1.一种金属/介质太赫兹空芯光纤，其特征在于采用内径为1 10 mm的介质管为空芯光~
纤的介质层，其外表面依次设有金属镀层和树脂保护层构成金属/介质太赫兹空芯光纤，所述介质管为太赫兹低吸收率的聚丙烯、聚四氟乙烯、聚丙乙烯或环烯烃共聚物管材；所述金属镀层为太赫兹波高反射率的银、铜或金的金属材料；所述树脂保护层为硅橡胶或丙烯酸树脂。
2.一种权利要求1所述金属/介质太赫兹空芯光纤的连续制备方法，其特征在于该方法具体包括下述步骤：
a步骤：对连续长度的介质管进行清洗、干燥和等离子气体的预处理，将预b步骤：将预处理后的介质管持续通过动态液相化学沉积反应区，在介质管外表沉积金属镀层；
c步骤：将镀有金属层的介质管引入干燥区，干燥后在金属镀层外表面均匀涂敷粘性树脂胶液，固化后得到树脂保护层；
d步骤：去除介质管两端的封口并收卷，完成金属/介质太赫兹空芯光纤的制备。
3. 根据权利要求2所述金属/介质太赫兹空芯光纤的连续制备方法，其特征在于所述介质管为内径1 10 mm的聚丙烯、聚四氟乙烯、聚丙乙烯或环烯烃共聚物管材，其壁厚为10~ ~
500 μm。
4.根据权利要求2所述金属/介质太赫兹空芯光纤的连续制备方法，其特征在于所述金属镀层的厚度为100 2000 nm；所述树脂保护层的厚度为100 2000 μm。
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5.根据权利要求2所述金属/介质太赫兹空芯光纤的连续制备方法，其特征在于所述等离子气体为氢气、氧气、氩气或氮气。
6.一种权利要求1所述金属/介质太赫兹空芯光纤的连续制备装置，其特征在于该装置由液相沉积金属反应单元、树脂涂敷单元和绕线盘组成，预处理后的介质管由导向轮依次进入液相沉积金属反应单元和树脂涂敷单元进行金属镀层的沉积和保护层的树脂涂敷，所述液相沉积金属反应单元包括：沉积反应腔体、干燥区、蠕动泵和反应液；所述树脂涂敷单元包括：树脂涂覆腔体和树脂固化区；所述介质管由导向轮送入液相沉积金属反应单元，在沉积反应腔体内与蠕动泵送入反应腔体的液相沉积溶液在介质管表面沉积金属粒子，形成金属镀层后送入干燥区进行热风干燥；所述树脂涂敷单元将送入的介质管在树脂涂覆腔体内使树脂胶液均匀涂敷在金属镀层表面，形成树脂保护层后送入树脂固化区，固化后的介质管由绕线盘收卷为金属/介质太赫兹空芯光纤，实现长度不限的金属/介质太赫兹空芯光纤的连续生产。
7.根据权利要求6所述金属/介质太赫兹空芯光纤的连续制备装置，其特征在于所述干燥区包括加热装置和通风装置，所述树脂固化区包括紫外固化装置、加热装置和通风装置。
8.根据权利要求6所述金属/介质太赫兹空芯光纤的连续制备装置，其特征在于所述沉积反应腔体和树脂涂覆腔体与介质管的接触区设有弹性压力缓冲的衬垫。