| 序号 | 专利名 | 申请号 | 申请日 | 公开（公告）号 | 公开（公告）日 | 发明人 |
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| 41 | 放射线拍摄设备以及放射线拍摄系统 | CN201110391175.6 | 2011-11-30 | CN102525504A | 2012-07-04 | 岩切直人; 佐藤优 |
| 本发明涉及放射线拍摄设备以及放射线拍摄系统。放射线拍摄设备用于获得放射线相衬图像，该放射线拍摄设备包括：辐射源、第一光栅、第二光栅、扫描单元以及放射线图像检测器。辐射源包括辐射管、驱动电源单元以及辐射源控制单元。从辐射管照射的辐射被控制为使得在停止通过驱动电源单元将电力馈送给辐射管之后的剩余输出基本上变为零，并且扫描单元在照射到第一光栅的辐射被辐射源控制单元有效地遮断之后执行相对移位操作。 | ||||||
| 42 | X射线成像装置和X射线成像方法 | CN201080026082.7 | 2010-06-09 | CN102458254A | 2012-05-16 | 向出大平; 高田一广; 福田一德; 渡边壮俊 |
| 本发明旨在提供与在WO2008/029107中公开的方法相比确保关于检测器的像素尺寸的X射线移动量的足够的检测范围的X射线成像装置等。本发明的X射线成像装置具有：在空间上线状分割X射线的分割元件；和屏蔽被分割元件分割并且通过被检体改变位置的X射线的一部分的屏蔽单元。所述屏蔽单元具有透过X射线的区域和具有屏蔽X射线的屏蔽元件的区域。透过X射线的区域和具有屏蔽元件的区域之间的分割线被配置为倾斜地布置以与线状分割的X射线相交。 | ||||||
| 43 | 用于微分相位对比扇形线束CT、锥形线束CT以及混合锥形线束CT的方法和装置 | CN201080018703.7 | 2010-03-02 | CN102413767A | 2012-04-11 | 劳拉·宁; 蔡卫兴 |
| 一种用于成像物体(如乳房成像)的设备，包括托台架，其上安装有X射线源、源光栅、用于待成像物体的支持物或其它位置、相位光栅、分析光栅和X射线检测器。所述设备通过微分相位对比锥形线束计算机X射线断层摄影术来成像物体。混合系统包括用于常规和微分相位对比计算机X射线断层摄影两者的源和检测器。 | ||||||
| 44 | 在利用散射辐射的条件下X射线成像的方法 | CN200980153382.9 | 2009-11-06 | CN102271585A | 2011-12-07 | 奥利弗.海德 |
| 本发明涉及用于X射线成像的一种方法及一种装置。在该方法中，利用一个或多个按照时间上的间隔相继跟随的X射线脉冲对对象(8)进行透视。利用具有探测器元件的二维布置的X射线探测器(9)、在与透视方向不同的方向上时间和位置分辨地记录在对象的体积元素上散射的X射线。通过X射线脉冲的波前的已知的几何形状和传播，从位置和时间分辨的测量数据中重建对象(8)的三维散射分布的图像数据组。该方法使得可以利用仅一个X射线脉冲建立三维散射分布的图像数据组并且由此可以非常简单地进行。 | ||||||
| 45 | 用于相位衬度成像的旋转X射线装置 | CN200980109385.2 | 2009-03-13 | CN101978257A | 2011-02-16 | J·布雷多诺 |
| 本发明涉及一种用于产生对象(1)的相位衬度图像的旋转X射线装置(100)，例如CT扫描仪。在装置(100)的具体实施例中，多个X射线源(11)、X射线探测器(30)和分析器光栅(G2)附着于可旋转台架(20)，而环形相位光栅(G1)是固定的。设置X射线源，使得X射线在通过相位光栅(G1)并接下来通过分析器光栅(G2)之前首先通过被研究的对象。这是通过相对于环形相位光栅(G1)沿轴向偏移X射线源或通过在环内部设置X射线源来实现的。此外，相位光栅(G1)和分析器(G2)应当具有空间上变化的相对相位(和/或周期性)，例如由彼此倾斜的线格栅实现。在旋转台架(20)期间，同步激活X射线源(11)允许利用相位光栅(G1)和分析器(G2)之间不同的相对位置(因此不同的相位)从相同视角产生对象(1)的投影图像。 | ||||||
