蒸发镀膜装置及镀膜系统
阅读：961发布：2023-03-03
专利汇可以提供蒸发镀膜装置及镀膜系统专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且本 申请 涉及 真空 镀 膜 技术领域，尤其是涉及一种 蒸发 镀膜装置及镀膜系统，一种蒸发镀膜装置包括镀膜室、抽真空机构和 支撑 架；所述抽真空机构用于对所述镀膜室抽真空，所述支撑架设置在所述镀膜室的底部，且用于支撑所述镀膜室；所述抽真空装置包括机械 泵 、罗茨泵和 低温泵 ；所述机械泵至少设置有两个，至少两个所述机械泵与所述罗茨泵连通，所述罗茨泵的另一端与所述镀膜室连通，所述低温泵至少设置有两个，所述低温泵直接与所述镀膜室连通。本申请以机械泵和罗茨泵构成低真空获得系统，以低温泵为高真空获得系统，从而使占地面积小、结构更加紧凑；除此外，抽真空装置包括机械泵、罗茨泵和低温泵，能耗小，更适合中小型企业使用。(ESM)同样的 发明 创造已同日申请发明 专利，下面是蒸发镀膜装置及镀膜系统专利的具体信息内容。
1.一种蒸发镀膜装置，其特征在于，包括镀膜室、抽真空机构和支撑架；
所述抽真空机构用于对所述镀膜室抽真空，所述支撑架设置在所述镀膜室的底部，且用于支撑所述镀膜室；
所述抽真空装置包括机械泵、罗茨泵和低温泵；
所述机械泵至少设置有两个，至少两个所述机械泵与所述罗茨泵连通，所述罗茨泵的另一端与所述镀膜室连通，
所述低温泵至少设置有两个，所述低温泵直接与所述镀膜室连通。
2.根据权利要求1所述的蒸发镀膜装置，其特征在于，所述镀膜室内部为中空的腔体，所述镀膜室的腔体内部设置有加热组件、电子枪和坩埚组件；
所述电子枪设置在所述坩埚组件的一侧，所述电子枪用于对所述坩埚组件内部物料蒸发；所述镀膜室的腔体内部设置有所述加热组件，所述加热组件用于加快物料蒸发。
3.根据权利要求2所述的蒸发镀膜装置，其特征在于，所述镀膜室的腔体顶部设置有旋转组件，所述旋转组件能够带动带铸件旋转，所述旋转组件包括固定轴和旋转支撑架；所述固定轴固定在所述镀膜室顶部，且与电机连接；所述旋转支撑架设置有多个，多个所述旋转支撑架以所述固定轴为圆心，阵列排布。
4.根据权利要求3所述的蒸发镀膜装置，其特征在于，所述镀膜室的侧壁上设置有观察窗，所述观察窗上且靠近所述镀膜室的腔体侧设置有防污挡板。
5.根据权利要求4所述的蒸发镀膜装置，其特征在于，所述镀膜室的侧壁上设置有检修门。
6.根据权利要求5所述的蒸发镀膜装置，其特征在于，所述镀膜室的外侧壁上设置有水冷组件，水冷组件为蛇形缠绕在镀膜室外侧壁上的水管或水袋。
7.根据权利要求6所述的蒸发镀膜装置，其特征在于，所述镀膜室的腔体内部设置有晶控测厚仪，晶控测厚仪用于检测带铸件厚度。
8.根据权利要求2所述的蒸发镀膜装置，其特征在于，所述加热组件设置为卤素灯。
9.根据权利要求5所述的蒸发镀膜装置，其特征在于，所述支撑架的一端设置有阶梯踏板，所述阶梯踏板靠近所述检修门一端设置。
10.一种镀膜系统，其特征在于，包括权利要求1至9中任一项所述的蒸发镀膜装置。
蒸发镀膜装置及镀膜系统
技术领域
背景技术
[0003] 因此如何提供一种蒸发镀膜装置及镀膜系统，从而提高蒸发镀膜装置的结构且能耗小，已成为本领域技术人员亟需解决的技术问题。实用新型内容
[0004] 本申请的目的在于提供一种蒸发镀膜装置及镀膜系统，以解决现有技术中存在的蒸发镀膜装置结构复杂、能耗大的技术问题。
[0005] 本申请提供了一种蒸发镀膜装置，包括镀膜室、抽真空机构和支撑架；
[0006] 所述抽真空机构用于对所述镀膜室抽真空，所述支撑架设置在所述镀膜室的底部，且用于支撑所述镀膜室；
[0007] 所述抽真空装置包括机械泵、罗茨泵和低温泵；
[0008] 所述机械泵至少设置有两个，至少两个所述机械泵与所述罗茨泵连通，所述罗茨泵的另一端与所述镀膜室连通，
[0009] 所述低温泵至少设置有两个，所述低温泵直接与所述镀膜室连通。
[0011] 所述电子枪设置在所述坩埚组件的一侧，所述电子枪用于对所述坩埚组件内部物料蒸发；所述镀膜室的腔体内部设置有所述加热组件，所述加热组件用于加快物料蒸发。
