| 序号 | 专利名 | 申请号 | 申请日 | 公开（公告）号 | 公开（公告）日 | 发明人 |
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| 1 | 用于气相沉积的氟基表面处理剂和使用该表面处理剂通过气相沉积进行修饰得到的制品 | CN201210599226.9 | 2012-11-30 | CN103146305B | 2017-03-01 | 山根祐治; 小池则之 |
| 本发明公开了一种用于气相沉积的氟基表面处理剂，其包含(A)使用含氟氧化烯基团聚合物改性的含可水解基团的硅烷，和/或部分水解缩合物，和(B)重均分子量大于组分(A)的含氟氧化烯基团的聚合物，其中组分(A)和(B)以6∶4到9∶1的重量比混合。 | ||||||
| 2 | 包含热塑性缩聚物和超分子聚合物的混合物的组合物和制备方法 | CN201180050609.4 | 2011-10-18 | CN103168079A | 2013-06-19 | Y.戴拉尔; A.迪弗雷内; S.德维姆; N.迪福尔; J-L.库蒂里耶; B.范黑梅尔里克; M.希达尔戈 |
| 本发明涉及组合物，其包含：(i)0.1-49重量份的至少一种热塑性缩聚物；和(ii)51-99.9重量份的至少一种超分子聚合物，其可以通过至少一种携带第一和第二官能团的至少三官能的化合物(A)与以下物质的反应获得：至少一种化合物(B)，其一方面携带至少一个可以与(A)的第一官能团反应的反应基团，和另一方面，至少一个缔合基团；和至少一种至少双官能的化合物(C)，其官能团可以与化合物(A)的第二官能团反应以形成酯、硫酯或者酰胺桥键。 | ||||||
| 3 | 用于气相沉积的氟基表面处理剂和使用该表面处理剂通过气相沉积进行修饰得到的制品 | CN201210599226.9 | 2012-11-30 | CN103146305A | 2013-06-12 | 山根祐治; 小池则之 |
| 本发明公开了一种用于气相沉积的氟基表面处理剂，其包含(A)使用含氟氧化烯基团聚合物改性的含可水解基团的硅烷，和/或部分水解缩合物，和(B)重均分子量大于组分(A)的含氟氧化烯基团的聚合物，其中组分(A)和(B)以6∶4到9∶1的重量比混合。 | ||||||
| 4 | 脲基压敏粘合剂 | CN200880125684.0 | 2008-12-12 | CN101925664A | 2010-12-22 | 奥德蕾·A·舍曼; 文迪·J·温克勒; 斯科特·M·塔皮奥; 罗伯特·J·路透; 詹姆斯·P·迪齐奥 |
| 本发明公开了由具有所述通式X-B-X的反应性低聚物的聚合反应制备的非有机硅脲基粘合剂，其中X为烯键式不饱和基团，且B为不含有机硅但含脲基的单元。所述反应性低聚物可通过采用碳酸二芳基酯的扩链反应，然后通过封端反应来由聚胺制备。可使用本发明所公开的非有机硅脲基粘合剂制备粘合剂制品，包括光学粘合剂制品。 | ||||||
| 5 | 窄多分散性和单分散性阴离子低聚物及其应用,制剂和制备方法 | CN93100245.1 | 1993-01-09 | CN1049670C | 2000-02-23 | A·D·卡丁; W·A·福德思; M·J·木林斯; T·A·钱伯林; M·J·法齐奥 |
| 本发明的窄的多分散或单分散低聚物为具有3-50个重复单元的聚脲、聚碳酸酯、聚酯或聚酰胺。这些低聚物为水溶性的，最好具有刚性骨架，具有通过羰基连接基团偶联的重复单元，具有阴离子基团，主要显示线性几何结构，以致在水介质中在阴离子基团之间存在规则间隔，且该低聚物为药学上可接受的。窄的多分散或单分散低聚物可用于治疗和/或诊断AIDS和/或ARC或HSV。 | ||||||
| 6 | 聚脲纳米颗粒作为聚氨酯材料中的性能调节剂的用途 | CN201380038193.3 | 2013-06-28 | CN104640893A | 2015-05-20 | S.A.沃特斯; C.I.林德塞 |
| 适合于改进聚氨酯材料机械性能的纳米尺寸的聚脲颗粒或聚脲颗粒分散液，所述颗粒具有至少50nm-700nm的纳米尺寸范围的最小当量直径大小、均匀的当量直径粒径分布、基于所述颗粒中脲+氨基甲酸酯键总量计算的氨基甲酸酯键的量<1%、和>100℃的玻璃态转变温度(Tg)，优选Tg>120℃，更优选>150℃，在第二加热循环中使用差示扫描量热计以20°每分钟加热至>220℃后测量。 | ||||||
| 7 | 制造聚脲颗粒的方法 | CN201180064765.6 | 2011-12-15 | CN103328522B | 2015-04-22 | S.A.沃特斯; C.I.林德赛 |
