1.一种用于形成抗反射涂层的聚硅烷硅氧烷共聚物树脂，所述聚硅烷硅氧烷共聚物树脂包含：
通过RSiOa(OH)b(OR’)c单元定义的第一组分，其中下标a、b和c为大于或等于0的数，使得(2a+b+c)=3；其中R为有机吸光基团并且R’为烷基；和
通过Si5Ox(OH)y(OR’’)z单元定义的第二组分，其中下标x、y和z为大于或等于0的数，使得(2x+y+z)=12；其中R”为烷基。
2.根据权利要求1所述的聚硅烷硅氧烷共聚物树脂，其中所述R基团为选自苯基和甲基的一个。
3.根据权利要求1和2所述的聚硅烷硅氧烷共聚物树脂，其中所述R基团吸收约193纳米波长的光。
4.根据权利要求1-3所述的聚硅烷硅氧烷共聚物树脂，其中R’和R”基团中的至少一个为甲基。
5.根据权利要求1-4所述的聚硅烷硅氧烷共聚物树脂，其中所述聚硅烷硅氧烷共聚物树脂中所述第一组分和第二组分的摩尔份数的比为约1:1。
6.根据权利要求1-5所述的聚硅烷硅氧烷共聚物树脂，其中所述第一组分包含PhSiOa(OH)b(OMe)c和MeSiOa(OH)b(OMe)c单元的杂化体。
7.根据权利要求6所述的聚硅烷硅氧烷共聚物树脂，其中所述PhSiOa(OH)b(OMe)c:MeSiOa(OH)b(OMe)c单元的摩尔比选为约4:1和1:4之间的一个。
8.根据权利要求6和7所述的聚硅烷硅氧烷共聚物树脂，其中所述PhSiOa(OH)b(OMe)c:MeSiOa(OH)b(OMe)c单元的摩尔比为2:3。
9.一种用于形成抗反射涂层的聚硅烷硅氧烷共聚物树脂，所述聚硅烷硅氧烷共聚物树Ph Me Si5
脂包含根据下式的T 、T 和PSSX 单元：
Ph Me Si5
T mT nPSSX 0.5
Ph
其中T m代表PhSiOa(OH)b(OMe)c单元，其下标a、b和c为大于或等于0的数，使得Me
(2a+b+c)=3，并且m为范围在0.1和0.4之间的摩尔份数；T n代表MeSiOd(OH)e(OMe)f单元，其下标d、e和f为大于或等于0的数，使得(2d+e+f)=3，并且n为范围在0.4和0.1之Si5
间的摩尔份数，使得(m+n)=0.5；并且PSSX 0.5代表Si5Ox(OH)y(OMe)z单元，其下标x、y和z为大于或等于0的数，使得(2x+y+z)=12，并且重量份数为约0.5；
其中Ph为苯基，Me为甲基。
10.根据权利要求9所述的聚硅烷硅氧烷共聚物树脂，其中m为约0.2，且n为约0.3。
11.一种施加到用于光刻法的基材的抗反射涂层，所述抗反射涂层包含权利要求1-10所述的聚硅烷硅氧烷共聚物树脂。
12.根据权利要求11所述的抗反射涂层，其中所述抗反射涂层吸收约193纳米波长的光。
13.一种制备用于在基材上形成抗反射涂层的聚硅烷硅氧烷共聚物树脂的方法，所述方法1包括以下步骤：
提供预定量的至少一种三甲氧基硅烷；
提供预定量的全甲氧基新戊硅烷；
在醇溶剂中将所述三甲氧基硅烷和所述全甲氧基新戊硅烷混合在一起；所述醇溶剂包含预定量的酸化水；
Ph Me
使所述三甲氧基硅烷和全甲氧基新戊硅烷水解，以形成包含根据下式的T 、T 和Si5
PSSX 单元的聚硅烷硅氧烷共聚物树脂：
Ph Me Si5
T mT nPSSX 0.5
Ph
其中T m代表PhSiOa(OH)b(OMe)c单元，其下标a、b和c为大于或等于0的数，使得Me
(2a+b+c)=3，并且m为范围在0.1和0.4之间的摩尔份数；T n代表MeSiOd(OH)e(OMe)f单元，其下标d、e和f为大于或等于0的数，使得(2d+e+f)=3，并且n为范围在0.4和0.1之Si5
间的摩尔份数，使得(m+n)=0.5；并且PSSX 0.5代表Si5Ox(OH)y(OMe)z单元，其下标x、y和z为大于或等于0的数，使得(2x+y+z)=12，并且摩尔份数为约0.5；并且其中Ph为苯基，Me为甲基；
用成膜溶剂交换所述醇溶剂，以形成树脂溶液；并且
浓缩所述树脂溶液，直至所述溶液包含约10重量%树脂。
14.根据权利要求14所述的方法，其中水解所述三甲氧基硅烷和全甲氧基新戊硅烷的Ph Me
所述步骤形成T 摩尔份数m为约0.2并且T 摩尔份数n为约0.3的聚硅烷硅氧烷共聚物树脂。