[0012] 具体地，所述镀膜室的腔体顶部设置有旋转组件，所述旋转组件能够带动带铸件旋转，所述旋转组件包括固定轴和旋转支撑架；所述固定轴固定在所述镀膜室顶部，且与电机连接；所述旋转支撑架设置有多个，多个所述旋转支撑架以所述固定轴为圆心，阵列排布。
[0014] 具体地，所述镀膜室的侧壁上设置有检修门。
[0015] 具体地，所述镀膜室的外侧壁上设置有水冷组件，水冷组件为蛇形缠绕在镀膜室外侧壁上的水管或水袋。
[0016] 具体地，所述镀膜室的腔体内部设置有晶控测厚仪，晶控测厚仪用于检测带铸件厚度。
[0018] 具体地，所述支撑架的一端设置有阶梯踏板，所述阶梯踏板靠近所述检修门一端设置。
[0019] 本申请还提供一种镀膜系统，包括上述技术方案中任一项所述的蒸发镀膜装置。
[0020] 与现有技术相比，本申请的有益效果为：
[0021] 本申请提供一种蒸发镀膜装置，包括镀膜室、抽真空机构和支撑架；所述抽真空机构用于对所述镀膜室抽真空，所述支撑架设置在所述镀膜室的底部，且用于支撑所述镀膜室；所述抽真空装置包括机械泵、罗茨泵和低温泵；所述机械泵至少设置有两个，至少两个所述机械泵与所述罗茨泵连通，所述罗茨泵的另一端与所述镀膜室连通，所述低温泵至少设置有两个，所述低温泵直接与所述镀膜室连通。
[0022] 其一，本申请以机械泵和罗茨泵构成低真空获得系统，以低温泵为高真空获得系统，从而使占地面积小、结构更加紧凑；除此外，抽真空装置包括机械泵、罗茨泵和低温泵，能耗小，更适合中小型企业使用。
[0023] 其二，本申请利用机械泵+罗茨泵将腔体内形成低真空状态后，利用低温泵将腔体内达到高真空状态。
[0024] 其三，本申请为光学薄膜器件镀膜生产而设计，总体结构满足光学薄膜生产工艺的要求,适用于AR膜等光学薄膜，颜色膜，NCVM非导金属化薄膜，金属膜，AF保护膜等装饰和功能性薄膜的加工，是高精度光学薄膜的理想镀制设备。
[0026] 为了更清楚地说明本申请具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本申请的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0028] 图2为本申请实施例提供的蒸发镀膜装置的第二视角下结构示意图；
[0029] 图3为本申请实施例提供的蒸发镀膜装置的第三视角下结构示意图；
[0030] 图4为本申请实施例提供的蒸发镀膜装置的第四视角下结构示意图；
[0031] 图5为本申请实施例提供的蒸发镀膜装置的第五视角下结构示意图；
[0032] 图6为本申请实施例提供的蒸发镀膜装置的第六视角下结构示意图。
[0033] 附图标记：
[0034] 100-镀膜室；101-加热组件；102-电子枪；103-坩埚组件；104-坩埚；105-端盖；106-连接杆；107-固定轴；108-旋转支架；109-观察窗；110-检修门；111-水冷组件；200-抽真空装置；201-罗茨泵；202-低温泵；300-支撑架；301-阶梯踏板。
具体实施方式
[0035] 下面将结合附图对本申请的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。
[0036] 通常在此处附图中描述和显示出的本申请实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。因此，以下对在附图中提供的本申请的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本申请的范围，而是仅仅表示本申请的选定实施例。
[0037] 基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。
[0038] 在本申请的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
[0039] 在本申请的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是装置械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。
