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一种流体蒸发

阅读:1041发布:2020-05-12

专利汇可以提供一种流体蒸发专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本 发明 公开了一种 流体 蒸发 器 ,包括釜体及设置在釜体内的 蒸发器 ,所述蒸发器包括搅拌轴、第一 轮毂 和第二轮毂,所述第一轮毂和第二轮毂分别同轴心设置在立轴的中部和下端,所述第一轮毂的外圆至少均布有2个指向第一轮毂外侧的第一连接板,所述第一连接板外端设置有第一连接槽,所述第二轮毂的外圆设置有与第一连接板同向且同数量的第二连接板,所述第二连接板的外端设置有与第一连接槽相对应的第二连接槽,所述第一连接槽和第二连接槽之间设置有自吸分布器。本发明主要解决了化工、制药等行业流体物料的 传热 、蒸发、浓缩反应时间长效率低等问题,大大提高了传热面积,旋转同时液体内形成 对流 ,缩短了传热时间,提高蒸发、浓缩效率。,下面是一种流体蒸发专利的具体信息内容。

1.一种流体蒸发器,包括釜体及设置在釜体内的蒸发器,其特征在于,所述蒸发器包括搅拌轴、第一轮毂和第二轮毂,所述第一轮毂和第二轮毂分别同轴心设置在搅拌轴的中部和下端,所述第一轮毂的外圆至少均布有2个指向第一轮毂外侧的第一连接板,所述第一连接板外端设置有第一连接槽,所述第二轮毂的外圆设置有与第一连接板同向且同数量的第二连接板,所述第二连接板的外端设置有与第一连接槽相对应的第二连接槽,所述第一连接槽和第二连接槽之间设置有自吸分布器。
2.根据权利要求1所述的流体蒸发器,其特征在于,所述第一连接板设置有2-4个,所述自吸分布器与第一连接板数量一致。
3.根据权利要求1所述的流体蒸发器,其特征在于,所述自吸分布器与搅拌轴之间成
10°~45°设置。
4.根据权利要求1所述的流体蒸发器,其特征在于,所述自吸分布器为第一条形板和第二条形板相交组成的V形结构,第一条形板和第二条形板的宽度相等或者第一条形板的宽度大于第二条形板的宽度,所述第一条形板和第二条形板为一体化结构。
5.根据权利要求1所述的流体蒸发器,其特征在于,所述自吸分布器为第一L形板和第二L形板相交组成的凹槽形结构,第一L形板和第二L形板的高度相等或者第一L形板的高度大于第二L形板的高度,所述第一L形板和第二L形板为一体化结构。
6.根据权利要求1所述的流体蒸发器,其特征在于,所述自吸分布器为第一弧形板和第二弧形板相交组成的半圆形结构,第一弧形板和第二弧形板的高度相等或者第一弧形板的高度大于第二弧形板的高度,所述第一弧形板和第二弧形板为一体化结构。
7.根据权利要求4、5或6所述的流体蒸发器,其特征在于,所述第一条形板和第二条形板之间的开口、第一L形板和第二L形板之间的开口,第一弧形板和第二弧形板之间的开口均为30-150mm。
8.根据权利要求1所述的流体蒸发器,其特征在于,所述自吸分布器上端离釜体内壁距离为50-300 mm。

说明书全文

一种流体蒸发

技术领域

[0001] 本发明涉及蒸发器,特别涉及一种流体蒸发器。

背景技术

[0002] 在精细化工、食品制药及化妆品等行业中经常涉及到传热、蒸发、浓缩反应的工况。将产品防止的容器或者时反应釜内进行蒸发、反应等生产,而在实际的工作过程中釜内物料会越来越少,接触面积越来越小,传热、蒸发、浓缩越来越慢,尤其在蒸发、浓缩后期,时间会占到前期工作的一半,大大降低了工作效率。还有一些需要做精细物料的,因物料不能长时间在高温下加工,所以需要快速完成整个蒸发缩合过程。
[0003] 现有技术中的蒸发器,蒸发器在使用过程中,无法扩大物料与釜体接触面积,且只有搅拌过程中才能形成物料对流的局面,因此造成传热慢、蒸发、缩合效率低问题。

