流体处理系统
专利汇可以提供流体处理系统专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且本 发明 公开一种 流体 处理系统，包括：流体处理腔室，包括流体入口、流体出口和流体处理区域；细长 辐射 源组件，包括被配置为设置在流体处理区域中的细长辐射源；以及 灯座 元件，固定到所述流体处理腔室的近端侧部分，所述灯座元件配置为仅当所述流体处理腔室是未被流体加压时才从所述细长辐射源组件脱离。，下面是流体处理系统专利的具体信息内容。
1.一种流体处理系统，包括：
流体处理腔室，包括流体入口、流体出口和流体处理区域；
细长辐射源组件，包括被配置为设置在流体处理区域中的细长辐射源；
灯座元件，固定到所述流体处理腔室的近端侧部分，所述灯座元件配置为仅当所述流体处理腔室未被流体加压时才从所述细长辐射源组件脱离；以及
第一锁定元件，所述第一锁定元件被配置为能够在当所述流体处理腔室被流体加压时的第一锁定位置与当所述流体处理腔室未被流体加压时的第二解锁位置之间操作，其中所述细长辐射源组件还包括第二锁定元件，所述第二锁定元件配置为能够在所述第一锁定位置与所述第一锁定元件接合，
其中所述第一锁定元件包括环形元件。
2.根据权利要求1所述的流体处理系统，其中所述第一锁定元件能够相对于所述灯座元件移动。
3.根据权利要求1所述的流体处理系统，其中所述第一锁定元件相对于所述灯座元件能够滑动地移动。
4.根据权利要求1所述的流体处理系统，其中所述第一锁定元件相对于所述灯座元件能够旋转地移动。
5.根据权利要求1所述的流体处理系统，其中所述环形元件包括至少一个第一接收元件，所述至少一个第一接收元件用于在所述第一锁定位置中与所述第二锁定元件接合。
6.根据权利要求5所述的流体处理系统，其中所述第二锁定元件包括至少一个接片元件，所述至少一个接片元件用于在所述第一锁定位置中与所述至少一个接收元件接合。
7.根据权利要求5至6中任一项所述的流体处理系统，其中所述环形元件还包括至少一个第二接收元件，所述至少一个第二接收元件配置为允许所述第二锁定元件在所述第一锁定元件处于第二解锁位置时与所述环形元件脱离。
8.根据权利要求1所述的流体处理系统，其中所述环形元件包括多个第一接收元件，所述多个第一接收元件用于在所述第一锁定位置中与所述第二锁定元件接合。
9.根据权利要求8所述的流体处理系统，其中所述第二锁定元件包括多个接片元件，所述多个接片元件用于在所述第一锁定位置中与所述多个第一接收元件接合。
10.根据权利要求8-9中任一项所述的流体处理系统，其中所述环形元件还包括多个第二接收元件，所述多个第二接收元件配置为允许所述第二锁定元件在所述第一锁定元件处于所述第二解锁位置中时与所述环形元件脱离。
11.根据权利要求1所述的流体处理系统，其中所述环形元件包括用于在所述第一锁定位置中与所述第二锁定元件接合的一对相对的第一接收元件。
12.根据权利要求11所述的流体处理系统，其中所述第二锁定元件包括一对相对的接片元件，所述一对相对的接片元件用于在所述第一锁定位置中与所述一对相对的第一接收元件接合。
13.根据权利要求11-12中任一项所述的流体处理系统，其中所述环形元件还包括一对相对的第二接收元件，所述一对相对的第二接收元件配置为允许所述第二锁定元件在所述第一锁定元件处于所述第二解锁位置中时与所述环形元件脱离。
14.根据权利要求1所述的流体处理系统，其中所述环形元件包括用于在所述第一锁定位置与所述第二锁定元件接合的一对径向对置的第一接收元件。
15.根据权利要求14所述的流体处理系统，其中所述第二锁定元件包括用于在所述第一锁定位置中与所述一对径向对置的第一接收元件接合的一对径向对置的接片元件。
16.根据权利要求11-12中任一项所述的流体处理系统，其中，所述环形元件还包括一对径向对置的第二接收元件，所述一对径向对置的第二接收元件配置为允许所述第二锁定元件在所述第一锁定元件处于所述第二解锁位置中时与所述环形元件脱离。
17.根据权利要求1-6中任一项所述的流体处理系统，其中第一锁定元件还包括固定在环上的锁定转盘元件。
18.根据权利要求17所述的流体处理系统，其中所述锁定转盘元件包括用户致动部分。
