| 序号 | 专利名 | 申请号 | 申请日 | 公开（公告）号 | 公开（公告）日 | 发明人 |
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| 1 | 一种具有除氯净水及抑菌清洗去污功能的设备 | CN202020286680.9 | 2020-03-10 | CN212610098U | 2021-02-26 | 蒲勇; 肖模明 |
| 本实用新型提供一种具有除氯净水及抑菌清洗去污功能的设备。所述具有除氯净水及抑菌清洗去污功能的设备包括切换阀、除氯净水器、抑菌清洗器；切换阀，所述切换阀安装在水龙头出水口；除氯净水器和抑菌清洗器，所述除氯净水器和抑菌清洗器分别安装在切换阀的两侧，除氯净水器和抑菌清洗器内分别安装有除氯净水滤芯和抑菌清洗去污功能材料内芯，除氯净水器和抑菌清洗器均包括滤缸、内芯和出水嘴。本实用新型提供的具有除氯净水及抑菌清洗去污功能的设备具有成本低、操作方便、环保、安全健康的优点。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利 | ||||||
| 2 | 一种自清洗撕碎机 | CN201820541405.X | 2018-04-17 | CN208275547U | 2018-12-25 | 赵其丙 |
| 本实用新型公开了一种自清洗撕碎机，属于破碎机技术领域。它包括撕碎机本体，撕碎机本体上设有进料口和出料口，还包括清洗机构，所述清洗机构包括水箱、收集槽、动力泵及喷头，所述撕碎机本体的侧边设水箱，水箱中盛装有清洗液，底部设收集槽，动力泵通过水管连接水箱、喷头，其中撕碎机本体的底板上设有若干导水孔，出料口上设密封门。该撕碎机具有的撕碎机本体在侧面安装一个水箱，通过动力泵将清洗液送到进料口，喷头采用对面交叉式，无死角对刀具以及箱体内壁喷射清洗溶液，清洗的过程中刀具空转，出料口保持关闭状态，防止清洗后的溶液到处流动；打开废液排放阀，清洗后的废水排放到指定区域不污染环境。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利 | ||||||
| 3 | 原细胞离子转换喷雾器 | CN201420714752.X | 2014-11-25 | CN204261064U | 2015-04-15 | 黄育鑫; 戚顺英 |
| 本实用新型公开了一种原细胞离子转换喷雾器，它涉及环保产品技术领域。它包括外容器、内胆、喷头和滤芯，外容器内部设置有内胆，内胆内设置有多个滤芯，外容器顶部连接有喷头，喷头通过盘式过滤器与内胆连接；所述的滤芯由上至下为离子交换树脂层、维生素C及干细胞生长因子层和抗菌陶瓷球层。本实用新型节能环保，经济效益好，方便耐用，实用性强。 | ||||||
| 4 | 一种便携式去油贴片 | CN201220115819.9 | 2012-03-26 | CN202685480U | 2013-01-23 | 王慧泽 |
| 一种便携式去油贴片，在圆形单面不干胶无纺布上，中间贴有圆形的不干胶塑料垫，其垫上贴有厚型脱脂棉无纺布，其布上浸有干洗剂，其干洗剂成分是四氯乙烯、三氯乙烯与硅胶和水合成，其比例4∶1∶1混合，最后制成便携式去油条贴片；把制成的便携式去油条贴折叠后装入真空塑料袋内封存，再把多个真空封存的便携式去油贴片放入硬质塑料合内进行保管待用和防止干洗剂的流出，此便携式去油条贴可供饭店、会馆、家庭和个人使用，达到去掉小面和油污的目的。 | ||||||
| 5 | 一种光学胶合镜片拆胶液及制备方法 | CN202311467199.4 | 2023-11-07 | CN118028068A | 2024-05-14 | 张维 |
| 本发明提供了一种光学胶合镜片拆胶液及制备方法，包括以下组成成分：乙醇、醚类化合物、果胶酶、醋酸正戊酯、甘露聚糖酶、聚二甲基硅氧烷、生物酶；优选的，以质量份数计，各组成成分的含量如下：乙醇37～45份、醚类化合物3～7份、果胶酶4～6份、醋酸正戊酯1.5～3.5份、甘露聚糖酶4～6份、聚二甲基硅氧烷1～3份、生物酶2～4份；优选的，所述醚类化合物和醋酸正戊酯的含量比为2:1；优选的，所述果胶酶和甘露聚糖酶的含量比为1:1。本发明所得产品能够快速的渗透到光学胶合件的胶水里使产品胶水失去粘性，其自然拆胶，剥离开；所的拆胶液为中性材料，拆胶的同时不伤基材和玻璃镀膜层。 | ||||||
