| 序号 | 专利名 | 申请号 | 申请日 | 公开（公告）号 | 公开（公告）日 | 发明人 |
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| 141 | 一种含多酶的高效全能膜清洗剂的制备方法 | CN202111568146.2 | 2021-12-21 | CN114196485A | 2022-03-18 | 陆跃乐; 孙雪; 高倩妮; 郑晓宇; 孔叶凯 |
| 本发明提供了一种含多酶的高效全能膜清洗剂的制备方法，包括以下步骤：(1)糖基化酶的制备；(2)负电喷雾电离高能碰撞诱导制备小分子稳定剂；(3)按照下述质量百分比取各原料：步骤(1)制备的糖基化的酸性蛋白酶6％‑10％、酸性纤维素酶6％‑10％、α‑淀粉酶6％‑10％、果胶酶6％‑10％、脂肪酶6％‑10％；步骤(2)制备的小分子稳定剂1‑3％；离子液体5‑10％；防腐剂0.5‑1.5％；络合剂10‑20％；其余为去离子水；(4)膜清洗剂的配制。本发明扩大了膜污染物种类的清洗范围，有效提高了膜污染的清洗效果；多酶清洗和离子液体辅助清洗剂协同，可以减少多流程多种类的膜清洗剂的多次清洗对膜带来的损伤，可以极大地减少清洗时间，进一步提高膜使用寿命。 | ||||||
| 142 | 一种金箔电极清洗剂及其制备方法 | CN202110065744.1 | 2021-01-19 | CN112481052B | 2022-03-18 | 刘鸣; 孙宇亮; 刘利娟; 陆朝霞 |
| 本发明公开了一种新型金箔电极清洗剂及其制备方法，属于清洗剂技术领域。该金箔电极清洗剂，按质量百分含量计，包括：乙醇酸5～10%，柠檬酸1～5%，甲酸1～2%，阻垢剂1～10%，缓蚀剂0.5～1%，水余量。本发明清洗剂的成分针对性的进行了选择和调整，对金箔电极表面沉积的玻璃粉有强力的分散悬浮作用，清洗设备简单，清洗时间短，能很好地满足现有的电泳玻璃钝化生产工艺。另外，通过对多种不同的表面活性剂和清洗助剂的研究，发现几种表面活性剂以某一特定比例的复配物，对电极表面的沉积物有极佳的渗透分散性。 | ||||||
| 143 | 一种强氧化性管道疏通剂 | CN202010956647.7 | 2020-09-12 | CN114181789A | 2022-03-15 | 万巨领 |
| 本发明公开了一种强氧化性管道疏通剂，包括主料和辅料，主料由以下以下重量份数配比的原料组成：氢氧化钠60‑80份，二氯异氰尿酸钠10‑30份，(或三氯异氰尿酸钠10‑30份，或次氯酸钠10‑30份)；辅料由以下以下重量份数配比的原料组成：碳酸钠5‑15份，硫酸钠5‑15份，生物酶颗粒0.5‑1份，香精0.5‑1份。本发明完全摒弃现在市场销售管道疏通剂的传统配方，创新性加入二氯异氰尿酸钠，或三氯异氰尿酸钠，或次氯酸钠等强氧化物料，不添加铝粒，过碳酸钠，产品温和疏通，不凝结，不呛人，不伤人，溶解力强，疏通范围更广，具有消毒杀菌功效，有效杀灭病毒，切断下水道传染链条，减少疫情传播渠道。 | ||||||
| 144 | 一种核酸污染去除剂 | CN202111352515.4 | 2021-11-16 | CN114164064A | 2022-03-11 | 张同军; 刘兰 |
