1.一种掩模组件制造方法，所述方法包括以下步骤：
准备掩模片和框架；
将所述掩模片拉伸并固定到所述框架；
将单位掩模固定在所述掩模片上；以及
在将所述单位掩模固定在所述掩模片上之后，通过去除所述掩模片的与所述单位掩模叠置的叠置部分来形成开口。
2.根据权利要求1所述的掩模组件制造方法，其中，
所述单位掩模包括：
单元区域，包括多个沉积开口；以及
保持区域，与所述单元区域相邻，并且
所述掩模片的所述开口与所述单元区域叠置。
3.根据权利要求2所述的掩模组件制造方法，所述方法还包括：
在所述掩模片中形成与所述单元区域叠置的预备开口，
其中，所述预备开口的尺寸小于所述开口的尺寸。
4.根据权利要求2所述的掩模组件制造方法，所述方法还包括：
通过去除所述掩模片的与所述单元区域叠置的第一部分的上表面的一部分来形成凹槽，
其中，所述凹槽的深度小于所述掩模片的与所述第一部分相邻的第二部分的厚度。
5.根据权利要求4所述的掩模组件制造方法，其中，形成所述开口的步骤包括去除所述掩模片的与所述凹槽叠置的部分。
6.根据权利要求1所述的掩模组件制造方法，所述方法还包括：
沿着所述掩模片的所述叠置部分的外线形成彼此分开布置的多个孔，
其中，所述多个孔均从所述掩模片的上表面朝向所述掩模片的下表面穿透所述掩模片。
7.根据权利要求1所述的掩模组件制造方法，所述方法还包括：
沿着所述掩模片的所述叠置部分的外线形成彼此分开布置的多个凹槽，其中，所述多个凹槽中的每个的深度均小于所述掩模片的厚度。
8.根据权利要求1所述的掩模组件制造方法，所述方法还包括：
沿着所述掩模片的所述叠置部分的外线形成凹槽，
其中，所述凹槽的深度小于所述掩模片的厚度。
9.根据权利要求8所述的掩模组件制造方法，其中，在平面上，所述凹槽具有闭合曲线形状。
10.根据权利要求1所述的掩模组件制造方法，其中，形成所述开口的步骤包括通过用激光照射所述掩模片的下表面来形成多个开口。
11.根据权利要求10所述的掩模组件制造方法，其中，形成所述多个开口的步骤还包括：
形成第一开口；以及
形成在一方向上与所述第一开口间隔开的第二开口。
12.根据权利要求10所述的掩模组件制造方法，其中，形成所述多个开口的步骤还包括：
在所述掩模片的边缘上形成第一开口；以及
在形成所述第一开口之后，形成与所述掩模片的中心部分相邻的第二开口。
13.一种掩模组件，所述掩模组件包括：
框架，包括框架开口；
掩模片，覆盖所述框架开口，并且包括开口；以及
多个单位掩模，均包括：单元区域，与所述开口叠置；以及保持区域，与所述单元区域相邻，并且通过多个焊接点与所述掩模片结合，
其中，所述掩模片的限定所述开口的内表面包括至少一个突起。
14.根据权利要求13所述的掩模组件，其中，
所述至少一个突起包括多个突起，并且
在平面上，所述多个突起沿着所述内表面彼此间隔开。
15.一种掩模组件，所述掩模组件包括：
框架，包括框架开口；
掩模片，覆盖所述框架开口；以及
多个单位掩模，均包括：单元区域，包括多个沉积开口；以及保持区域，与所述单元区域相邻，并且通过多个焊接点与所述掩模片结合，
其中，所述掩模片包括：第一部分，完全覆盖所述多个沉积开口中的至少一部分沉积开口；以及第二部分，与所述第一部分相邻。
16.根据权利要求15所述的掩模组件，其中，所述掩模片的所述第一部分的厚度小于所述第二部分的厚度。
17.根据权利要求15所述的掩模组件，其中，
所述掩模片包括沿着所述掩模片的所述第一部分与所述第二部分之间的边界布置的多个孔，并且
所述多个孔中的每个的深度等于所述掩模片的厚度。
18.根据权利要求15所述的掩模组件，其中，
所述掩模片包括沿着所述掩模片的所述第一部分与所述第二部分之间的边界的凹槽，并且
所述凹槽的深度小于所述掩模片的厚度。
19.根据权利要求18所述的掩模组件，其中，所述凹槽形成在所述掩模片的与所述多个单位掩模结合的上表面中。
20.根据权利要求15所述的掩模组件，其中，
所述掩模片包括在所述掩模片的所述第一部分中的多个预备开口，并且所述多个预备开口中的每个的尺寸小于所述单元区域的尺寸。