| 序号 | 专利名 | 申请号 | 申请日 | 公开（公告）号 | 公开（公告）日 | 发明人 |
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| 121 | 用于去除蚀刻残留物的组合物及其使用方法和用途 | CN202080067656.9 | 2020-09-24 | CN114450388A | 2022-05-06 | 孙来生; 王莉莉; 吴爱萍; 李翊嘉; 陈天牛 |
| 一种用于微电子器件或半导体衬底的方法和清洁组合物，其包括至少一种烷醇胺；至少一种羟胺或羟胺衍生物或其混合物；至少一种具有至少两个羧酸基团的多官能有机酸和水。该清洁组合物可进一步包括至少一种腐蚀抑制剂。 | ||||||
| 122 | 用于溶解抛光粒子的组合物及使用其的清洁方法 | CN202111289645.8 | 2021-11-02 | CN114437883A | 2022-05-06 | 郑敬振; 郑佳英; 尹永镐; 朴健熙; 金暎坤; 郑用昊 |
| 本发明涉及一种用于溶解抛光粒子的组合物及使用其的清洁方法，更具体地，涉及一种用于溶解抛光粒子的组合物及使用其的清洁方法，所述用于溶解抛光粒子的组合物包括：含硫有机酸；含氟离子化合物；以及溶剂，其中，在60℃温度下测量15分钟的浊度变化降低率为‑80％至‑99％。 | ||||||
| 123 | 一种微泡促溶清洗液及其应用 | CN202210087071.4 | 2022-01-25 | CN114381344A | 2022-04-22 | 王晨; 周雷; 张康; 杨晓武; 代方方; 王海花 |
| 本发明公开了一种微泡促溶清洗液及其应用，属于清洗液制备技术领域，用以解决现有清洗液在清洗电路板时干燥速率慢，需要搭配辅助手段，造成电路板的损害的技术问题。所述微泡促溶清洗液成分中的有机氨源和无机氨源，在清洁电路板时，能在加热条件下分解产生二氧化碳和氨气和醇类；产生的二氧化碳会在液体中形成微小气泡，微小气泡可以在较小的范围内与周围的溶液形成压力差，帮助颗粒状污染物脱离附着状态，使得污染物更容易被清洗干净，同时，在清洁过程中不需要其他的辅助设备，减少了对电路板的伤害。 | ||||||
| 124 | 积碳清洗剂、气雾剂以及发动机燃烧室积碳的清洗方法 | CN202210083556.6 | 2022-01-17 | CN114369506A | 2022-04-19 | 莫家杰; 尚军权 |
| 本发明涉及一种积碳清洗剂、气雾剂以及发动机燃烧室积碳的清洗方法。所述积碳清洗剂，按质量百分数计，包括如下组分：疏松剂10％～30％、溶剂20％～50％、混合液A 20％～50％、以及烯基丁二酸酯0.2％～5％；并具体限定疏松剂和溶剂的具体种类以及混合液A的组分。本发明提供的积碳清洗剂能够通过渗透、熏蒸、松化作用细化积碳粒径，使顽固积碳被多元瓦解，达到显著的清洗效果。本申请提供的积碳清洗剂可制备成气雾剂，配合特定的清洗方法，集浸泡、冲洗、可燃烧于一体，可实现高效、安全、快捷地清洗燃烧室积碳。 | ||||||
| 125 | 除白灰型碳氢清洗剂及其制备方法和应用 | CN202111680138.7 | 2021-12-30 | CN114317146A | 2022-04-12 | 肖连庄; 赖晓丹; 黄润聪; 叶志良 |
| 本发明公开了一种除白灰型碳氢清洗剂及其制备方法和应用，其中除白灰型碳氢清洗剂，按质量份数计，包括70～90份碳氢化合物、5～20份醇醚类化合物、0.5～5份有机酸、0.5～5份有机碱、0.5～5份醇类化合物。该除白灰型碳氢清洗剂可达到除白灰的的清洗效果，以提高高精密工件表面的洁净度。 | ||||||
| 126 | 纳米胶体粒子、制备方法及包含其的清洗剂和清洗方法 | CN202111671217.1 | 2021-12-31 | CN114292707A | 2022-04-08 | 侯军; 吕晶 |