发明内容

[0004] 本发明主要解决的技术问题是提供一种流体蒸发器,大大提高了传热面积,旋转同时液体内形成对流,缩短了传热时间,提高蒸发、浓缩效率。
[0005] 为解决上述技术问题,本发明采用的一个技术方案是:提供一种流体蒸发器,包括釜体及设置在釜体内的蒸发器,所述蒸发器包括搅拌轴、第一轮毂和第二轮毂,所述第一轮毂和第二轮毂分别同轴心设置在立轴的中部和下端,所述第一轮毂的外圆至少均布有2个指向第一轮毂外侧的第一连接板,所述第一连接板外端设置有第一连接槽,所述第二轮毂的外圆设置有与第一连接板同向且同数量的第二连接板,所述第二连接板的外端设置有与第一连接槽相对应的第二连接槽,所述第一连接槽和第二连接槽之间设置有自吸分布器。
[0006] 在本发明一个较佳实例中,所述第一连接板设置有2-4个,所述自吸分布器与第一连接板数量一致。
[0007] 在本发明一个较佳实例中,所述自吸分布器与搅拌轴之间成10°~45°设置。
[0008] 在本发明一个较佳实例中,所述自吸分布器为第一条形板和第二条形板相交组成的V形结构,第一条形板和第二条形板的宽度相等或者第一条形板的宽度大于第二条形板的宽度,所述第一条形板和第二条形板为一体化结构。
[0009] 在本发明一个较佳实例中,所述自吸分布器为第一L形板和第二L形板相交组成的凹槽形结构,第一L形板和第二L形板的高度相等或者第一L形板的高度大于第二L形板的高度,所述第一L形板和第二L形板为一体化结构。
[0010] 在本发明一个较佳实例中,所述自吸分布器为第一弧形板和第二弧形板相交组成的半圆形结构,第一弧形板和第二弧形板的高度相等或者第一弧形板的宽度大于第二弧形板的高度,所述第一弧形板和第二弧形板为一体化结构。
[0011] 在本发明一个较佳实例中,所述第一条形板和第二条形板之间的开口、第一L形板和第二L形板之间的开口,第一弧形板和第二弧形板之间的开口均为30-150mm。
[0012] 在本发明一个较佳实例中,所述自吸分布器上端离釜体内壁距离为50-300 mm。
[0013] 本发明的有益效果是:本发明指出的一种流体蒸发器,自吸分布器高速旋转时把物料抽送到自吸分布器上端喷洒到容器或釜壁上,这样直接扩大物料与釜体接触面积,同时物料内部形成对流,改变了传统搅拌只有物料对流的局面,解决当前传热慢、蒸发、缩合效率低问题。附图说明
[0014] 为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其它的附图,其中:图1是本发明一种流体蒸发器一较佳实施例的结构示意图;
图2是图1的蒸发器的俯视图;
图3是图1中自吸分布器2横截面结构示意图;
图4是图1中自吸分布器2横截面结构示意图;
图5是图1中自吸分布器2横截面结构示意图;
图6是图1中自吸分布器2横截面结构示意图;
图7是图1中自吸分布器2横截面结构示意图;
图8是图1中自吸分布器2横截面结构示意图;
图9是本发明的物料前期工作原理图;
图10是本发明的物料后期工作原理图。

具体实施方式

[0015] 下面将对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅是本发明的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例,都属于本发明保护的范围。
[0016] 请参阅图1至图10,本发明实施例包括:一种流体蒸发器,包括釜体及设置在釜体内的蒸发器1,所述蒸发器1包括搅拌轴11、第一轮毂12和第二轮毂13,所述第一轮毂12和第二轮毂13分别同轴心设置在搅拌轴11的中部和下端,所述第一轮毂12的外圆至少均布有2个指向第一轮毂12外侧的第一连接板14,所述第一连接板14外端设置有第一连接槽15,所述第二轮毂13的外圆设置有与第一连接板14同向且同数量的第二连接板16,所述第二连接板16的外端设置有与第一连接槽15相对应的第二连接槽17,所述第一连接槽14和第二连接槽17之间设置有自吸分布器2。
[0017] 进一步,所述第一连接板14设置有2-4个,所述自吸分布器2与第一连接板14数量一致。
[0018] 进一步,所述自吸分布器2与搅拌轴11之间成10°~45°设置。
[0019] 进一步,所述自吸分布器2为第一条形板21和第二条形板22相交组成的V形结构或者所述自吸分布器2为第一L形板21和第二L形板22相交组成的凹槽形结构;再或者所述自吸分布器2为第一弧形板21和第二弧形板22相交组成的半圆形结构形结构,第一条形板21和第二条形板22的宽度相等或者第一L形板21的宽度大于第二条形板22的宽度,或者第一L形板21和第二L形板22的高度相等或者第一L形板21的高度大于第二L形板22的高度,再或者第一弧形板21和第二弧形板22的高度相等或者第一弧形板21的高度大于第二弧形板22的高度,使用时,根据实际选择不同横截面的自吸分布器。
[0020] 进一步,第一条形板21和第二条形板22为一体化结构,第一条形板21和第二条形板22的开口为30-150mm。
[0021] 进一步,所述自吸分布器上端离釜体内壁距离为50-300 mm。
[0022] 上述中,自吸分布器数量以及其与搅拌轴的夹可以根据工艺需求及釜体尺寸做调整。
[0023] 工作时,物料与釜体接触面积始终不变。当流体蒸发器高速转动时,在离心作用下,自吸分布器2上端与下端形成压力差,将物料从下端吸到上端,并均匀的喷洒到釜体壁,在重力作用下物料沿釜体壁流淌,形成薄膜,流体薄膜与釜壁外侧的传热系统进行热传递。
[0024] 综上所述,本发明指出的一种流体蒸发器,自吸分布器高速旋转时把物料抽送到自吸分布器上端喷洒到容器或釜壁上,这样直接扩大物料与釜体接触面积,同时物料内部形成对流,改变了传统搅拌只有物料对流的局面,解决当前传热慢、蒸发、缩合效率低问题。
[0025] 以上所述仅为本发明的实施例,并非因此限制本发明的专利范围,凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换,或直接或间接运用在其它相关的技术领域,均同理包括在本发明的专利保护范围内。
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