首页 / 国际专利分类库 / 化学;冶金 / 有机高分子化合物;其制备或化学加工;以其为基料的组合物 / 加工;配料的一般工艺过程;不包括在C08B,C08C,C08F,C08G或C08H小类中的后处理 / 仅使用高分子主链形成含硅的,有或没有硫、氮、氧或碳键的反应得到的高分子化合物为特征的;此类聚合物的衍生物
序号 专利名 申请号 申请日 公开(公告)号 公开(公告)日 发明人
241 폴리에스테르의 제조 방법 KR1020067023010 2005-03-31 KR1020070012447A 2007-01-25 유,헹펭; 샨,잰휘; 딩-리,슈지수; 시앙,종; 곤잘레즈,엘리조비.; 니서,마크오.
The present invention relates to a process for making a polyester where a dianhydride is reacted with a diol. The resulting polyester can be further reacted with a compound selected from aromatic oxides, aliphatic oxides, alkylene carbonates, alcohols, and mixtures thereof. ® KIPO & WIPO 2007
242 양성자 전도성막, 그의 제조 방법 및 그것을 이용한 연료전지 KR1020057014496 2004-02-05 KR1020050098305A 2005-10-11 노무라,시게키; 야마우치,켄지; 코마,사토시; 스기모토,토시야; 하세가와,타이라
A method for producing a proton conducting film which has a crosslinking structure with silicon-oxygen covalent bonds and has, in the film, a crosslinking structure containing a sulfonic acid group, represented by the following formula: (1), characterized in that it comprises a first step of preparing a mixture comprising a mercapto group containing oligomer (A) which contains a plurality of mercapto groups and has a reactive group capable of forming an Si-O-Si bonding through a condensation reaction, a second step of shaping said mixture into a film form, a third step of effecting the condensation reaction of the mixture in a film form in the presence of a catalyst, to form a crosslinked gel, and a forth step of converting the mercapto group in the film to a sulfonic acid group by oxidation; a proton conducting film produced by the method; and a solid polymer type fuel cell using the proton conducting film. The proton conducting film exhibits high ion conductivity, is excellent in dimensional stability at a high temperature, and is capable of functioning with stability even at a high temperature.
243 수지 입자 및 그 제조 방법 KR1020127033851 2011-05-27 KR101843213B1 2018-03-28 하라다히데오; 노세겐타; 혼다마사루; 이와와키에이지; 다나카다카히로
액상또는초임계상태의유체를사용하여얻어지는, 입도분포가충분히좁고, 또한저온용융성이우수한수지입자를제공한다. 본발명은수지 (a) 를함유하는미립자 (A) 가수지 (b) 를함유하는수지입자 (B) 의표면에고착되거나또는피막화되어이루어지는수지입자 (C) 이며, 미립자 (A) 의유리전이온도또는융점미만의온도에있어서의, 액상또는초임계상태의이산화탄소 (X) 에의한미립자 (A) 의팽윤도가 16 % 이하이고, 수지 (a) 가구성단위로서, 용해도파라미터 [SP 값 : (cal/㎤)] 가 7 ∼ 9 인비결정성비할로겐비닐모노머 (m1) 을 0.1 ∼ 50 중량% 함유하는수지입자 (C) 이다.
244 중공 이형 미립자, 그 제조방법, 중공 이형 미립자를 함유하는 화장품 원료 및 수지 조성물 KR1020117005219 2010-04-27 KR101564307B1 2015-10-29 아라타니사토시; 이시카와후미요시; 사이토치아키
수지성형체에있어서는전체광선투과율및 광확산성등의광학특성의가일층의향상, 또화장품에있어서는사용감, 소프트포커스성및 지속성등의가일층의향상등, 최근요구의고도화에충분히대응할수 있는중공이형미립자, 그제조방법및 그용도를제공한다. 표면(11)에복수의오목부(21)를가지고있고, 내부(31)에하나의중공부(41)를가지고있어서, 표면(11)과중공부(41)가장경(L) 방향을따르는 1개의클레프트(51)를통해서소통되고있는전체로서방추형상의중공이형미립자로서, 장경(L)의평균값이 0. 1∼30㎛, 단경(L)의평균값/장경(L)의평균값 = 0. 3∼0. 8인것을특징으로하는중공이형미립자를사용하였다.