| 在溶剂介质中提供脲颗粒的方法，所述方法至少包括以下步骤：-提供至少一种溶于第一种溶剂的多异氰酸酯；-提供至少一种溶于第二种溶剂的异氰酸酯反应性多胺组分；-提供至少一种任选溶于第三种溶剂的异氰酸酯反应性单胺；-将任选溶于所述第三种溶剂的所述异氰酸酯反应性单胺与溶于所述第一种溶剂的所述多异氰酸酯混合和反应，由此提供溶于所述第一种溶剂和所述任选第三种溶剂的脲改性的多异氰酸酯，然后-将溶于所述第一种溶剂和所述任选第三种溶剂的所述脲改性的多异氰酸酯与溶于所述第二种溶剂的所述多胺组分混合和反应。 | ||||||
| 8 | 一种聚脲防水涂料及其制备、使用方法和聚脲树脂 | CN201410843526.6 | 2014-12-30 | CN104497825A | 2015-04-08 | 王永刚; 关有俊; 熊宸; 熊永强 |
| 本发明公开了一种聚脲防水涂料及其制备、使用方法和聚脲树脂，该聚脲防水涂料包括如下重量份的组分：聚天门冬氨酸酯聚脲树脂3.5-4.0份、防沉剂0.010-0.015份、钛白0.50-1.0份、滑石粉0.50-1.0份、分散剂0.010-0.015份、消泡剂0.010-0.015份、流平剂0.005-0.01份。本发明聚脲防水涂料采用聚天门冬氨酸酯聚脲树脂为基体组分，在防沉剂、钛白、滑石粉、分散剂、消泡剂和流平剂等组分的作用下，使得该聚脲防水涂料固含量高(固含量≥65％w/w)，稳定性好，而且VOC含量低，环保。 | ||||||
| 9 | 制造聚脲颗粒的方法 | CN201180064765.6 | 2011-12-15 | CN103328522A | 2013-09-25 | S.A.沃特斯; C.I.林德赛 |
| 在溶剂介质中提供脲颗粒的方法，所述方法至少包括以下步骤：提供至少一种溶于第一种溶剂的多异氰酸酯组分；提供至少一种溶于第二种溶剂的异氰酸酯反应性多胺组分；提供至少一种任选溶于第三种溶剂的异氰酸酯反应性单胺；通过混合溶于所述第一种溶剂的所述多异氰酸酯组分、溶于所述第二种溶剂的所述多胺组分和任选溶于所述第三种溶剂的所述单胺，使所述多异氰酸酯组分、所述多胺组分和所述单胺反应，由此提供分散在溶剂介质中的脲颗粒，所述溶剂介质包含所述第一种溶剂、所述第二种溶剂和任选所述第三种溶剂，由此所述单胺为可溶于所述溶剂介质的单胺。 | ||||||
| 10 | 高官能度高度支化的聚脲 | CN200580004445.6 | 2005-02-07 | CN1918212A | 2007-02-21 | B·布鲁赫曼; P·鲁道夫; J-F·斯顿培 |
| 本发明涉及一种制备高官能度高度支化的聚脲的方法。一种或多种脲被一种或多种具有至少两个伯和/或仲氨基的胺转化。至少一种胺包含至少三个伯和/或仲氨基。 | ||||||
| 11 | 一种离子液体催化CO2和二胺制备聚脲的方法 | CN201610321642.0 | 2016-05-16 | CN105860059A | 2016-08-17 | 邓友全; 王培学; 李庆贺; 刘士民; 何昱德; 卢六斤; 马祥元 |
| 本发明公开了一种离子液体催化CO2和二胺制备聚脲的方法。本发明以CO2和胺为原料，在离子液体催化剂和极性有机溶剂的存在下进行羰基化制备聚脲?。在优化的反应条件下，聚脲的收率在95%以上，且离子液体不经任何处理即可重复使用。本发明具有反应压力低，时间短，离子液体易于分离，且重复使用性好等优点，具有很强的实际应用价值。 | ||||||
| 12 | 一种高分子聚合物缓释氮肥及其制备方法 | CN201410626183.8 | 2014-11-10 | CN104446675A | 2015-03-25 | 陈庆; 李兴文 |
| 本发明涉及一种缓释高分子聚合物氮肥及其制备方法，具体讲是将草酸与氨基脲进行缩聚反应，得到聚草酸氨基脲，经造粒干燥得到一种新型缓释聚合物氮肥，该氮肥具有肥效释放稳定，肥效高，利用率高，易降解，能改善土壤环境的优点。 | ||||||
| 13 | 具有末端氨基的聚合物及其作为锌及锌合金电沉积浴的添加剂的应用 | CN201080037084.6 | 2010-09-03 | CN102482417B | 2015-01-14 | 海科·布伦纳; 拉尔斯·科尔曼; 埃伦·哈比格; 比约恩·丁沃斯; 卢卡斯·贝德尔尼克 |
| 描述了用于电沉积锌或锌合金层的电解质浴的添加剂。该添加剂是具有末端氨基基团的聚合物。这些聚合物可通过至少一个二氨基化合物(具有两个叔氨基基团)与至少一个二(拟)卤素化合物反应得到，其中以化学计量过量方式使用二氨基化合物。特别是，添加剂实现了在电沉积锌或锌合金层中极少形成气泡和仅仅少量的烧焦以及均匀分布的层厚度。 | ||||||