| 本发明公开了一种核酸污染去除剂，包括以下重量份的原料：含酸试剂0.1‑3％、含氯试剂0.1％‑3％、氧化剂5％‑10％、稳定剂0.1％‑2％、纳米二氧化钛0.1％‑1％和去离子水；本发明通过设置类拟能分解核酸的纳米金属或金属化合物颗粒，解决了腐蚀金属表面，对人体有害，试剂易失效，操作繁琐，耗时耗人工，试剂易残留，无法彻底清除核酸和非位点特异性地破坏DNA/RNA碱基，使核酸发生不可逆的降解的问题，该一种核酸污染去除剂，具备无毒、无味、无刺激性，热稳定性与耐热性好，不燃烧，清除效率高，作用持久的优点。 | ||||||
| 145 | 一种多酶清洗剂以及其加工设备 | CN202111314961.6 | 2021-11-08 | CN114106943A | 2022-03-01 | 王金强; 伊雪范; 刘丽丽; 刘永昌; 王玉丹 |
| 本发明公开了一种多酶清洗剂以及其加工设备，其特征在于：包括以下重量百分比的组分：2～6元醇4‑9％、苯扎氯铵32‑35％、螯合剂0.6‑0.9％、酶可逆抑制剂0.02‑0.03％、防腐剂0.2‑0.3％、pH调节剂0.0.1‑0.3％、高效蛋白水解酶9‑11％、蛋白酶1‑4％、淀粉酶11‑15％、脂肪酶11‑13％、纤维素酶10‑12％、糖苷酶3‑5％、甘露聚糖酶2‑6％、余量为水，有机酸18g，糊精0.8g，钼酸钠3g，磷酸1.1g，水60g，甘油8g，添加剂SI—1 0.06g，所述2～6元醇为丙二醇或丙三醇，所述螯合剂选用乙二胺四乙酸、乙二胺四乙酸二钠、乙二胺四乙酸四钠、本发明的有益效果是，大大提高了材料的搅拌效果以及搅拌效率，充分的混合后，通过第一电磁阀打开，使得材料流入过滤机构内部，直接进行过滤，同时过滤功能以及搅拌功能提高了生产效率。 | ||||||
| 146 | 一种清洁剂 | CN202111454215.7 | 2021-11-22 | CN114085722A | 2022-02-25 | 李瑞; 李波; 梁鸡保; 白伟; 白建彪 |
| 本申请的实施例公开了一种清洁剂，以所述清洁粉的总质量计，包括20‑50重量％源自文冠果果实的粉末、10‑40重量％源自元宝枫果实的粉末、10‑40重量％源自油用牡丹果实的粉末以及5‑15重量％草本植物粉末。本申请所提供的清洁剂具有去污效果好、抑菌能力强、无化学残留、对皮肤无损伤、绿色环保等诸多优点，且通过多种源自植物果实的粉末与草本植物粉末的联用不仅使得去污效果更佳，而且赋予清洁剂清香。 | ||||||
| 147 | 一种记号笔清洗剂及其制备方法、一种记号笔印记的清洗方法 | CN202010566692.1 | 2020-06-19 | CN112481051B | 2022-02-22 | 王康; 龚小梅; 吴宗旺; 曹宏 |
| 本发明提供一种记号笔清洗剂及其制备方法、一种记号笔印记的清洗方法，涉及清洗剂技术领域。本发明提供的记号笔清洗剂，包括A组分和B组分，所述A组分包括以下质量百分含量的组分：30～50％二价酸酯溶剂、20～40％正溴丙烷、10～20％乙二醇苯醚、10～20％碳酸二甲酯和0～10％D‑苧烯；所述B组分包括以下质量百分含量的组分：12～30％脱色剂、2～5％十二烷基苯磺酸钠、1～3％四乙酰乙二胺、61～85％水和0～1％稳定剂。本发明提供的清洗剂能够彻底清洗微孔材质粗糙表面上的记号笔印记。 | ||||||
| 148 | 一种利用激光雕刻法在玻璃上制作阶梯槽的方法 | CN202010247357.5 | 2020-03-31 | CN111545921B | 2022-02-18 | 汤占刚 |
