烘焙装置和具有该烘焙装置的生产系统 |
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| 申请号 | CN202080028273.0 | 申请日 | 2020-04-09 | 公开(公告)号 | CN113677209B | 公开(公告)日 | 2023-05-23 |
| 申请人 | 哈斯食品设备有限责任公司; | 发明人 | 菲利普·里芬哈勒; | ||||
| 摘要 | 本 发明 涉及一种用于生产至少一个特别是连续的 烘焙 带(1)的生产系统和烘焙装置，其包括在 机架 (2)中或机架(2)上周向延伸的环(3)，还包括在至少一个表面上的连续的烘焙表面(4)；加热组件(5)，其具有用于 感应加热 环(3)的至少一个感应器(6)并且具有 支撑 架(7)；烘焙物质施加装置(8)，其用于将优选地为液体的烘焙物质连续地施加到烘焙表面(4)；带移除装置(9)，其用于连续地移除在加热的烘焙表面(4)上 烘烤 的带(1)；以及用于将加热组件(5)保持在加热区域中的保持装置(11)，加热组件(5)经由至少一个可旋转地安装的辊(10)支撑在环(3)上。 | ||||||
| 权利要求 | 1.一种用于生产至少一个烘焙带(1)的烘焙装置，包括： |
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| 说明书全文 | 烘焙装置和具有该烘焙装置的生产系统技术领域[0001] 本发明涉及一种烘焙装置和生产设备。 [0002] 本发明尤其涉及一种用于生产至少一个连续的烘焙带的装置，该烘焙带可选时在热的、可塑性变形的状态下卷绕以形成华夫饼卷(wafer roll)。这种产品例如已知为华夫饼卷或华夫饼棒。 背景技术[0003] 用于连续生产这种产品的装置是已知的，并在不同的实施方案中公开。 [0004] 特别地，具有加热的、连续旋转的环的烘焙装置是已知的，液体糊状物在第一区域中施加到该环的外周表面。例如，烘焙环由气体燃烧器加热，使得所施加的烘焙物质被烘焙一定的烘焙时间。通过将烘焙物质连续地施加到旋转的烘焙环上，形成了环状的烘焙带，其在第二区域中通过移除装置被连续地移除，然后优选地被卷绕并被切割成块。 发明内容[0006] 现在本发明的目的是改进这种类型的传统烘焙装置，使得在使用感应加热时获得一致的高产品质量。 [0007] 根据本发明的目的尤其通过根据本发明的烘焙装置和生产设备的特征来解决。 [0008] 令人惊讶地，发现尽管存在合理的制造公差，但是通过感应加热对环的加热并不均匀。 [0009] 根据本发明的烘焙装置的示例性的环具有1.5至3m、优选地大约2至2.5m的直径。环的厚度例如为2至10cm，优选地为5至6cm。环的宽度为例如30至50cm。 [0010] 实际上，已经发现，由于制造过程，特别是还由于在烘焙装置中的后续加热，这种环不是精确地圆形的。此外，由电感器以恒定功率对环的加热强烈地依赖于电感器与环之间的距离。 [0011] 为了满足这些要求，本发明提出，加热组件通过至少一个可旋转地安装的辊支撑在环上。此外，加热组件相对于机架可移动地布置，由此加热组件的位置可以在环的旋转运动期间跟随环的路线。结果，可以显着地提高产品质量。 [0012] 特别地，本发明涉及一种用于生产至少一个、特别是连续的烘焙带的烘焙装置，包括： [0013] ‑环，其在机架中或机架上旋转，并且在至少一个表面上包括连续的烘焙表面，[0014] ‑加热组件，其具有用于感应加热环的至少一个电感器和支撑架，[0015] ‑烘焙物质施加装置，用于将优选地为液体的烘焙物质连续地施加到烘焙表面，[0016] ‑带移除装置，其用于连续地移除在加热的烘焙表面上烘烤的带，以及[0017] ‑保持装置，其用于将加热组件保持在加热区域中。 [0018] 本发明构思，加热组件通过至少一个可旋转地安装的辊支撑在环上。 [0019] 可选地构思，至少一个辊在所述环的表面上、尤其在环的内周向表面上或外周向表面上滚动，以恒定地保持电感器与环之间的间距。 [0020] 可选地构思，在加热组件的支撑架上设置多个辊、尤其是四个辊,并且其中，辊与所述加热组件一起形成托架，托架在旋转的环的表面上滚动。 [0021] 可选地构思，加热组件通过保持装置保持在相对于机器的静止加热区/固定加热区中，其中，保持装置允许加热组件相对于机架在环的径向方向上移动。 [0022] 可选地构思，在加热组件的支撑架上设置多个电感器。 [0023] 可选地构思，在至少一个电感器和环之间保持间隙，并且设置有用于选择和设定间隙距离和特别地间隙的形状的调节组件。 [0024] 可选地构思，调节组件包括辊调节机构，用于以可限定的方式设定辊特别是辊的轴线相对于加热组件特别是相对于支撑架的位置。 [0025] 可选地构思，调节组件包括电感器调节机构，用于以可限定的方式设定电感器相对于支撑架的位置。 [0026] 可选地构思，调节组件包括电感器调节机构，用于以可限定的方式单独地设定多个电感器相对于支撑架的位置。 [0027] 可选地构思，环或环的至少一部分被构造为或用作感应加热的感受器。 [0029] 可选地构思，环以浮动的方式安装在机架中。 [0030] 可选地构思，加热组件、特别是至少一个辊支撑在环的表面上，并且烘焙表面布置环的相对表面上，并且特别地，加热组件布置在环的内周向表面上，并且烘焙表面布置在环的外周向表面上。 [0031] 可选地构思，至少一个辊包括用于相对于环横向引导加热组件的凸缘。 [0032] 可选地构思，在加热组件的每侧上设置一个辊，并且两个辊分别具有一个凸缘，并且两个凸缘在两侧上突出超过或包围环，以便使加热组件横向地居中。 [0033] 可选地，本发明涉及一种用于生产成卷华夫饼的生产设备，尤其是一种环形烘焙机器，其包括根据本发明的烘焙装置、用于连续地形成倾斜卷绕的华夫饼卷的卷绕装置、以及可选地用于通过将所述华夫卷切割成多个块来形成单个华夫饼卷的切割装置。 [0034] 加热组件通过至少一个可旋转地安装的辊支撑在环上，其中，特别地，至少一个辊在环的表面上滚动。 [0035] 优选地，多个辊可旋转地安装在加热组件的支撑架上，使得辊与加热组件一起形成托架，该托架沿着移动的环的表面行进。 [0036] 优选地，相对于机架，加热组件和/或托架被保持在加热区域中，其中保持装置进行保持。该保持装置优选地设计成使得加热组件相对于机架的一定的移动性是可能的。 [0037] 特别地，加热组件可以在环的径向方向上移动，然而，这也包括以下情况：该移动可以包括另外的移动分量，使得可选地也包括基本上倾斜于径向方向的移动。重要的是，可以使加热组件沿着环的路线行进。 [0038] 优选地，保持装置沿着环锁定相对于机架的运动，但允许相对于机架且基本上沿环的径向的运动。因此，环可以沿着加热组件移动，其中加热组件被保持在加热区域中。然而，可以使加热组件沿着旋转的环的路线行进‑特别是在径向方向上。 [0039] 在加热组件或者加热组件的电感器与环之间，保持具有一定间隙距离的间隙，该间隙特别地被配置为空气间隙。为了能够精确地调节该间隙，提供了调节组件。优选地，该调节组件设计成使得间隙可以被精确地设定和限定。 [0040] 然后通过将辊支撑在环上而使设定的间隙距离保持恒定。因此，不需要调节组件的连续的改变。因此，优选地，调节组件在其首次使用时进行操作/检查。然而，在烘焙操作期间，调节组件优选地保持不变。 [0041] 调节组件可以包括辊调节机构，通过该辊调节机构可以改变辊/它们的轴相对于加热组件的位置。因此，辊调节机构可以用于改变加热组件/其支撑架相对于环的基本位置。 [0042] 优选地，调节组件包括电感器调节机构，通过该电感器调节机构，电感器能够相对于加热组件/其支撑架定位。