245 가교결합성 실리콘 조성물로 제조된 다공성 막 KR1020157007561 2013-08-14 KR1020150044962A 2015-04-27 할바흐토비아스; 크레머젠스
본발명은가교결합성실리콘조성물(S)로제조된얇은다공성막의제조방법으로서, 제1 단계에서유화제(E) 및임의로용매(L)의존재하에서기공형성제(P)를이용하여실리콘조성물(S)로부터유화액을형성하고, 제2 단계에서유화액이형성되고, 존재한다면, 용매(L)를증발시키고, 제3 단계에서유화액이가교결합되고, 제4 단계에서가교결합된막으로부터기공형성제(P)가제거되는것인방법에관한것이다. 본발명은추가로상기방법에따라제조될수 있는막 및혼합물분리를위해서, 반창고에서, 직물의발수성및 통기성층으로서, 또는포장재로서의이의용도에관한것이다.
246 수지 입자 및 그 제조 방법 KR1020127033851 2011-05-27 KR1020130118748A 2013-10-30 하라다히데오; 노세겐타; 혼다마사루; 이와와키에이지; 다나카다카히로
액상 또는 초임계 상태의 유체를 사용하여 얻어지는, 입도 분포가 충분히 좁고, 또한 저온 용융성이 우수한 수지 입자를 제공한다. 본 발명은 수지 (a) 를 함유하는 미립자 (A) 가 수지 (b) 를 함유하는 수지 입자 (B) 의 표면에 고착되거나 또는 피막화되어 이루어지는 수지 입자 (C) 이며, 미립자 (A) 의 유리 전이 온도 또는 융점 미만의 온도에 있어서의, 액상 또는 초임계 상태의 이산화탄소 (X) 에 의한 미립자 (A) 의 팽윤도가 16 % 이하이고, 수지 (a) 가 구성 단위로서, 용해도 파라미터 [SP 값 : (cal/㎤) 1/2 ] 가 7 ∼ 9 인 비결정성 비할로겐 비닐 모노머 (m1) 을 0.1 ∼ 50 중량% 함유하는 수지 입자 (C) 이다.
247 중공 이형 미립자, 그 제조방법, 중공 이형 미립자를 함유하는 화장품 원료 및 수지 조성물 KR1020117005219 2010-04-27 KR1020120022696A 2012-03-12 아라타니사토시; 이시카와후미요시; 사이토치아키
수지 성형체에 있어서는 전체 광선투과율 및 광확산성 등의 광학특성의 가일층의 향상, 또 화장품에 있어서는 사용감, 소프트 포커스성 및 지속성 등의 가일층의 향상 등, 최근 요구의 고도화에 충분히 대응할 수 있는 중공 이형 미립자, 그 제조방법 및 그 용도를 제공한다. 표면(11)에 복수의 오목부(21)를 가지고 있고, 내부(31)에 하나의 중공부(41)를 가지고 있어서, 표면(11)과 중공부(41)가 장경(L 1 ) 방향을 따르는 1개의 클레프트(51)를 통해서 소통되고 있는 전체로서 방추형상의 중공 이형 미립자로서, 장경(L 1 )의 평균값이 0. 1?30㎛, 단경(L 2 )의 평균값/장경(L 1 )의 평균값 = 0. 3?0. 8인 것을 특징으로 하는 중공 이형 미립자를 사용하였다.