[0040] 下面参照图1至图6描述根据本申请一些实施例所述的蒸发镀膜装置及镀膜系统，其中，图1为本申请实施例提供的蒸发镀膜装置的第一视角下结构示意图；图2为本申请实施例提供的蒸发镀膜装置的第二视角下结构示意图；图3为本申请实施例提供的蒸发镀膜装置的第三视角下结构示意图；图4为本申请实施例提供的蒸发镀膜装置的第四视角下结构示意图；图5为本申请实施例提供的蒸发镀膜装置的第五视角下结构示意图；图6为本申请实施例提供的蒸发镀膜装置的第六视角下结构示意图。
[0041] 结合图1-图6所示，本申请提供的一种蒸发镀膜装置，包括镀膜室100、抽真空机构和支撑架300；
[0042] 所述抽真空机构用于对所述镀膜室100抽真空，所述支撑架300设置在所述镀膜室100的底部，且用于支撑所述镀膜室100；
[0043] 所述抽真空装置200包括机械泵、罗茨泵201和低温泵202；
[0044] 所述机械泵至少设置有两个，至少两个所述机械泵与所述罗茨泵201连通，所述罗茨泵201的另一端与所述镀膜室100连通，
[0045] 所述低温泵202至少设置有四个，所述低温泵202直接与所述镀膜室100连通。
[0046] 与现有技术相比，本申请的有益效果为：
[0047] 本申请提供一种蒸发镀膜装置，包括镀膜室100、抽真空机构和支撑架300；所述抽真空机构用于对所述镀膜室100抽真空，所述支撑架300设置在所述镀膜室100的底部，且用于支撑所述镀膜室100；所述抽真空装置200包括机械泵、罗茨泵201和低温泵202；所述机械泵至少设置有两个，至少两个所述机械泵与所述罗茨泵201连通，所述罗茨泵201的另一端与所述镀膜室100连通，
[0048] 所述低温泵202至少设置有四个，所述低温泵202直接与所述镀膜室100连通。
[0049] 具体地，本申请以机械泵和罗茨泵201构成低真空获得系统，以低温
[0050] 泵为高真空获得系统，从而使占地面积小、结构更加紧凑；除此外，抽真空装置200包括机械泵、罗茨泵201和低温泵202，能耗小，更适合中小型企业使用。
[0051] 具体地，本申请利用机械泵+罗茨泵201将腔体内形成低真空状态后，利用低温泵202将腔体内达到高真空状态。
[0052] 更具体地，本申请为光学薄膜器件镀膜生产而设计，总体结构满足光学薄膜生产工艺的要求,适用于AR膜等光学薄膜，颜色膜，NCVM非导金属化薄膜，金属膜，AF保护膜等装饰和功能性薄膜的加工，是高精度光学薄膜的理想镀制设备。
[0053] 在本申请的一个实施例中，结合图1-图6所示，本申请中所述镀膜室100内部为中空的腔体，所述镀膜室100的腔体内部设置有加热组件101、电子枪102和坩埚组件103；
[0054] 所述电子枪102设置在所述坩埚组件103的一侧，所述电子枪102用于对所述坩埚组件103内部物料蒸发；所述镀膜室100的腔体内部设置有所述加热组件101，所述加热组件101用于加快物料蒸发。
[0056] 具体地，所述镀膜室100的尺寸优选为：(内径*内高)设置为ф2700mm×H1650m。
[0057] 更具体地，电子枪102是产生、加速及会聚高能量密度电子束流的装置，它发射出具有一定能量、一定束流以及速度和角度的电子束，又称电子注；在电子枪102里，灯丝，一般是钨丝，通电加热后，表面产生大量的热电子，在阳极和阴极之间的高压电场作用下，热电子加速向阳极方向高速移动，并获得很高的动能，其具体速度值取决于加速电压的高低，一般可以达到光速的三分之二左右，在聚焦线圈的作用下可使电子束流聚焦，在导向线圈，又称偏转线圈的作用下可使电子束发生偏转，从而在一定范围内进行扫描；电子枪102的工作电压通常在几十到几百千伏之间，为防止高压击穿、束流散射及其能量减损，电子枪102的真空度须保持在6.67x10^-2帕以上。
[0058] 本申请配置性能优良的电子枪102、可选考霍尔型离子源用于离子辅助电子束蒸发镀膜方式，在保证高精密度光学特性的同时,膜层残余应力低、均匀性好、致密度高；高自动化程度的膜厚及膜控制系统，提供高水平的膜厚控制精度和人性化的操控。