19.根据权利要求18所述的流体处理系统，其中所述第一锁定元件还包括第一可视标记，当所述第一锁定元件处于所述第一锁定位置时，第一可视标记定位成与所述用户致动部分实质上相邻。
20.根据权利要求18所述的流体处理系统，其中所述第一锁定元件还包括第二可视标记，当所述第一锁定元件处于所述第二解锁位置时，所述第二可视标记定位成与所述用户致动部分实质上相邻。
21.根据权利要求1至6中任一项所述的流体处理系统，其中，所述灯座元件包括电连接器的第一半部，并且所述辐射源组件包括电连接器的第二半部，所述第一半部和所述第二半部被配置为在第一位置中电连接。
22.根据权利要求1至6中任一项所述的流体处理系统，其中所述灯座元件包括电连接器的第一半部，并且所述辐射源组件包括电连接器的第二半部，所述第一半部和所述第二半部被配置为在第二位置中电断开。
23.根据权利要求1至6中任一项所述的流体处理系统，其中，所述灯座元件包括电连接器的第一半部，并且所述辐射源组件包括电连接器的第二半部，所述第一半部和所述第二半部被配置为：(i)在第一位置中电连接，并且(ii)在第二位置中电断开。
24.根据权利要求23所述的流体处理系统，其中所述第一半部和所述第二半部之间的所述电连接相对于所述流体处理腔室处于间隔关系。
25.根据权利要求1-6中任一项所述的流体处理系统，进一步包括设置在所述流体处理腔室中的偏置元件，所述偏置元件被配置为沿着朝向所述灯座元件的方向在所述细长辐射源上施加力。
26.根据权利要求25所述的流体处理系统，其中所述偏置元件设置在所述流体处理腔室的远端侧部分中，所述偏置元件配置为沿着朝向所述灯座元件的方向在所述细长辐射源的远端侧部分上施加力。
27.根据权利要求25所述的流体处理系统，其中所述偏置元件包括弹簧元件。
28.根据权利要求25所述的流体处理系统，其中所述偏置元件包括螺旋弹簧元件。
29.根据权利要求27-28中任一项所述的流体处理系统，其中所述弹簧元件包括可变直径。
30.一种流体处理系统，包括：
流体处理腔室，包括流体入口、流体出口和流体处理区域；
灯座元件，所述灯座元件固定到所述流体处理腔室的近端侧部分，所述灯座元件包括第一锁定元件，所述第一锁定元件被配置为能够在所述流体处理腔室被流体加压时的第一锁定位置与在所述流体处理腔室未被流体加压时的第二解锁位置之间操作；
细长辐射源组件，配置为设置在所述流体处理区域中并且包括细长辐射源和第二锁定元件；
其中所述第一锁定元件和所述第二锁定元件配置为不可逆地接合在所述第一锁定位置中，
其中所述细长辐射源组件还包括第二锁定元件，所述第二锁定元件配置为在所述第一锁定位置中与所述第一锁定元件接合，
其中所述第一锁定元件包括环形元件。
31.根据权利要求30所述的流体处理系统，其中所述第一锁定元件相对于所述灯座元件能够移动。
32.根据权利要求30所述的流体处理系统，其中所述第一锁定元件相对于所述灯座元件能够滑动地移动。
33.根据权利要求30所述的流体处理系统，其中所述第一锁定元件相对于所述灯座元件能够旋转地移动。
34.根据权利要求30所述的流体处理系统，其中所述环形元件包括至少一个第一接收元件，所述至少一个第一接收元件用于在所述第一锁定位置中与所述第二锁定元件接合。
35.根据权利要求34所述的流体处理系统，其中第二锁定元件包括至少一个接片元件，所述至少一个接片元件用于在所述第一锁定位置中与所述至少一个接收元件接合。
36.根据权利要求34-35中任一项所述的流体处理系统，其中所述环形元件还包括至少一个第二接收元件，所述至少一个第二接收元件配置为允许所述第二锁定元件在所述第一锁定元件处于所述第二解锁位置中时与所述环形元件脱离。
37.根据权利要求30所述的流体处理系统，其中所述环形元件包括多个第一接收元件，所述多个第一接收元件用于在所述第一锁定位置中与所述第二锁定元件接合。
38.根据权利要求37所述的流体处理系统，其中所述第二锁定元件包括多个接片元件，所述多个接片元件用于在所述第一锁定位置中与所述多个第一接收元件接合。