| 6 | 碳化硅减薄清洗液 | CN202311858959.4 | 2023-12-30 | CN118028067A | 2024-05-14 | 戈烨铭; 何珂; 郑武 |
| 本发明公开了碳化硅减薄清洗液，该清洗液由以下原料制成：丙酮25％、苯甲醛15％、磷酸酯5.5％、异丙醇8％、钼酸钠2％、氢氧化钠0.4％、乙醇35％、改性偶联剂3％和改性疏水剂0.5％，通过锆类偶联剂、无水乙醇、3％的盐酸溶液和二盐基硬脂酸铅置于反应釜内，加热至70℃，并以45r/min的速率搅拌均匀；保持40r/min的速率搅拌，缓慢的向反应釜内添加促进剂，并搅拌均匀，得到改性偶联剂；促进剂为2‑乙基‑4‑甲基咪唑；将改性偶联剂进行蒸发，获得纯净改性偶联剂，在采用改性偶合剂的制备方法中，碳化硅减薄清洗液出现沉淀的时长最长，即，可存储时间长，更好的保证了碳化硅减薄清洗液的稳定性和存储时长。 | ||||||
| 7 | 一种液体硅胶溶解剂及其制备方法和应用 | CN202410037405.6 | 2024-01-10 | CN118006403A | 2024-05-10 | 陈腾飞; 王勇泉 |
| 本发明提供了一种液体硅胶溶解剂及其制备方法和应用。本发明的液体硅胶溶解剂，组分包括腰果酸、1‑萘磺酸、十甲基环戊硅氧烷和环丁砜，能将工件表面的液体硅胶先溶胀后溶解，能避免脱落下来的液体硅胶残留在工件孔隙内，后续只需直接漂洗，就可达到彻底清洁的效果。本发明还提供了液体硅胶溶解剂的制备方法。 | ||||||
| 8 | 半导体器件的形成方法及清洗液 | CN202211409031.3 | 2022-11-10 | CN118006401A | 2024-05-10 | 陈天锐 |
| 本发明提供一种清洗液及半导体器件的形成方法，其中清洗液用于清洗含钴表面，包括：第一清洗液，包括：螯合剂、缓蚀剂以及水；第二清洗液，包括季胺碱、氧化剂以及水；提升半导体器件的良率最终清洗的效果，具有较广泛的使用范围。 | ||||||
| 9 | 一种半导体氮化钛清洗液、其制备方法与应用 | CN202311784017.6 | 2023-12-22 | CN117925335A | 2024-04-26 | 侯军; 吕晶; 任浩楠; 陶爽; 赖鑫 |
| 本发明涉及一种半导体氮化钛清洗液，按照重量份计算，包括如下组分：清洗功能剂15‑37份；添加剂1‑6份；pH调节剂5‑12份；氧化剂3‑9份；超纯水60‑90份。本发明还公开了该清洗液的制备方法。本发明采用了全新清洗功能剂和添加剂，利用其复配协同作用，使单晶片表面污染物可被清洗彻底，能够从芯片上完全清洗去除，同时去除氮化钛，且该清洗液不会对芯片造成腐蚀。有机物和阳离子表面活性剂之间可以更好地包裹和吸附在颗粒和晶圆表面，更有效地破坏颗粒和晶圆表面间的范德华力，增强它们之间的静电排斥力，达到更好的颗粒去除效果。 | ||||||
| 10 | 1,5-二甲基-2-吡咯烷酮的制备方法及其应用 | CN202311866879.3 | 2023-12-28 | CN117886731A | 2024-04-16 | 柯卓; 高瑛; 李友 |
| 本发明公开了1,5‑二甲基‑2‑吡咯烷酮的制备方法及其应用，该方法包括S1：将糠醛、醇溶剂与固体酸催化剂混合，并在第一预定压力和第一预定温度进行反应，然后固液分离，得到母液；S2：将所述母液进行第一减压精馏，得到γ‑戊内酯；S3：将甲胺水溶液与所述γ‑戊内酯混合，在第二预定压力和第二预定温度下反应，然后固液分离，得到1,5‑二甲基‑2‑吡咯烷酮粗品；S4：将所述1,5‑二甲基‑2‑吡咯烷酮粗品进行第二减压蒸馏，得到1,5‑二甲基‑2‑吡咯烷酮成品。由此，该方法的制备成本相对较低，制备过程对人体和环境友好。将其应用在光刻胶清洗剂领域，可以降低成本，同时也有良好的去胶效果。 | ||||||