| 本发明提供的一种利用激光雕刻法在玻璃上制作阶梯槽的方法，包括以下步骤：将激光头固定在具有XZ轴传动的驱动装置；激光头沿设定的第一路径移动，激光头向下发出的激光在玻璃板面上雕刻出凹槽，凹槽底部具有反射部，反射部具有第一斜面、第二斜面；在第一斜面与第二斜面上侧制作一层激光反射膜，以形成第一反射面、第二反射面；激光头向下发出的激光经过第一反射面与第二反射面的反射，转换为平行于水平面的激光，从而雕刻出第一内槽、第二内槽；去除激光反射膜；激光头沿设定的第二路径移动，激光头向下发出的激光将反射部雕刻去除，完成阶梯槽的制作。本发明提供的制作阶梯槽的方法，操作简单，加工效率高。 | ||||||
| 149 | 用于半导体材料的清洗方法 | CN202111326661.X | 2021-11-10 | CN114038736A | 2022-02-11 | 王燕清; 杨佐东 |
| 本发明涉及一种用于半导体材料的清洗方法，具体步骤如下：先将半导体材料浸入碱性脱脂洗液清洗进行脱脂处理，清洗后去离子水冲洗；再进行去除金属离子处理，依次将半导体材料用酸性A洗液浸泡清洗，清洗后去离子水冲洗；接着用中性洗液浸泡清洗，清洗后去离子水冲洗；最后放入酸性B洗液中浸泡清洗，清洗后用去离子水冲洗干净即可。本发明提供的清洗方法，大大减少强酸的使用浓度，减小了环境污染和对人体的腐蚀性。洗液稳定性好，不会易分解挥发，提高了洗液使用寿命，对硅产品腐蚀性小，不会增加产品清洗后的Ra。 | ||||||
| 150 | 一种零废水双动力半导体专用钢网清洗设备及其使用的清洗液 | CN202111431167.X | 2021-11-29 | CN113976521A | 2022-01-28 | 陈伟; 胡才德; 龙成明 |
| 本发明涉及一种零废水双动力半导体专用钢网清洗设备。采用的技术方案是：一种半导体专用钢网清洗设备，包括机壳、箱体、喷淋清洗机构、超声波清洗机构、钢网固定支架、升降机构、干燥机构、回液机构以及漂洗机构。本发明还公开了上述清洗设备使用的清洗液，该清洗液由70‑90％的去离子水、10‑30％的醇醚有机溶剂，混合制备而成。本发明的优点是：组合了喷淋清洗和超声波清洗双动力，当需要喷淋清洗时，打开喷淋机构再配合升降机构就可以完成喷淋清洗的操作，当需要超声波清洗时，升降机构将配合超声波清洗机构就可以完成超声波清洗的工作。可以快速、有效地完成喷淋清洗和超声清洗间的切换，同时很好的解决了喷淋清洗和超声清洗双动力的兼容问题。 | ||||||
| 151 | 包括1,1-二氟乙烯的组合物 | CN202110779060.8 | 2018-05-17 | CN113969140A | 2022-01-25 | 罗伯特·洛 |
| 一种包括1,1‑二氟乙烯的组合物，其包括：(i)1,1‑二氟乙烯(偏二氟乙烯，R‑1132a)；(ii)二氧化碳(CO2，R‑744)；(iii)五氟乙烷(R‑125)；以及(iv)三氟甲烷(R‑23)和六氟乙烷(R‑116)中的一种或多种。 | ||||||
| 152 | 一种磷酸酯液压油清洗组合物及其制备方法 | CN202111255635.2 | 2021-10-27 | CN113956928A | 2022-01-21 | 梅莉; 陈鹏真; 余秋兰 |
| 本发明提供了一种磷酸酯液压油清洗组合物，由包括以下组分的原料制备而成：磷酸三二甲苯酯30重量份～65重量份；磷酸三苯酯10重量份～30重量份；磷酸特丁基苯酯20重量份～40重量份。与现有技术相比，本发明提供的磷酸酯液压油清洗组合物，采用特定含量的特定基础油分子结构的组分，实现整体较好的相互作用，得到的磷酸酯液压油清洗组合物具有与磷酸酯液压油优异的相容性，能够有效地确保磷酸酯液压系统清洗需求，进而使磷酸酯液压油更加纯净，从而保障油品的使用寿命。 | ||||||