39.根据权利要求37至38中任一项所述的流体处理系统，其中所述环形元件还包括多个第二接收元件，所述多个第二接收元件配置为允许所述第二锁定元件在所述第一锁定元件处于所述第二解锁位置中时与所述环形元件脱离。
40.根据权利要求30所述的流体处理系统，其中所述环形元件包括一对相对的第一接收元件，所述一对相对的第一接收元件用于在所述第一锁定位置中与所述第二锁定元件接合。
41.根据权利要求40所述的流体处理系统，其中所述第二锁定元件包括一对相对的接片元件，所述一对相对的接片元件用于在所述第一锁定位置与所述一对相对的第一接收元件接合。
42.根据权利要求40-41中任一项所述的流体处理系统，其中所述环形元件还包括一对相对的第二接收元件，所述一对相对的第二接收元件配置为允许所述第二锁定元件在所述第一锁定元件处于所述第二解锁位置中时与所述环形元件脱离。
43.根据权利要求30所述的流体处理系统，其中所述环形元件包括一对径向对置的第一接收元件，所述一对径向对置的第一接收元件用于在所述第一锁定位置与所述第二锁定元件接合。
44.根据权利要求43所述的流体处理系统，其中所述第二锁定元件包括一对径向对置的接片元件，所述一对径向对置的接片元件用于在所述第一锁定位置中与所述一对径向对置的第一接收元件接合。
45.根据权利要求43-44中任一项所述的流体处理系统，其中所述环形元件还包括一对径向对置的第二接收元件，所述一对径向对置的第二接收元件配置为允许所述第二锁定元件在所述第一锁定元件处于所述第二解锁位置中时与所述环形元件脱离。
46.根据权利要求30-35中任一项所述的流体处理系统，其中第一锁定元件还包括固定在环上的锁定转盘元件。
47.根据权利要求46所述的流体处理系统，其中锁定转盘元件包括用户致动部分。
48.根据权利要求47所述的流体处理系统，其中所述第一锁定元件还包括第一可视标记，当所述第一锁定元件处于所述第一锁定位置时，所述第一可视标记实质上邻近所述用户致动部分定位。
49.根据权利要求47所述的流体处理系统，其中所述第一锁定元件还包括第二可视标记，当所述第一锁定元件处于所述第二解锁位置时，所述第二可视标记实质上邻近所述用户致动部分定位。
50.根据权利要求30-35中任何一项所述的流体处理系统，其中所述灯座元件包括电连接器的第一半部，并且所述辐射源组件包括电连接器的第二半部，所述第一半部和所述第二半部被配置为在第一位置中电连接。
51.根据权利要求30-35中任一项所述的流体处理系统，其中所述灯座元件包括电连接器的第一半部，所述辐射源组件包括电连接器的第二半部，所述第一半部和所述第二半部被配置为第二位置中电断开。
52.根据权利要求30-35中任一项所述的流体处理系统，其中所述灯座元件包括电连接器的第一半部，并且所述辐射源组件包括电连接器的第二半部，所述第一半部和所述第二半部被配置为：(i)在第一位置中电连接，并且(ii)在第二位置中电断开。
53.根据权利要求52所述的流体处理系统，其中所述第一半部和所述第二半部之间的电连接相对于所述流体处理腔室处于间隔关系。
54.根据权利要求30-35中任何一项所述的流体处理系统，还包括设置在流体处理腔室中的偏置元件，所述偏置元件配置为沿着朝向灯座元件的方向在细长辐射源上施加力。
55.根据权利要求54所述的流体处理系统，其中所述偏置元件设置在所述流体处理腔室的远端侧部分中，所述偏置元件配置为沿着朝向所述灯座元件的方向在所述细长辐射源的远端侧部分上施加力。
56.根据权利要求54所述的流体处理系统，其中所述偏置元件包括弹簧元件。
57.根据权利要求54所述的流体处理系统，其中所述偏置元件包括螺旋弹簧元件。
58.根据权利要求56-57中任一项所述的流体处理系统，其中弹簧元件包括可变的直径。
流体处理系统
技术领域
背景技术
发明内容
附图说明
具体实施方式
165滑动，锁定转盘135被置于“解锁”位置-参见图4-5。
105，所产生的加压避免或减轻使用者以错误的和/或无意的尝试以从流体处理腔室105中试图和撤出辐射源组件10以在箭头A的方向按压低辐射源组件10的能力。这表示了与本发明流体处理系统相关的显着的安全优势。
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