| 11 | 一种去除中药植株农残的洗涤剂及其制备方法 | CN202111628783.4 | 2021-12-28 | CN114262646B | 2024-04-16 | 孟庆文; 马俊国; 张为胜; 孟会影; 赵玥; 王艳 |
| 本申请公开了一种去除中药植株农残的洗涤剂及其制备方法，属于洗涤剂领域，按照重量份数计，洗涤剂包括以下原料制备而成：第一吸附剂40‑80份、钠盐0.5‑5份、第二吸附剂30‑50份、混合酶溶液1‑5份和水100‑250份；所述第一吸附剂包括蒙脱石和硅酸镁铝；所述第二吸附剂包括纳米氧化物和活性炭纤维。该洗涤剂能够将中药植株表面和内部的农药残留吸附并分解，吸附效果优异，降解后的产物无毒无害，不会污染环境，并且制备方法简单，易工业化生产。 | ||||||
| 12 | 一种长寿命芯片清洗液及其制备方法与用途 | CN202311699528.8 | 2023-12-12 | CN117821181A | 2024-04-05 | 侯军; 吕晶; 任浩楠; 王琅; 赖鑫 |
| 本发明涉及一种长寿命芯片清洗液按照重量份计算，包括如下组分：功能型添加剂0.01‑0.3份；过氧化氢7‑15份；有机酸0.01‑0.1份；季铵碱0.1‑1份；缓蚀剂0.5‑3份；超纯水60‑90份；本发明还公开了该清洗液的制备方法与用途。本发明中功能型添加剂由吸附性结构和螯合性结构复合而成，二者之间存在协同作用。吸附性结构通过捕获HOO‑来稳定碱性过氧化氢溶液，进而中断分解反应。螯合性结构可定向捕捉金属离子实现螯合金属离子，以防止金属离子加速清洗液中的过氧化氢的分解。本发明中的功能型添加剂不仅能有效清洗残余物，同时能够缓解碱性条件过氧化氢的自分解以及有效螯合金属离子，进而延长了清洗液的寿命。 | ||||||
| 13 | 表面处理组合物、表面处理方法和半导体基板的制造方法 | CN202311256598.6 | 2023-09-27 | CN117778117A | 2024-03-29 | 德岛荣至; 吉野努 |
| 本发明为表面处理组合物、表面处理方法和半导体基板的制造方法。本发明提供能够充分去除残留于完成了研磨的研磨对象物表面的残渣且降低完成了研磨的研磨对象物的表面粗糙度的手段。一种表面处理组合物，其包含下述(A)～(C)成分且pH超过7.0。(A)成分：具有含氮非芳香族杂环的环式胺化合物，(B)成分：非离子性高分子，(C)成分：由式A‑COO‑NH4+(A为碳原子数1以上且10以下的烷基或苯基)所示的缓冲剂。 | ||||||
| 14 | 清洗液及半导体装置的制造方法 | CN202211663926.X | 2022-12-23 | CN117757579A | 2024-03-26 | 安居雅人 |
| 本发明的实施方式提供一种清洗液及半导体装置的制造方法。根据实施方式，提供一种含有乙二醇醚系清洗剂和用下述式(1)表示的化合物的清洗液。式中，R为NH2基或H，n为1以上。[化学式1]#imgabs0# | ||||||
| 15 | 一种含氨基酸的半导体芯片清洗液、其制备方法及用途 | CN202311626509.2 | 2023-11-30 | CN117757578A | 2024-03-26 | 侯军; 吕晶; 任浩楠; 付宇 |
| 本发明涉及一种含氨基酸的半导体芯片清洗液，按照重量份计算，包括如下组分：无机碱1‑15份；亚砜30‑50份；含巯基脯氨酸10‑20份；氨基酸及其衍生物5‑15份；醇胺10‑20份；超纯水30‑60份。本发明还公开了上述清洗液的制备方法及用途。本发明含巯基脯氨酸拥有独特的扭角结构，可互相交联约束形成交联约束肽，此结构在水溶液中高度稳定，约束肽可以将碱性分子进行包裹，随着时间增长慢慢释放延长清洗液寿命。约束肽的巯基还与铜络合形成钝化膜铜层保护，且钝化膜可直接被水清洗。醇胺的氨基酸基团也可与含巯基脯氨酸形成约束肽，促进清洗液寿命的延长。 | ||||||
