利要求1所述的装置，其中，所述冷却板具有至少一个流体管道，所述流体管道用于冷却剂在其中流动。
8.一种衬底处理装置，包括：
腔室，具有包括上部分和下部分的内容积；
设置在内容积中的冷却板和热源；所述冷却板具有多个冷却区并与所述热源相对，所述多个冷却区独立控制并对应于衬底的外区、中间区和内区；
悬浮的可旋转衬底支架，在所述上部分和所述下部分之间移动所述衬底，所述衬底支架具有环形体；以及
设置在热源和衬底之间的窗口，其中所述窗口能透过红外光谱，
其中所述热源设置在所述窗口之下和设置在所述环形体的内径中，
其中所述环形体设置在与所述热源分隔开的槽中，所述槽连接至流体源。
9.根据权利要求8所述的装置，其中，所述冷却板设置在所述内容积的上部分，而所述热源设置在所述内容积的下部分。
10.根据权利要求8所述的装置，其中，所述冷却板含有黑色材料。
11.根据权利要求8所述的装置，其中，所述冷却板包括至少一个流体管道，所述流体管道用于冷却剂在其中流动。
12.根据权利要求8所述的装置，其中，所述衬底支架具有接收并支撑所述衬底的支撑环。
13.一种衬底处理装置，包括：
腔室，具有包括上部分和下部分的内容积；
设置在所述下部分中的热源；
设置在所述上部分中的冷却板；所述冷却板具有多个冷却区，所述多个冷却区独立控制并对应于衬底的外区、中间区和内区；
设置在内容积中的磁驱动衬底支架，所述衬底支架具有环形体，该环形体在其上表面上支撑衬底；以及
设置在所述热源和衬底之间的窗口，其中该窗口能透过红外光谱，
其中所述热源设置在所述窗口之下和设置在所述环形体的内径中，
其中所述环形体设置在与所述热源分隔开的槽中，所述槽连接至流体源。
14.根据权利要求13所述的装置，其中，所述窗口包括从其上表面延伸的多个升降杆。
15.根据权利要求13所述的装置，其中，所述冷却板含有黑色材料。
16.根据权利要求13所述的装置，其中，所述冷却板具有0.70到0.95之间的发射率。
17.根据权利要求13所述的装置，其中，所述冷却板包括至少一个流体管道，所述流体管道用于冷却剂在其中流动。