| 本发明提供了一种纳米胶体粒子、制备方法、用途，及包含该纳米胶体粒子的清洗剂及其制备方法和清洗方法等，所述纳米胶体粒子包括纳米二氧化硅、胶体稳定剂和二氧化硅吸附剂，所述清洗剂包括所述纳米胶体粒子、pH调节剂、表面活性剂、润湿剂和超纯水。所述纳米胶体粒子具有优异的稳定性和清洗效果，特别适用于硬脆材料表面如硅片、蓝宝石衬底片、光学级玻璃、砷化镓衬底片、精密陶瓷等的清洗，具有广阔的应用前景和替代潜力。 | ||||||
| 127 | 一种半导体晶圆干刻后清洗工艺 | CN202111590538.9 | 2021-12-23 | CN114273320A | 2022-04-05 | 王磊; 承明忠; 符佳立 |
| 本发明公开了一种半导体晶圆干刻后清洗工艺，半导体晶圆包括裸露的铝结构层；包括以下步骤：S1：清洗剂A预清洗晶圆的干刻有机残留物，清洗完毕后，用水溶性有机溶剂清洗晶圆；S2：用主要组成为氟离子源的清洗剂B清洗去除晶圆的牺牲层，清洗完毕后，用水溶性有机溶剂清洗晶圆；S3：超纯水清洗晶圆，干燥晶圆；按质量百分比计，清洗剂A的主要组成为30～60%的硫酸、22~53%的有机溶剂、15～25%的水和0.01～0.8%的第一复配缓蚀剂，第一复配缓蚀剂的主要组成为氨基酸类缓蚀剂、巯基杂环化合物和无机酸缓蚀剂。本发明半导体晶圆干刻后清洗工艺充分去除干刻残留和牺牲层并将对铝结构层的腐蚀维持在较低程度。 | ||||||
| 128 | 一种可降解的去油污湿巾及其制备方法 | CN202111560146.8 | 2021-12-20 | CN114214783A | 2022-03-22 | 田晓辉; 周守权; 彭志云; 徐桂平; 唐圣明; 徐敏; 叶挺 |
| 本发明涉及一种可降解的去油污湿巾，包括湿巾基材和湿巾浸液，所述湿巾载体是三明治结构的复合无纺布结构，依次是改性聚乳酸纤维层，粘胶纤维和木浆纤维复合层，改性聚乳酸纤维层，所述改性聚乳酸是马来酸酐接枝聚乳酸和侧链含羟基聚合物通过熔融共挤出得到。本发明制备得到的去油污湿巾，引入了改性聚乳酸纤维层，可生物降解，对环境友好，同时综合性能优异，具有很好的吸水性，保水性，力学强度，手感柔和，对不同材质的油污清除效果好。 | ||||||
| 129 | 一种含多酶的高效全能膜清洗剂的制备方法 | CN202111568146.2 | 2021-12-21 | CN114196485A | 2022-03-18 | 陆跃乐; 孙雪; 高倩妮; 郑晓宇; 孔叶凯 |
| 本发明提供了一种含多酶的高效全能膜清洗剂的制备方法，包括以下步骤：(1)糖基化酶的制备；(2)负电喷雾电离高能碰撞诱导制备小分子稳定剂；(3)按照下述质量百分比取各原料：步骤(1)制备的糖基化的酸性蛋白酶6％‑10％、酸性纤维素酶6％‑10％、α‑淀粉酶6％‑10％、果胶酶6％‑10％、脂肪酶6％‑10％；步骤(2)制备的小分子稳定剂1‑3％；离子液体5‑10％；防腐剂0.5‑1.5％；络合剂10‑20％；其余为去离子水；(4)膜清洗剂的配制。本发明扩大了膜污染物种类的清洗范围，有效提高了膜污染的清洗效果；多酶清洗和离子液体辅助清洗剂协同，可以减少多流程多种类的膜清洗剂的多次清洗对膜带来的损伤，可以极大地减少清洗时间，进一步提高膜使用寿命。 | ||||||
| 130 | 一种金箔电极清洗剂及其制备方法 | CN202110065744.1 | 2021-01-19 | CN112481052B | 2022-03-18 | 刘鸣; 孙宇亮; 刘利娟; 陆朝霞 |
| 本发明公开了一种新型金箔电极清洗剂及其制备方法，属于清洗剂技术领域。该金箔电极清洗剂，按质量百分含量计，包括：乙醇酸5～10%，柠檬酸1～5%，甲酸1～2%，阻垢剂1～10%，缓蚀剂0.5～1%，水余量。本发明清洗剂的成分针对性的进行了选择和调整，对金箔电极表面沉积的玻璃粉有强力的分散悬浮作用，清洗设备简单，清洗时间短，能很好地满足现有的电泳玻璃钝化生产工艺。另外，通过对多种不同的表面活性剂和清洗助剂的研究，发现几种表面活性剂以某一特定比例的复配物，对电极表面的沉积物有极佳的渗透分散性。 | ||||||
| 131 | 一种强氧化性管道疏通剂 | CN202010956647.7 | 2020-09-12 | CN114181789A | 2022-03-15 | 万巨领 |