| 46 | X射线成像装置、X射线成像方法和X射线成像装置的控制方法 | CN200980108149.9 | 2009-03-11 | CN101960298A | 2011-01-26 | 向出大平; 高田一广; 渡边壮俊 |
| 一种简化的X射线成像装置即使对于轻元素也能够以小的误差因数计算确定有效原子序数。X射线成像装置具有用于产生X射线的X射线产生单元101(400)和用于检测透过被检体104(403)的X射线的检测器105(405)。计算单元106(406)从由检测器检测的数据计算确定可归因于被检体的X射线相位的量和被检体的X射线透射率。计算单元还从由X射线相位的量确定的ρet和由X射线透射率确定的μt计算确定被检体的有效原子序数。 | ||||||
| 47 | 相衬锥束CT成像 | CN200780014350.1 | 2007-02-27 | CN101622526A | 2010-01-06 | 宁若拉; W·蔡 |
| 一种结合了相衬同轴方法的锥束CT成像系统，其中使用相位系数而不是仅仅使用衰减系数来重建图像。从同轴全息术的干涉公式开始，该干涉公式中的项可以近似表示为所有CBCT算法所需的线积分。所以，该CBCT重建算法例如FDK算法，可以应用到同轴全息投影中。 | ||||||
| 48 | 电子撞击型x射线源中碎片的减少 | CN200780026317.0 | 2007-05-08 | CN101490790A | 2009-07-22 | 汉斯·M·赫茨; 迈克尔·奥滕达尔; 托米·图希玛 |
| 一种产生x射线辐射的方法，包括步骤：通过在压强下推动液体物质穿过出口来形成靶喷流，该靶喷流传播通过相互作用区域；以及引导至少一个电子束到所述相互作用区域中的所述靶喷流上，从而所述电子束与所述靶喷流相互作用以产生x射线辐射，其中在所述靶喷流的横向方向上所述电子束的半高全宽是所述靶喷流的横向尺寸的约50％或更小。还公开了一种用于实施该方法的系统。 | ||||||
| 49 | X射线微分干涉相衬成像系统 | CN200810216469.3 | 2008-10-10 | CN101413905A | 2009-04-22 | 牛憨笨; 郭金川; 刘鑫 |
| 本发明涉及一种X射线微分干涉相衬成像系统。适用于医学和无损探伤等领域。系统组成中按照X射线传播方向包括X射线管、滤波器、样品台、相位光栅及X射线探测器，系统中还包括微机和配套的系统管理软件，关键在于：①系统中采用的X射线管中具有呈平行线状分布的、相干高能X射线发射体，发射角为30－50度。②所采用的X射线探测器具有分析光栅和探测器的双重功能，基本组成中包括平行线阵列式X射线转换屏、中继光学系统和面阵探测器或包括平行线阵列式光电导X射线探测器，X射线转换屏或光电导X射线探测器其结构组成和尺寸与上述X射线管中呈平行线状分布的、相干高能X光源及相位光栅对应配套。 | ||||||
| 50 | 用于利用不相干的多色X射线源进行定量相衬成像和断层照相术的干涉仪 | CN200680029434.8 | 2006-05-30 | CN101257851A | 2008-09-03 | C·戴维; F·普费弗; T·韦特坎普 |
| 公开了一种X射线干涉仪装置，其仅包括一个相栅(G1)和一个振幅光栅(G2)。这种干涉仪可以被用于利用标准X射线管获得相衬图像。另外，新型干涉仪可以使用由单独的子源的阵列组成的源。每个子源单独相干但是与其他子源互不相干。子源阵列可以通过将狭缝阵列、即附加的振幅光栅(GO)靠近源放置来产生。这种装置使得将这种类型的干涉仪与不提供空间或时间相干的源一起使用成为可能。因此，该装置可以和被置于检测器的较短距离处的较大源一起使用，从而导致较高的通量密度和因此较短的曝露时间。这对于要求在多个(数百个)视角下捕获物体图像的断层照相术特别重要。 | ||||||
| 51 | 取得相位图像改变的方法和装置 | CN97181553.4 | 1997-12-24 | CN1214698C | 2005-08-10 | 斯蒂芬·威廉·威金斯; 安德鲁·威斯利·斯蒂份森; 皮特·安德鲁·波加尼; 蒂莫尔·古雷耶夫 |