| 153 | 一种洗涤餐具用微生物洗涤片 | CN202111083882.9 | 2021-09-16 | CN113913251A | 2022-01-11 | 范田水; 董丽巍; 沈建; 郑鹏; 朱永平 |
| 本发明涉及一种洗涤餐具用微生物洗涤片，其特征在于由以下重量百分比的原料制成的片剂：层硅20‑30%、马丙共聚物20‑25%、无水柠檬酸三钠30‑50%、聚乙二醇4‑5%、微生物8‑10%。本发明优点：对餐具上的植物油、牛油、猪油、蛋白渍、淀粉渍等有高效的洗脱及分解能力；细菌在生长繁殖阶段将食物残渣作为营养物质，能够降低餐饮废水的COD值，减少餐饮废水的排放；高效抑菌，产品无强碱性/腐蚀性的成分，不含磷酸盐及表面活性剂，能够完全生物降解，对水生生物无毒性，清洗后无残留对人体无影响；易存储、保存时间长。 | ||||||
| 154 | 包括1，1-二氟乙烯的组合物 | CN202110778919.3 | 2018-05-17 | CN113897179A | 2022-01-07 | 罗伯特·洛 |
| 一种包括1,1‑二氟乙烯的组合物，其包括：(i)1,1‑二氟乙烯(偏二氟乙烯，R‑1132a)；(ii)二氧化碳(CO2，R‑744)；(iii)五氟乙烷(R‑125)；以及(iv)三氟甲烷(R‑23)和六氟乙烷(R‑116)中的一种或多种。 | ||||||
| 155 | 一种用于生成清洁棉片的气雾喷剂及其制备方法 | CN202110915214.1 | 2021-08-10 | CN113773925A | 2021-12-10 | 李子柏; 潘塨芷; 谢志平 |
| 本发明公开了一种用于生成清洁棉片的气雾喷剂，包括如下重量份的组分：推进剂20‑75份，水10‑30份，成膜剂4‑15份，塑形剂4‑10份，保湿剂0.5‑3份。本发明采用硬脂酸作为塑形剂，利用硬脂酸溶于推进剂，其他组分溶于水中的特性，结合推进剂喷出液化吸热的原理，使得包裹粑粑的气雾剂快速冷却固化，以便于将宠物粑粑进行包裹固化丢弃；本发明气雾喷剂中可添加消毒剂，对宠物粑粑进行消毒处理，亦可喷在掌心按压成片，对手部擦拭消毒清洁；本发明气雾喷剂中可添加不同芳香剂，喷雾的形式释放出来，便于更好的将宠物粑粑进行覆盖，有助消除宠物粑粑引起的异味。 | ||||||
| 156 | 一种半导体零部件洁净清洗工艺 | CN202010680989.0 | 2020-07-15 | CN113770100A | 2021-12-10 | 陈如明; 陈彩丽; 卜庆磊 |
| 本发明公开了一种半导体零部件洁净清洗工艺，包括以下步骤：A、首先将半导体零部件放入温水中水流冲洗，时间为20min‑30min；B、之后将半导体零部件放入清洗机中，并加入清洗剂，采用超声清洗，时间为30min‑50min；C、之后将清洗后的零部件放入冷水中水流冲洗，时间为30min‑40min；D、将冷水清洗后的半导体零部件加入浓度为3％的氢氟酸和浓度为20％的硝酸进行酸蚀处理，时间为4min‑8min；E、最后将酸蚀处理后的零部件放入超声机进行二次超声处理；F、将清洗后的零部件放入氮气氛围中吹干，本发明采用的清洗工艺操作简单，清洗效果好，能够有效去除灰尘粒子、金属离子、油污、脏污，确保半导体零部件的性能。 | ||||||
| 157 | 一种洗衣龙用多功能中和酸剂及其制作工艺 | CN202010029906.1 | 2020-01-13 | CN111139150B | 2021-12-03 | 肖智泉 |