| 16 | 一种碧根果保鲜方法及应用 | CN202311479779.5 | 2023-11-08 | CN117751977A | 2024-03-26 | 郁世军; 尚楚; 周利湘; 顾晓峰; 白雪 |
| 本发明提供一种碧根果保鲜方法及应用，属于食品加工技术领域，包括清洗液制备方法以及保鲜方法及应用，通过将紫苏叶、绿茶或红茶粉以及果胶酶混合制备得到清洗液，并通过特有的保鲜方法，使得碧根果在深加工前的保鲜期可以延长；本发明中在预处理中加入了果实浸泡环节，其中紫苏叶中的紫苏醛等抗菌成分可以抑制碧根果表面的细菌和霉菌的生长，延缓碧根果的变质和腐败；紫苏叶中的挥发油等香气成分可以增加碧根果的香气和风味，提高碧根果的口感和品质；紫苏叶中的多酚类等抗氧化成分可以抑制碧根果中的油脂氧化，保持碧根果的营养价值和新鲜度。 | ||||||
| 17 | 产前处理组合物及产前处理液及产前处理液的使用方法 | CN202111470345.X | 2021-12-03 | CN114133993B | 2024-03-22 | 林厚彬 |
| 本发明涉及设备生产前处理技术领域，具体公开了一种产前处理组合物及产前处理液及产前处理液的使用方法。产前处理组合物包括以下质量百分比的组分：磷酸40‑70%、羟乙二磷酸10‑18%、水杨酸10‑18%、柠檬酸7‑14%、EDTA 2‑9%、2,6‑二羧酸吡啶1‑5%。通过将质量百分比为1‑5%的产前处理组合物和余量的去离子水配成产前处理液，并将产前处理液用于染发显色剂生产容器或者工具清洗，接着再进行染发显色剂生产，染发显色剂中过氧化氢的稳定性大大提高，因此染发显色剂能够在长时间内稳定存放，证明染发显色剂的货架寿命提高。 | ||||||
| 18 | 一种炉管清灰剂 | CN202311665179.8 | 2023-12-06 | CN117660126A | 2024-03-08 | 高金良; 高立明; 崔保营; 段春雪; 王少帅 |
| 本发明公开了一种炉管清灰剂。由如下重量份数的组分构成：复合无机盐10‑30份、复合矿料10‑30份、碱性物质5‑10份、催化剂1‑3份、促进剂3‑8份、缓蚀剂3‑5份、水100‑200份。本发明的炉管清灰剂具有清除硬质灰垢的作用，它与管壁上的硬质垢形成低熔点的共熔物，从而使硬质灰垢变成疏松易剥离的产物自行脱落；减少碳离子排放，增进燃烧效率；在清除灰垢的同时在炉管表面形成保护薄膜，也抑制了灰垢的沉积；可在装置不停产的情况下在线清灰；消除粉尘污染环境及对人体呼吸系统的影响，有利于环境保护。 | ||||||
| 19 | 一种清洗液组合物及试剂盒 | CN202211369077.7 | 2022-11-03 | CN115678693B | 2024-03-08 | 王溯; 蒋闯; 冯强强; 翟俊杰; 邢乃观; 刘文奇 |
| 本发明公开了一种清洗液组合物及试剂盒。该清洗液组合物及试剂盒包括下述质量分数的组分：氧化剂、0.001‑0.010％氧化型谷胱甘肽、半胱氨酸、0.01‑0.05％水溶性高分子、有机碱、螯合剂、缓蚀剂、羧酸铵、0.01‑0.05％EO‑PO聚合物L42和水，水补足余量。本发明的清洗液组合物及试剂盒对多种金属及介电材料缓蚀性强；可以高度选择性地移除Ti、TiN、TaN、TiNxOy硬遮罩或包含上述物质的合金的硬遮罩；对具有等离子刻蚀后残余物和灰化后残余物清洗效果佳，具有良好的应用前景。 | ||||||
| 20 | 用于在化学机械抛光后清洁半导体晶片的清洁组合物及方法 | CN202311393650.2 | 2016-01-12 | CN117625325A | 2024-03-01 | R·伊万诺夫; F·洪; 柯政远; F·孙 |
| 本发明涉及用于在化学机械抛光后清洁半导体晶片的清洁组合物及方法。具体地说，本发明提供用于在化学机械抛光之后从半导体晶片清洁污染物的组合物。该清洁组合物含有一种或多种氢氧化季铵、一种或多种有机胺、一种或多种金属抑制剂、以及水。本发明还提供使用该清洁组合物的方法。 | ||||||
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