| 一种用于获得在贯穿辐射入射到目标上时由目标引入的相位变化图象的方法，它包括：用具有高横向空间相关性的贯穿辐射照射目标；在辐射从目标射出后，在探测器装置处接收至少一部分所述辐射，由此获得并存储至少两个所接收辐射的强度记录，其每一个都包括有预定间隔的强度值。利用这些值，推导出定义处于贯穿辐射中目标所引入的相位变化图象的数值阵列。这些强度记录是在辐射从目标射出后于相同有限距离处获得的，而且所探测到的辐射有其各不相同的分布。此外，还公开了其装置。 | ||||||
| 52 | 获得物品中边界的相衬图像的方法和设备 | CN96193783.1 | 1996-03-28 | CN1184862C | 2005-01-12 | 斯蒂芬·威廉·威尔金斯 |
| 一种获得物体中边界的相衬图象的方法，该边界表征折射率变化，该方法包括：利用穿过物体，具有垂直于该折射率变化方向的显著的传播向量分量，并且对于折射率的变化具有足够强的横向空间相干性的X-射线辐射的传播波前辐照该边界，以在该边界处沿X-射线辐射波前的定域传播方向产生可以探测的变化，该变化被菲涅耳衍射显现为对比度；和在该辐射横穿该边界并且从该物体出现之后，探测和记录至少一部分该辐射的波前的强度，该辐射以这样一种方式横穿该边界，使得可以在强度记录中将沿定域传播方向的该变化的效果观测为该的对比度，从而将这些变化记录为X-射线辐射强度的定域衰减或急剧变化，这一强度记录形成该边界的图象。 | ||||||
| 53 | 极细小物体的高分辨率X射线成像 | CN98803984.2 | 1998-04-08 | CN1252158A | 2000-05-03 | 斯蒂芬·威廉·威尔金斯 |
| 一种用于X射线成像的样品室(10),它包括形成一样品腔(12)的装置(11),以及装在该装置上的可被合适的入射束(5)激发产生X射线辐射(6)的物质体(20),该样品室如此设置,使得在使用时,至少一部分所述X射线辐射穿过所述样品腔(12)而照射到其中的样品(7),然后穿出所述装置接受探测(35)。 | ||||||
| 54 | 在相位衬比成象中的相位恢复 | CN97181553.4 | 1997-12-24 | CN1247687A | 2000-03-15 | 斯蒂芬·威廉·威金斯; 安德鲁·威斯利·斯蒂份森; 皮特·安德鲁·波加尼; 蒂莫尔·古雷耶夫 |
| 一种用于获得在贯穿辐射入射到目标上时由目标引入的相位变化图象的方法,它包括:用具有高横向空间相关性的贯穿辐射照射目标;在辐射从目标射出后,在探测器装置处接收至少一部分所述辐射,由此获得并存储至少两个所接收辐射的强度记录,其每一个都包括有预定间隔的强度值。利用这些值,推导出定义处于贯穿辐射中目标所引入的相位变化图象的数值阵列。这些强度记录是在辐射从目标射出后于相同有限距离处获得的，而且所探测到的辐射有其各不相同的分布。此外。还公开了其装置。 | ||||||
| 55 | 具有弯曲的干涉光栅的设备和X射线相衬成像装置和方法 | CN201710024213.1 | 2017-01-13 | CN106974667A | 2017-07-25 | B.鲍曼; A.克雷默; T.韦伯; J.赛德勒 |
| 本发明涉及具有弯曲的干涉光栅的设备和X射线相衬成像装置和方法。本发明说明了一种用于干涉型X射线成像的设备（1），所述设备（1）具有干涉光栅（2）和框式的紧固装置（3），其中所述干涉光栅（2）以能板簧式地弯曲的方式来构造并且被布置在所述紧固装置（3）的对置的支撑装置（4）的凹槽（5）中，使得所述干涉光栅（2）在一维上凹面地弯曲或者在一维上凸面地弯曲。由此可以简单地并且可逆地使所述干涉光栅（2）弯曲。本发明也说明了一种X射线相衬成像装置和一种用于使得针对干涉型X射线成像的干涉光栅弯曲的方法。 | ||||||
| 56 | 具有即时相位步进的非平行光栅装置、X射线系统及使用 | CN201080055836.1 | 2010-12-03 | CN102656644B | 2016-11-16 | S·舒塞尔; G·福格特米尔 |
| 本发明总体涉及X射线图像采集技术。采用用于X射线图像采集的相称成像可以显著提高所采集图像中的结构的可见度。然而，可能仅在小的探测器区域获得相称信息，随后的图像采集要求个体相位步进状态，以允许X射线图像的重建。因此，提供了一种用于相称的光栅装置，该光栅装置可以允许在视场扫描期间的即时相位步进。根据本发明，提供了一种用于相称成像的光栅装置（1），该光栅装置包括第一光栅元件（8）和第二光栅元件（10）。第一光栅元件（8）和第二光栅元件（10）中的每个都包括沟槽结构。沟槽结构包括至少一个沟槽区域（9）和至少一个屏障区域（3）。至少一个沟槽区域（9）和至少一个屏障区域（3）至少局部被布置为平行。第一光栅元件（8）和第二光栅元件（10）被布置成使得第一光栅元件（8）的沟槽结构与第二光栅元件（10）的沟槽结构不平行，包括角度α。 | ||||||
