1.一种含氨基酸的半导体芯片清洗液，其特征在于，按照重量份计算，包括如下组分：
其中，所述的含巯基脯氨酸为4‑巯基脯氨酸、1‑((2S)‑2‑甲基‑3‑巯基‑1‑氧代丙基)‑L‑脯氨酸、N‑3‑乙酰巯基‑2‑甲基丙酰基‑L‑脯氨酸中的一种或几种；
所述的氨基酸及其衍生物为色氨酸、丝氨酸、酪氨酸、蛋氨酸、天冬酰胺、谷氨酰胺、苏氨酸、赖氨酸、精氨酸中的一种或几种；
所述的醇胺为含氨基酸的醇胺。
2.根据权利要求1所述的含氨基酸的半导体芯片清洗液，其特征在于：
所述的无机碱为氢氧化钾、氢氧化钠、氢氧化锂、氢氧化钡、氢氧化镁、氢氧化铯中的一种；
所述的亚砜为二甲基亚砜、二乙基亚砜、二丁基亚砜、亚砜基亚砜、四亚甲基亚砜中的一种或几种。
3.根据权利要求1所述的含氨基酸的半导体芯片清洗液，其特征在于：
所述的醇胺为rac‑苏氨酸‑3‑壬胺‑2‑醇、rac‑苏氨酸‑3‑十二烷‑2‑醇、rac‑苏氨酸‑3‑己烷‑2‑醇、rac‑苏氨酸‑3‑十四烷‑2‑醇中的一种或几种。
4.根据权利要求1所述的含氨基酸的半导体芯片清洗液，其特征在于：
所述的含巯基脯氨酸为4‑巯基脯氨酸。
5.根据权利要求3所述的含氨基酸的半导体芯片清洗液，其特征在于：
所述的醇胺为rac‑苏氨酸‑3‑壬胺‑2‑醇。
6.根据权利要求2所述的含氨基酸的半导体芯片清洗液，其特征在于：
所述的亚砜为亚砜基亚砜。
7.根据权利要求2所述的含氨基酸的半导体芯片清洗液，其特征在于：
所述的无机强碱为氢氧化铯。
8.一种权利要求1‑7任一项所述的含氨基酸的半导体芯片清洗液的制备方法，其特征在于包含以下步骤：
步骤1：将相应份数的无机碱溶于超纯水中搅拌均匀，制备得到碱溶液A；
步骤2：将含巯基脯氨酸、氨基酸及其衍生物、醇胺按重量比溶于亚砜中，混合均匀，得到混合溶液B；
步骤3：将步骤1所制得的碱溶液A加入步骤2所制得的混合溶液B中，混合均匀，室温搅拌即得到所述含氨基酸的清洗液。
9.一种权利要求1‑7任一项所述的含氨基酸的半导体芯片清洗液的清洗方法，其特征在于包含以下步骤：
步骤1：将所述含氨基酸的清洗液用超纯水稀释3‑10倍，然后使用该氨基酸的清洗液水溶液在30‑50℃下浸泡半导体晶圆，浸泡时间为15‑30min，得到浸泡后半导体晶圆；
步骤2：将所述浸泡后半导体晶圆放入超纯水中冲洗两次，即完成半导体晶圆的清洗处理。
10.一种权利要求1‑7任一项所述的含氨基酸的半导体芯片清洗液在于半导体晶圆清洗中的用途。