| 本发明公开了一种强氧化性管道疏通剂，包括主料和辅料，主料由以下以下重量份数配比的原料组成：氢氧化钠60‑80份，二氯异氰尿酸钠10‑30份，(或三氯异氰尿酸钠10‑30份，或次氯酸钠10‑30份)；辅料由以下以下重量份数配比的原料组成：碳酸钠5‑15份，硫酸钠5‑15份，生物酶颗粒0.5‑1份，香精0.5‑1份。本发明完全摒弃现在市场销售管道疏通剂的传统配方，创新性加入二氯异氰尿酸钠，或三氯异氰尿酸钠，或次氯酸钠等强氧化物料，不添加铝粒，过碳酸钠，产品温和疏通，不凝结，不呛人，不伤人，溶解力强，疏通范围更广，具有消毒杀菌功效，有效杀灭病毒，切断下水道传染链条，减少疫情传播渠道。 | ||||||
| 132 | 一种核酸污染去除剂 | CN202111352515.4 | 2021-11-16 | CN114164064A | 2022-03-11 | 张同军; 刘兰 |
| 本发明公开了一种核酸污染去除剂，包括以下重量份的原料：含酸试剂0.1‑3％、含氯试剂0.1％‑3％、氧化剂5％‑10％、稳定剂0.1％‑2％、纳米二氧化钛0.1％‑1％和去离子水；本发明通过设置类拟能分解核酸的纳米金属或金属化合物颗粒，解决了腐蚀金属表面，对人体有害，试剂易失效，操作繁琐，耗时耗人工，试剂易残留，无法彻底清除核酸和非位点特异性地破坏DNA/RNA碱基，使核酸发生不可逆的降解的问题，该一种核酸污染去除剂，具备无毒、无味、无刺激性，热稳定性与耐热性好，不燃烧，清除效率高，作用持久的优点。 | ||||||
| 133 | 一种多酶清洗剂以及其加工设备 | CN202111314961.6 | 2021-11-08 | CN114106943A | 2022-03-01 | 王金强; 伊雪范; 刘丽丽; 刘永昌; 王玉丹 |
| 本发明公开了一种多酶清洗剂以及其加工设备，其特征在于：包括以下重量百分比的组分：2～6元醇4‑9％、苯扎氯铵32‑35％、螯合剂0.6‑0.9％、酶可逆抑制剂0.02‑0.03％、防腐剂0.2‑0.3％、pH调节剂0.0.1‑0.3％、高效蛋白水解酶9‑11％、蛋白酶1‑4％、淀粉酶11‑15％、脂肪酶11‑13％、纤维素酶10‑12％、糖苷酶3‑5％、甘露聚糖酶2‑6％、余量为水，有机酸18g，糊精0.8g，钼酸钠3g，磷酸1.1g，水60g，甘油8g，添加剂SI—1 0.06g，所述2～6元醇为丙二醇或丙三醇，所述螯合剂选用乙二胺四乙酸、乙二胺四乙酸二钠、乙二胺四乙酸四钠、本发明的有益效果是，大大提高了材料的搅拌效果以及搅拌效率，充分的混合后，通过第一电磁阀打开，使得材料流入过滤机构内部，直接进行过滤，同时过滤功能以及搅拌功能提高了生产效率。 | ||||||
| 134 | 一种清洁剂 | CN202111454215.7 | 2021-11-22 | CN114085722A | 2022-02-25 | 李瑞; 李波; 梁鸡保; 白伟; 白建彪 |
| 本申请的实施例公开了一种清洁剂，以所述清洁粉的总质量计，包括20‑50重量％源自文冠果果实的粉末、10‑40重量％源自元宝枫果实的粉末、10‑40重量％源自油用牡丹果实的粉末以及5‑15重量％草本植物粉末。本申请所提供的清洁剂具有去污效果好、抑菌能力强、无化学残留、对皮肤无损伤、绿色环保等诸多优点，且通过多种源自植物果实的粉末与草本植物粉末的联用不仅使得去污效果更佳，而且赋予清洁剂清香。 | ||||||
| 135 | 一种记号笔清洗剂及其制备方法、一种记号笔印记的清洗方法 | CN202010566692.1 | 2020-06-19 | CN112481051B | 2022-02-22 | 王康; 龚小梅; 吴宗旺; 曹宏 |
| 本发明提供一种记号笔清洗剂及其制备方法、一种记号笔印记的清洗方法，涉及清洗剂技术领域。本发明提供的记号笔清洗剂，包括A组分和B组分，所述A组分包括以下质量百分含量的组分：30～50％二价酸酯溶剂、20～40％正溴丙烷、10～20％乙二醇苯醚、10～20％碳酸二甲酯和0～10％D‑苧烯；所述B组分包括以下质量百分含量的组分：12～30％脱色剂、2～5％十二烷基苯磺酸钠、1～3％四乙酰乙二胺、61～85％水和0～1％稳定剂。本发明提供的清洗剂能够彻底清洗微孔材质粗糙表面上的记号笔印记。 | ||||||