如果加热组件包括多个电感器，则这种设计是特别有利的。在这种情况下，电感器可以被单独设置并限定在它们相对于支撑架的位置。 [0043] 间隙优选地适合于环的形状或路线，并且因此是弯曲的。而且，支撑架优选地适于环的形状或路线。当使用多个电感器时，每个电感器可以因此具有到环的相同距离。整个加热组件优选地适合于环的形状或路线。 [0045] 例如，电感器具有20至100KW、优选地为约60KW的总输出。 [0047] 该环包括烘焙表面，其中在所有实施例中，该烘焙表面优选地是环本身的至少一个表面。然而，可替代地，该环也可以设置有在其外表面上形成烘焙表面的层。可选地，环可以在多个侧面上各具有一个烘焙表面。 [0048] 该环旋转地布置在机架中或机架上，这意味着在预期的操作条件下，该环围绕其旋转轴线旋转，即围绕烘焙表面的旋转轴线旋转。为此，优选地，至少一个保持辊可旋转地安装在机架上，环支撑在保持辊上。存在一种优选的构造，其中环悬挂在保持辊上。然而，原则上，环也可以直立地支撑在布置在下部区域中的至少一个保持辊上。为了带动环的旋转，例如，提供了驱动器，其作用在保持辊上。 [0049] 优选地，环以浮动的方式安装在机架上，使得不需要环在机架上的横向强制引导。 [0050] 可选地构思，烘焙表面设置在环的外侧上，特别是设置在环的外周向表面上。可选地，烘焙表面可以替代地或附加地布置在环的内周向表面上。 [0052] 参考附图，现在更详细地描述本发明，其中 [0053] 图1示出了根据本发明的生产设备的可能设计的平面图， [0054] 图2示出了根据本发明的生产设备的侧视图，以及 [0055] 图3示出了根据本发明的烘焙装置的细节。 [0056] 除非另有说明，否则附图标记对应于以下部件： [0057] 带1、机架2、环3、烘焙表面4、加热组件5、电感器6、支撑架7、烘焙物质施加装置8、带移除装置9、辊10、保持装置11、内周向表面12、外周向表面13、间隙14、调节组件15、间隙距离16、辊调节机构17、轴18、电感器调节机构19、保持辊20、驱动器21、卷绕装置22、切割装置23、凸缘24。 具体实施方式[0059] 烘焙装置包括环3，环3可旋转地布置在机架2上。环3包括烘焙表面4，在该表面上生产至少一个烘焙带1。具体地，糊状物通过烘焙物质施加装置8被连续地施加到加热的烘焙表面4，这在图1中未示出。 [0060] 然后，连续移动的烘焙表面4将施加的糊状物传送到带移除装置9。当糊状物传送在热的烘焙表面4上时，糊状物烘烤为烘焙带1。通常情况下，如果像本实施例中那样，烘烤多个带1，则提供多个带移除装置9。 [0061] 图1是示意图，其中一些部件，例如壳体，未示出，以便能够描述烘焙装置的结构。 [0062] 在本实施例中，提供了保持辊20，环3支撑在该保持辊上。在当前情况下，该保持辊20由驱动器21可旋转地驱动，该驱动器21也使环3旋转。 [0063] 图1所示的生产设备还包括用于形成华夫饼卷的卷绕装置22。此外，生产设备包括切割装置23，通过该切割装置，以可选择的间隔偏转华夫饼卷。 [0064] 图2示出了根据本发明的烘焙装置的示意性侧视图，其中，同样，一些部件未示出，因为它们将干扰烘焙装置的结构的视图。 [0065] 烘焙装置包括机架2，环3旋转地布置在该机架中或机架上。环3包括烘焙表面4，烘焙在该烘焙表面上进行。在本实施例中，烘焙表面4布置在外周向表面13上。烘焙物质施加装置施加糊状物。烘焙带1的移除优选由带移除装置9连续进行。 [0066] 在图2的图示中，环3的旋转方向是顺时针的。这意味着，在本构造中，烘焙区占据了环的圆周的大部分。特别地，烘焙区沿着环的旋转方向从烘焙物质施加装置8延伸至带移除装置9。 [0067] 为了加热环3、特别是烘焙表面4，设置有加热组件5。该加热组件5包括至少一个电感器6，其中在本实施例的情况下提供多个电感器6、特别是八个电感器6。