| 本发明公开了一种洗衣龙用多功能中和酸剂及其制作工艺，中和酸剂包括以下质量百分数的组分：甲基甘氨酸二乙酸三钠1‑5％、40％纯度的二乙撑三胺五乙酸2‑6％、荧光增白剂0.01‑0.5％、氨基磺酸12‑20％、柠檬酸1‑5％、草酸1‑5％、氢氟酸0.01‑0.2％、乙醇2‑6％，余量为去离子水。本发明提供的洗衣龙用多功能中和酸剂，制作简单、实用，中和效能好，能快速同步完成过酸中和、柔软抗静电、增白处理。本发明提供的中和酸剂，不仅中和碱性物质，还能有效去除沉积在公用纺织品上的钙、镁、铁离子以及其它污垢沉积物，有效避免纺织物经反复洗涤后泛灰发黄，使其白度值长期保持﹥70度；使用该中和酸剂后能使公用纺织品湿态下pH值为5‑7，避免洗涤后的公用纺织品对人体皮肤产生刺激引起皮肤瘙痒。 | ||||||
| 158 | 一种高性能电子产品印制板组装件中性半水基清洗剂及其制备方法和应用 | CN202110752359.4 | 2021-07-02 | CN113667551A | 2021-11-19 | 崔岩; 冯侠; 高超; 李闯 |
| 本发明公开了一种高性能电子产品印制板组装件中性半水基清洗剂，其原料组成成分及重量份数为：二元醇醚酯溶剂30‑50份、脂肪族二元醇15‑35份、促进剂5‑15份、炔二醇活性剂3‑10份、苯并三氮唑衍生物0.05‑1份、羟基羧酸0.5‑3份、DI水补足至100份。本发明清洗剂为均一透明液体，中性产品(pH＝7.50±0.50)；具有优良的高低温稳定性，无闪点，使用、运输和储存安全；不产生泡沫，易漂洗。 | ||||||
| 159 | 一种用于在半导体晶圆清洗过程中的化学机械研磨后的清洗组合物 | CN202110805013.6 | 2021-07-16 | CN113652317A | 2021-11-16 | 孙秀岩; 苏俊; 金徽; 王倩; 郭磊 |
| 本发明涉及一种用于在半导体晶圆清洗过程中的化学机械研磨后的清洗组合物，包括所述清洗组合物按照以下质量百分比的原料制成：有机碱的质量百分比1～20％，氨基酸络合剂的质量百分比0.05～20％，含氮的杂环化合物的质量百分比0.05～20％，水的质量百分比60～99％。本发明的清洗组合物，包含氨基酸为络合剂，增加对化学机械研磨后金属表面金属离子的络合，通过金属腐蚀抑制剂的选择与添加，抑制金属钴表面清洗过程中的腐蚀，保护金属钴表面，保证产品精确性，通过清洗组合物清洗抛光后的含金属的晶片，可去除抛光后晶片表面残留的研磨颗粒、金属离子等残留，降低金属表面粗燥度，降低清洗后表面缺陷，防止晶片在等待下一步工序过程中可能产生的金属腐蚀。 | ||||||
| 160 | 一种不含季铵碱的清洗液 | CN202110787696.7 | 2021-07-13 | CN113652316A | 2021-11-16 | 孙秀岩; 王倩; 郭磊; 苏俊; 金徽 |
| 本发明涉及一种不含季铵碱的清洗液，所述清洗液按照以下质量百分比的原料制成：胍或胍的衍生物的质量百分比1～20％，链烷醇胺的质量百分比1～20％，含氮的杂环的化合物金属腐蚀阻止剂的质量百分比0.01～10％，水的浓度为质量百分比60～99％。本发明中的清洗液不含季铵碱和易分解的抗氧化剂类金属阻止剂，并且有较好的环境稳定性，具有高效的铜表面有机残留物和研磨粒子去除能力，具有较低的铜的腐蚀速率和铜的表面粗糙度，还不会对铜表面产生吸附。 | ||||||
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