248 실리콘 자가 접착제, 이의 제조 방법, 이를 사용하는 착물 및 이의 용도 KR1020107013895 2008-12-23 KR1020100110792A 2010-10-13 프랑스쟝마르크; 더피숀
본 발명은 원래 특성들에 대해 변형된 접착 특성들을 가진 가교 실리콘 오일(들)을 기초로 한 접착 방지 실리콘 조성물로부터 얻은 접착 방지 코팅제를 포함하는 기층을 제조하기 위한 방법, 접착 방지 실리콘 조성물로 적어도 부분적으로 코팅된 기층 및 용도에 관한 것으로, 기층은 접착 방지 실리콘 코팅제로 적어도 부분적으로 코팅되고 접착 방지 실리콘 코팅제는 선택적으로 도핑된 질소 분위기 또는 선택적으로 도핑된 이산화 탄소 분위기에서 대략 대기압에서 차가운 플라즈마 처리된다.
249 콘택트렌즈 재료의 제조 방법 및 소프트 콘택트렌즈의 제조방법 KR1020087004341 2006-08-30 KR1020080049021A 2008-06-03 이마푸쿠,수구루
Disclosed is a contact lens material which has a flat and smooth surface and is excellent in water wettability and durability. Also disclosed is a method for producing a contact lens material having a contact lens base and a coating film formed on at least a part of the base surface, wherein the coating film is formed by subjecting the contact lens base to a plasma polymerization process in a mixed gas atmosphere containing methane and wet air, and then subjecting the base to a plasma process in a non-polymerizable gas atmosphere. Further disclosed is a method for producing a soft contact lens wherein a soft contact lens is obtained by causing the contact lens material produced by the above-described method to contain water.
250 양성자 전도성막, 그의 제조 방법 및 그것을 이용한 연료전지 KR1020057014496 2004-02-05 KR100701549B1 2007-03-30 노무라,시게키; 야마우치,켄지; 코마,사토시; 스기모토,토시야; 하세가와,타이라
고이온 전도성을 갖고, 고온 치수 안정성이 우수하며, 게다가 고온에서도 안정적으로 기능하는 우수한 양성자 전도성막, 그의 제조 방법 및 그것을 이용한 고체 고분자형 연료 전지를 제공한다. 즉, 본 발명은 규소-산소 공유 결합에 의한 가교 구조를 갖고, 또한 막 중에 하기 화학식 1로 표시되는 술폰산 함유 가교 구조를 갖는 양성자 전도성막의 제조 방법에 있어서, 복수의 머캅토기를 갖고, 또한 축합 반응에 의해 Si-0-Si 결합 형성 가능한 반응기를 갖는 머캅토기 함유 올리고머 (A)를 포함하는 혼합물을 제조하는 제1 공정, 상기 혼합물을 막상으로 성형하는 제2 공정, 상기 막상물을 촉매의 존재하에서 축합 반응시켜 가교 겔을 얻는 제3 공정, 및 막 중의 머캅토기를 산화함으로써 술폰산기로 변환시키는 제4 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 양성자 전도성막의 제조 방법, 그 방법으로 얻어지는 양성자 전도성막, 및 이를 이용한 연료 전지이다. <화학식 1> 양성자 전도성막, 고분자형 연료전지, 머캅토기, 축합 반응, 머캅토기 함유 올리고머
251 중합체 기지상에 베리어코팅을 증착하는 방법 및 그베리어코팅을 포함하는 조성물 KR1020037013115 2002-02-19 KR1020040068462A 2004-07-31 웰치로날드에프.주니어; 웨스트게리에이.; 사코마노로버트제이.
본 발명은 기지의 화학적 저항성을 개선하기 위하여 중합체 기지상에 파릴렌 중합체 베리어코팅을 증착하는 방법에 관한 것이다. 상기 방법은, 어떠한 오염물질을 제거하기 위해 상기 기지의 표면부분을 처리하는 단계, 화학적 증착을 경유하여 상기 오염물질이 제거된 표면부분에 적어도 하나의 파릴렌 중합체층을 증착하는 단계, 그리고 상기 각 파릴렌 중합체층을 충분한 시간동안 어닐링하는 단계를 포함한다. 본 발명은 또한 상기 중합체 기지의 표면에 결합된 적어도 하나의 파릴렌 중합체층을 포함하는 중합체 기지상에서의 베리어코팅용 조성물에 관한 것이다. 상기 기지는 실리콘고무 키패드일 수 있다.
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