| 136 | 一种利用激光雕刻法在玻璃上制作阶梯槽的方法 | CN202010247357.5 | 2020-03-31 | CN111545921B | 2022-02-18 | 汤占刚 |
| 本发明提供的一种利用激光雕刻法在玻璃上制作阶梯槽的方法，包括以下步骤：将激光头固定在具有XZ轴传动的驱动装置；激光头沿设定的第一路径移动，激光头向下发出的激光在玻璃板面上雕刻出凹槽，凹槽底部具有反射部，反射部具有第一斜面、第二斜面；在第一斜面与第二斜面上侧制作一层激光反射膜，以形成第一反射面、第二反射面；激光头向下发出的激光经过第一反射面与第二反射面的反射，转换为平行于水平面的激光，从而雕刻出第一内槽、第二内槽；去除激光反射膜；激光头沿设定的第二路径移动，激光头向下发出的激光将反射部雕刻去除，完成阶梯槽的制作。本发明提供的制作阶梯槽的方法，操作简单，加工效率高。 | ||||||
| 137 | 用于半导体材料的清洗方法 | CN202111326661.X | 2021-11-10 | CN114038736A | 2022-02-11 | 王燕清; 杨佐东 |
| 本发明涉及一种用于半导体材料的清洗方法，具体步骤如下：先将半导体材料浸入碱性脱脂洗液清洗进行脱脂处理，清洗后去离子水冲洗；再进行去除金属离子处理，依次将半导体材料用酸性A洗液浸泡清洗，清洗后去离子水冲洗；接着用中性洗液浸泡清洗，清洗后去离子水冲洗；最后放入酸性B洗液中浸泡清洗，清洗后用去离子水冲洗干净即可。本发明提供的清洗方法，大大减少强酸的使用浓度，减小了环境污染和对人体的腐蚀性。洗液稳定性好，不会易分解挥发，提高了洗液使用寿命，对硅产品腐蚀性小，不会增加产品清洗后的Ra。 | ||||||
| 138 | 一种零废水双动力半导体专用钢网清洗设备及其使用的清洗液 | CN202111431167.X | 2021-11-29 | CN113976521A | 2022-01-28 | 陈伟; 胡才德; 龙成明 |
| 本发明涉及一种零废水双动力半导体专用钢网清洗设备。采用的技术方案是：一种半导体专用钢网清洗设备，包括机壳、箱体、喷淋清洗机构、超声波清洗机构、钢网固定支架、升降机构、干燥机构、回液机构以及漂洗机构。本发明还公开了上述清洗设备使用的清洗液，该清洗液由70‑90％的去离子水、10‑30％的醇醚有机溶剂，混合制备而成。本发明的优点是：组合了喷淋清洗和超声波清洗双动力，当需要喷淋清洗时，打开喷淋机构再配合升降机构就可以完成喷淋清洗的操作，当需要超声波清洗时，升降机构将配合超声波清洗机构就可以完成超声波清洗的工作。可以快速、有效地完成喷淋清洗和超声清洗间的切换，同时很好的解决了喷淋清洗和超声清洗双动力的兼容问题。 | ||||||
| 139 | 包括1,1-二氟乙烯的组合物 | CN202110779060.8 | 2018-05-17 | CN113969140A | 2022-01-25 | 罗伯特·洛 |
| 一种包括1,1‑二氟乙烯的组合物，其包括：(i)1,1‑二氟乙烯(偏二氟乙烯，R‑1132a)；(ii)二氧化碳(CO2，R‑744)；(iii)五氟乙烷(R‑125)；以及(iv)三氟甲烷(R‑23)和六氟乙烷(R‑116)中的一种或多种。 | ||||||
| 140 | 一种磷酸酯液压油清洗组合物及其制备方法 | CN202111255635.2 | 2021-10-27 | CN113956928A | 2022-01-21 | 梅莉; 陈鹏真; 余秋兰 |
| 本发明提供了一种磷酸酯液压油清洗组合物，由包括以下组分的原料制备而成：磷酸三二甲苯酯30重量份～65重量份；磷酸三苯酯10重量份～30重量份；磷酸特丁基苯酯20重量份～40重量份。与现有技术相比，本发明提供的磷酸酯液压油清洗组合物，采用特定含量的特定基础油分子结构的组分，实现整体较好的相互作用，得到的磷酸酯液压油清洗组合物具有与磷酸酯液压油优异的相容性，能够有效地确保磷酸酯液压系统清洗需求，进而使磷酸酯液压油更加纯净，从而保障油品的使用寿命。 | ||||||
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