1.制造下述式(I)表示的酮衍生物(I)的方法，所述方法包括将下述式(II)表示的硫酯衍生物(II)、格氏试剂(III)、铜盐和多齿配体混合并形成所述酮衍生物(I)的工序，所述格氏试剂(III)选自下述式(IIIa)表示的格氏试剂(IIIa)及下述式(IIIb)表示的格氏试剂(IIIb)，所述多齿配体是与所述格氏试剂(III)中的Mg进行配位的多齿配体，并且包含选自氧原子及氮原子中的2个以上的供体原子，
[化学式1]
1 2
式(I)中，W及W各自独立地表示可具有取代基的烷基、可具有取代基的烯基、可具有取代基的环烷基、可具有取代基的杂环烷基、可具有取代基的芳基、可具有取代基的杂芳基、可具有取代基的芳基烷基、或可具有取代基的芳基烯基；
[化学式2]
1 3
式(II)中，W的含义与上文相同，W表示可具有取代基的烷基、可具有取代基的烯基、可具有取代基的环烷基、可具有取代基的杂环烷基、可具有取代基的芳基、可具有取代基的杂芳基、可具有取代基的芳基烷基、或可具有取代基的芳基烯基；
[化学式3]
2
WMgX    (IIIa)
2
式(IIIa)中，W的含义与上文相同，X表示卤素原子；
[化学式4]
2
WMgX·LiCl    (IIIb)
2
式(IIIb)中，W及X的含义与上文相同。
2.如权利要求1所述的方法，其中，所述多齿配体为下述式(IV)表示的多齿配体，或者为下述式(VI)表示的多齿配体，
[化学式5]
1 2 3
L‑L‑L    (IV)
式(IV)中，
1 3
L及L 各自独立地表示可具有取代基的氨基、可具有取代基的烷基氧基、或下述式(V)表示的基团，
2 2 2 2
L表示式：‑[(Y)d‑Z]e‑(Y)f‑表示的2价基团，
2
Y各自独立地表示可具有取代基的亚甲基、或可具有取代基的亚苯基，
2
Z各自独立地表示醚基、或可具有取代基的亚氨基，
d表示1以上的整数，
e表示1以上的整数，
f表示1以上的整数；
[化学式6]
式(V)中，
100 1 1 1
R 表示式：‑[(Y)a‑Z]b‑(Y)c‑表示的2价基团，
1
Y各自独立地表示可具有取代基的亚甲基、或可具有取代基的亚苯基，
1
Z各自独立地表示醚基、或可具有取代基的亚氨基，
a表示1以上的整数，
b表示0以上的整数，
c表示1以上的整数；
[化学式7]
式(VI)中，
200
R 表示可具有取代基的烷基，
300 3 3 3
R 表示式：‑[(Y)g‑Z]h‑(Y)i‑表示的2价基团，
3
Y各自独立地表示可具有取代基的亚甲基、或可具有取代基的亚苯基，
3
Z各自独立地表示醚基、或可具有取代基的亚氨基，
g表示1以上的整数，
h表示1以上的整数，
i表示1以上的整数。
3.如权利要求1或2所述的方法，其中，相对于所述硫酯衍生物(II)1摩尔而言，所述铜盐的使用量为0.001摩尔以上0.5摩尔以下。
4.如权利要求1或2所述的方法，其中，所述铜盐包含选自氯化铜(I)、溴化铜(I)、噻吩‑
2‑甲酸铜(I)及氰化铜(I)中的至少1种。
5.如权利要求1或2所述的方法，其中，相对于所述硫酯衍生物(II)1摩尔而言，所述多齿配体的使用量为1.0摩尔以上3.0摩尔以下。
6.如权利要求1或2所述的方法，其中，相对于所述硫酯衍生物(II)1摩尔而言，所述格氏试剂(III)的使用量为1.0摩尔以上1.5摩尔以下。
7.如权利要求1或2所述的方法，其中，在所述工序中，在溶剂的存在下将所述硫酯衍生物(II)、所述格氏试剂(III)、所述铜盐和所述多齿配体混合，
相对于所述硫酯衍生物(II)1g而言，所述溶剂的使用量为3mL以上20mL以下。