| 14 | 脲基压敏粘合剂 | CN200880125684.0 | 2008-12-12 | CN101925664B | 2013-05-29 | 奥德蕾·A·舍曼; 文迪·J·温克勒; 斯科特·M·塔皮奥; 罗伯特·J·路透; 詹姆斯·P·迪齐奥 |
| 本发明公开了由具有所述通式X-B-X的反应性低聚物的聚合反应制备的非有机硅脲基粘合剂，其中X为烯键式不饱和基团，且B为不含有机硅但含脲基的单元。所述反应性低聚物可通过采用碳酸二芳基酯的扩链反应，然后通过封端反应来由聚胺制备。可使用本发明所公开的非有机硅脲基粘合剂制备粘合剂制品，包括光学粘合剂制品。 | ||||||
| 15 | 具有末端氨基的聚合物及其作为锌及锌合金电沉积浴的添加剂的应用 | CN201080037084.6 | 2010-09-03 | CN102482417A | 2012-05-30 | 海科·布伦纳; 拉尔斯·科尔曼; 埃伦·哈比格; 罗兰·沃格尔; 比约恩·丁沃斯; 卢卡斯·贝德尔尼克 |
| 描述了用于电沉积锌或锌合金层的电解质浴的添加剂。该添加剂是具有末端氨基基团的聚合物。这些聚合物可通过至少一个二氨基化合物(具有两个叔氨基基团)与至少一个二(拟)卤素化合物反应得到，其中以化学计量过量方式使用二氨基化合物。特别是，添加剂实现了在电沉积锌或锌合金层中极少形成气泡和仅仅少量的烧焦以及均匀分布的层厚度。 | ||||||
| 16 | 高度支化的高官能度聚脲 | CN200480039463.3 | 2004-11-04 | CN100489010C | 2009-05-20 | B·布鲁赫曼; J-F·斯顿搏; E·瓦格纳 |
| 本发明涉及一种制备高度支化的高官能度聚脲的方法。所述方法包括使一种或多种碳酸酯与一种或多种具有至少两个伯和/或仲氨基的胺反应。至少一种胺具有至少三个伯和/或仲氨基。 | ||||||
| 17 | 高度支化的高官能度聚脲 | CN200480039463.3 | 2004-11-04 | CN1902259A | 2007-01-24 | B·布鲁赫曼; J-F·斯顿搏; E·瓦格纳 |
| 本发明涉及一种制备高度支化的高官能度聚脲的方法。所述方法包括使一种或多种碳酸酯与一种或多种具有至少两个伯和/或仲氨基的胺反应。至少一种胺具有至少三个伯和/或仲氨基。 | ||||||
| 18 | 低聚物及其用途和配方 | CN91105595.9 | 1991-07-08 | CN1051096C | 2000-04-05 | 阿兰D·卡盯; 里查德·L·节克逊; 米歇尔·J·木林斯 |
| 本发明优选的低聚物是数均分子量小于10000的聚脲，聚碳酸酯，聚酯或聚酰胺。这些低聚物是可水溶的，具有刚性主链，具有由含阴离子基团的碳酰连接部分偶合的重复单位，其主要显示线性几何构型，因此，在水介质中，在阴离子基团之间存在规则的间距，并且，是药物可接受的。这些低聚物对于医治和/或诊断爱滋病和ARC是有用的。 | ||||||
| 19 | 窄多分散性和单分散性阴离子低聚物及其应用，制剂和制备方法 | CN93100245.1 | 1993-01-09 | CN1074437A | 1993-07-21 | A·D·卡丁; W·A·福德思; M·J·木林斯; T·A·钱伯林; M·J·法齐奥 |
| 本发明的窄的多分散或单分散低聚物为具有3—50个重复单元的聚脲、聚碳酸酯、聚酯或聚酰胺。这些低聚物为水溶性的，最好具有刚性骨架，具有通过羰基连接基团偶联的重复单元，具有阴离子基团，主要显示线性几何结构，以致在水介质中在阴离子基团之间存在规则间隔，且该低聚物为药学上可接受的。窄的多分散或单分散低聚物可用于治疗和/或诊断AIDS和/或ARC或HSV。 | ||||||
| 20 | 低聚物及其用途和配方 | CN91105595.9 | 1991-07-08 | CN1058959A | 1992-02-26 | 阿兰D·卡盯; 里查德·L·节克逊; 米歇尔·J·木林斯 |
| 本发明优选的低聚物是数均分子量小于10000的聚脲，聚碳酸酯，聚酯或聚酰胺。这些低聚物是可水溶的，具有刚性主链，具有由含阴离子基团的碳酰连接部分偶合的重复单位，其主要显示线性几何构型，因此，在水介质中，在阴离子基团之间存在规则的间距，并且，是药物可接受的。这些低聚物对于医治和/或诊断爱滋病和ARC是有用的。 | ||||||
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