| 57 | 包括采集和重建技术的、基于解谐配置的大型FOV相衬成像 | CN201480071793.4 | 2014-11-18 | CN105874323A | 2016-08-17 | P.巴图林; M.E.夏菲尔 |
| 本文公开方法和设备的实施方案，用以获得相衬数字成像系统(如塔尔博特?罗干涉测量系统)以及用于所述成像系统的方法，所述成像系统和方法可包括：用于射线照相成像的X射线源和X射线检测器；波束成形组件；X射线光栅干涉仪，其包括相位光栅(G1)和分析器光栅(G2)；以及X射线检测器；其中源光栅(G0)、所述相位光栅(G1)和所述分析器光栅(G2)是解谐的，并且获得多个不相关参考图像以便利用所述解谐系统进行成像处理。所述相位光栅(G1)、所述分析器光栅(G2)以及所述X射线检测器彼此之间具有保持固定的相对位置，并且所述干涉仪和待成像样本相对于彼此进行扫描。由于所述干涉仪是解谐的，因此网纹状条纹得以形成在所述检测器上，并且所述干涉仪的扫描范围覆盖所述网纹状条纹图样的整个周期。 | ||||||
| 58 | 成像系统和成像方法 | CN201480059289.2 | 2014-10-22 | CN105682555A | 2016-06-15 | O.海德 |
| 本发明涉及一种成像系统，其带有用于发出辐射的辐射源、具有规则的探测器元件阵列的辐射探测器和具有规则重复的图案的荫罩。所述荫罩和所述辐射探测器这样布置，以便在所述探测器位置处通过所述辐射产生所述荫罩的图案的投影。所述图案的无失真投影的空间重复长度不同于所述探测器元件阵列的空间重复长度的二倍。本发明还涉及一种成像方法，其中应用根据前述权利要求之一所述的成像系统，以借助辐射探测器来测量由待检查对象造成的、所述荫罩的图案在辐射探测器的位置处的投影的位移。 | ||||||
| 59 | 具有增大的动态范围的微分相衬成像 | CN201280007951.0 | 2012-02-02 | CN103348415B | 2016-05-25 | T·克勒; E·勒斯尔 |
| 本发明涉及X射线微分相衬成像。为了增强通过相衬成像采集的信息，用于X射线微分相衬成像的分析光栅(34)被提供有吸收结构(48)。后者包括第一多个(50)第一区域(52)和第二多个(54)第二区域(56)，所述第一区域(52)具有第一X射线衰减，所述第二区域(56)具有第二X射线衰减。所述第二X射线衰减小于所述第一X射线衰减，并且以交替的方式周期性地布置所述第一区域和第二区域。第三多个(58)第三区域(60)被提供有第三X射线衰减，其在从所述第二X射线衰减到所述第一X射线衰减的范围之内，其中，每第二个所述第一区域或每第二个所述第二区域被一个所述第三区域取代。 | ||||||
| 60 | 用于谱滤波的基于泰伯效应的近场衍射 | CN201480019691.8 | 2014-11-12 | CN105103238A | 2015-11-25 | E·勒斯尔; T·克勒 |
| 本发明涉及一种用于对X射线射束(B)进行谱滤波的光栅布置和方法，所述光栅布置包括：色散元件(10)，其包括棱镜，所述棱镜被配置为使X射线射束(B)衍射成包括第一方向(D1)的第一射束分量(BC1)和包括第二方向(D2)的第二射束分量(BC2)，所述第二方向相对于所述第一方向倾斜；第一光栅(20)，其被配置为生成第一射束分量(BC1)的第一衍射图样(DP1)和第二射束分量(BC2)的第二衍射图样(DP2)，所述第二衍射图样(DP2)相对于所述第一衍射图样(DP1)移位；以及第二光栅(30)，其包括至少一个开口(31)，所述至少一个开口沿从第一衍射图样(DP1)或第二衍射图样(DP2)的强度的最大值(MA)到最小值(MI)的线(d)对准。 | ||||||
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