该至少一个电感器6布置在支撑架7上。加热组件5通过辊10支撑在环3上，在现在的情况下通过多个辊10支撑在环3上。 [0068] 特别地，加热组件5和辊10形成托架状配置，一旦环3被设置为运动状态并围绕其旋转轴线旋转，该托架状配置就跟随环。加热组件5通过保持装置11保持在加热区域中。特别地，加热组件5通过保持装置11联接到机架2。保持装置11以一种方式配置，使得即使环3移动，加热组件5还是保持在加热区域中。然而，加热组件5被布置成通过保持装置11相对于机架2可移动。 [0069] 可移动性允许辊10能够在环3上自由滚动。特别地，在径向方向上的移动是可能的。现在，如果环3被设置为运动状态，则它围绕其旋转轴线旋转。加热组件5通过保持装置11保持在加热区域中。然而，在环3不是完美圆形的情况下，这些公差偏差可以通过加热组件5相对于机架2的可移动配置来补偿。 [0070] 特别地，在电感器6与环3之间保持间隙14。例如，该间隙14是空气间隙。该间隙14是至少一个辊10、尤其是多个辊10在环3的方向上突出超过支撑架7和/或电感器6的结果。 [0071] 在本实施例中，加热组件5相对于机架2的可移动配置是由保持装置11实现，保持装置11包括与机架2铰接的杆。作为该实施例的替代，也可以提供直导轨，在直导轨中，刚性连接到承载架7的螺栓均在细长孔中突出并且刚性连接到机架，细长孔优选地彼此平行且几乎径向地布置，使得直导轨可以实现。 [0072] 在本实施例中，特别地，加热组件5布置在内周向表面12的区域上。在本实施例中，加热组件5的辊10也在内周向表面12的区域上滚动。特别地，加热组件5布置在环3的下部区域，优选地布置在环3的下部三分之一处。 [0073] 然而，根据替代实施例，加热组件5可布置在外周向表面13上并在其上滚动。例如，根据该替代实施例，加热组件5可在上部区域中邻接环3的外周向表面13。在这种情况下，烘焙物质施加装置8有利地以一种方式配置，使得烘焙物质施加装置8将烘焙物质施加到内周向表面12。同样，在本实施例中，带移除装置9可以移除环的内周向表面12上的带1。 [0074] 环3支撑在保持辊20上。优选地，保持辊20由驱动器21(未示出)驱动以引起环3的旋转运动。此外，在所有的实施例中都可以提供导向辊，环3可以通过这些导向辊在其位置居中，并且特别地可以通过这些导向辊支撑环3。 [0076] 图3示出了烘焙装置的可能设计的斜视图，特别是与环3的加热有关的细节。 [0077] 烘焙装置包括具有至少一个电感器6的加热组件5。在本实施例中，可以设置多个电感器6。在所有的实施例中，多个电感器6被配置为感应加热环3、特别是烘焙表面4。加热组件5包括至少一个支撑架7。在本实施例中，支撑架7是多部件设计并且包括侧向支撑件。 [0078] 在支撑架7上，布置电感器6。在本实施例中，辊10可旋转地安装在支撑架7上。为了将加热组件5连接到机架2上(其在本实施例中基本未示出)，设置保持装置11。在本实施例中，保持装置11被配置为铰接杆，其将加热组件5、特别是支撑架7连接到机架2。 [0079] 保持装置11将加热组件5保持在加热区域中。另外，加热组件5包括调节组件15。调节组件15包括辊调节机构17。辊调节机构17允许辊10、特别是辊10的轴线18，相对于支撑架7和/或相对于至少一个电感器6的位置改变。 [0080] 在本实施例中，辊调节机构17以一种方式配置，使得辊10相对于支撑架7的位置能够改变。 [0081] 调节组件15优选地包括电感器调节机构19。电感器调节机构19适于和/或配置为改变电感器6相对于支撑架7和/或相对于辊10的位置。 [0082] 在本实施例中，电感器调节机构19包括在支撑架7上的细长孔，延伸件伸入细长孔中，该延伸件优选地与电感器6刚性连接。这允许电感器6在细长孔允许的运动自由范围内相对于支撑架7移位。 [0083] 当电感器6处于期望位置时，该位置例如可以通过拧紧螺钉来限定。这同样适用于辊调节机构17。通过调节组件15，可以调节设置在至少一个电感器6和环3之间的间隙14。特别地，当使用多个电感器6时，电感器调节机构19可用于单独地调节电感器6的位置。 [0084] 优选地，例如，可以调节所有电感器6使得在电感器6和环3之间有恒定的间隙距离16。另外，间隙14的调整可以由辊调节机构17完成。例如，通过改变辊10相对于支撑架7的位置，所有电感器6的位置可以同步改变。 [0085] 在所有实施例中，优选地，加热组件5和辊10在环3上被横向引导和/或居中。在图3的实施例中，每个辊10包括用于此目的的凸缘24。在每种情况下，该凸缘24突出超过环3的表面，辊10在该表面上滚动。在本实施例中，辊10的轮凸缘24在环3的面区域中突出超过环3，从而提供横向引导。特别地，凸缘24布置在环3的每一侧，使得可以在两侧提供引导。 [0086] 在本实施例中，两个辊每个都布置在一个轴18上。辊10可以自由运动的方式安装在该轴18上，或者刚性地连接到轴18上，其中，在这种情况下，轴18本身可旋转地安装。 [0087] 优选地，图1至图3全部涉及相同的实施例。可选地，图1至图3是单独的实施例。 [0088] 为了制造连续的烘焙带1/轧制华夫饼，可以按如下步骤进行，例如： [0089] 在机架2中，环3旋转地布置。在预期的操作条件下，环3绕其旋转轴线旋转。为此，环3被支撑在保持辊20上，并由驱动器21可旋转地驱动。另外，环3通过加热组件5被加热。 [0090] 根据本发明，加热是感应的，其中提供至少一个电感器6，并且其中环3本身是被感应加热的，因此，优选地，环3本身作为感受器。特别地，在电感器6与环3之间保持间隙14。为了保持间隙距离16(即电感器6和环3之间的距离)恒定，设置有可旋转地安装在加热组件5上的辊10以用于隔开。该辊10在环3上滚动，使得该辊10也感测与公差相关的偏差。在加热组件5特别地直接支撑在环3上的情况下，则即使环3由于公差而偏离完美的圆柱形状，间隙14的间隙距离16也能够保持恒定。 [0091] 加热后的环3包括烘焙表面4。通过烘焙物质施加装置8，优选为液体的烘焙物质连续地施加到烘焙表面4。在所有实施例中，烘焙物质施加装置8优选地刚性/可限定地联接到机架2，并且特别地以相对于机器以静止的方式/固定地布置。 [0092] 在连续地向移动的烘焙表面4施加烘焙物质时，在烘焙表面4上形成烘焙物质带。在沿着旋转的环3传送该条的过程中，通过加热烘焙表面4烘烤该带。在机架2的另一处，烘焙带1被带移除装置9连续地移除。特别地，烘焙条1在热的、可塑性变形的状态下被移除。 [0093] 在该烘焙装置中使用的烘焙物质优选地包括高糖部分，如已知用于生产华夫饼卷或华夫饼棒的高糖部分。糖部分在其热的状态下是柔软的和可延展的。只有当冷却时，糖才固化并使产品具有其特有的酥‑脆一致性。在本发明的范围内，传统的烘焙物质可用于所述类型的烘焙装置。 [0094] 优选地，卷绕装置22设置在带移除装置9的下游，以便卷起带1并形成华夫饼卷。此外，在卷绕装置22的下游，可以设置切割装置23，以便以可选择的间隔将华夫饼卷切割成多个块。 [0095] 在卷绕装置22卷绕带1的过程中，带1被卷绕在一个卷绕心轴上，该心轴基本上垂直于或倾斜于环3的旋转轴线。此外，在卷绕过程中，进一步沿着卷绕装置22的卷绕心轴传送华夫饼卷，因此连续地形成基本上连续的华夫饼卷。只有当在切割装置23中将华夫饼卷切割成多个块时，才形成单个的华夫饼卷/华夫饼棒。 [0096] 可选地构思，在环3上/在烘焙表面4上烘焙彼此相邻的多个带1。对于每个带1，优选地设置有带去除装置9或卷绕装置22。 |
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