[0059] 具体地，加热组件101至少四组，四组加热组件101间隔设置，更具体地，加热组件101优选为碘钨灯，加热组件101能够增加镀膜室100内抽气的速率，增加气体分子的运动速度，进而实现更好的镀膜。
[0060] 具体地，坩埚组件103包括坩埚104、端盖105和连接杆106，坩埚104上设置有端盖105，端盖105上设置有连接杆106，连接杆106的另一端与电机输出轴连接，电机利用控制系统进行控制，当需要向坩埚104内部添加物料或者是利用电子枪102对物料进行蒸发作用时，控制电机，利用连接杆106将端盖105从坩埚104上面移开，当不需要向坩埚104内部添加物料，或者是不需利用电子枪102对坩内部的物料进行蒸发作用时，驱动电机，带动连接杆
106，从而使端盖105盖在坩埚104上。
106，从而使端盖105盖在坩埚104上。
[0061] 在本申请的一个实施例中，结合图1-图6所示，本申请中所述镀膜室100的腔体顶部设置有旋转组件，所述旋转组件能够带动带铸件旋转，所述旋转组件包括固定轴107和旋转支撑架300；所述固定轴107固定在所述镀膜室100顶部，且与电机连接；所述旋转支撑架300设置有多个，多个所述旋转支撑架300以所述固定轴107为圆心，阵列排布。
[0062] 具体地，开启电机，电机的输出轴带动所述固定轴107的旋转，所述
[0063] 固定轴107的旋转带动所述旋转支撑架300的旋转，从而带动带铸件的旋转，从而实现对带铸件的均匀铸造。
[0064] 在本申请的一个实施例中，结合图1-图6所示，本申请中所述镀膜室100的侧壁上设置有观察窗109，所述观察窗109上且靠近所述镀膜室100的腔体侧设置有防污挡板。
[0065] 具体地，镀膜室100的侧壁设置有观察窗109，观察窗109用于观察镀膜室100内部的工作情况，实现实时监测的目的，更加便捷；具体地，观察窗109的数量设置有三个；更具体地，观察窗109设置为透明玻璃窗，且在透明玻璃窗的一侧、且靠近镀膜室100腔体的一侧设置有防污挡板，防污挡板用于阻挡蒸发的离子贴附在透明玻璃窗上，当需要通过观察窗109观察时，打开防污挡板，透过观察窗109观察，当不需要观察时，将防污挡板合到透明玻璃窗上。
[0066] 在本申请的一个实施例中，结合图1-图6所示，本申请中所述镀膜室100的侧壁上设置有检修门110。
[0067] 具体地，镀膜室100的侧壁上还设置有检修门110，检修门110方便检修，在实际的工作过程中，当连续真空镀膜装置出现部件的损坏，通过检修门110方便对连续真空镀膜装置中的小部件进行检修，具体地，在检修门110与镀膜室100连接处设置有密封胶圈，密封胶圈用于密封，使镀膜室100始终保持密封的状态，从而更好的实现对带铸件的镀膜。
[0068] 在本申请的一个实施例中，结合图1-图6所示，本申请中所述镀膜室100的外侧壁上设置有水冷组件111，水冷组件111为蛇形缠绕在镀膜室100外侧壁上的水管或水袋。
[0069] 具体地，且水管或者水袋的另一端连接制冷装置，制冷装置用于对水管或者是水袋内的水进行制冷，更具体地，制冷装置的型号优选选为JL0.3。
[0070] 在本申请的一个实施例中，结合图1-图6所示，本申请中所述镀膜室100的腔体内部设置有晶控测厚仪，晶控测厚仪用于完成光学的膜系设计和厚度监控。
[0071] 具体地，当厚度达到阈值，此时停止镀膜，具体地，晶控测厚仪采用磁感应原理时，利用从测头经过非铁磁覆层而流入铁磁基体的磁通的大小，来测定镀膜厚度，也可以测定与之对应的磁阻的大小，来表示其覆层厚度，覆层越厚，则磁阻越大，磁通越小，利用磁感应原理的晶控晶控测厚仪，原则上可以有导磁基体上的非导磁覆层厚度，一般要求基材导磁率在500以上，如果覆层材料也有磁性，则要求与基材的导磁率之差足够大。
[0072] 更具体地，镀膜室100内还设置有离子源，离子源用于增大离化率，当通过电压时，使镀膜室100内部充多氩离子，氩离子用于用于加快物料的蒸发。
[0073] 在本申请的一个实施例中，结合图1-图6所示，本申请中所述加热组件101设置为卤素灯。
[0074] 在本申请的一个实施例中，结合图1-图6所示，本申请中所述支撑架300的一端设置有阶梯踏板301，所述阶梯踏板301靠近所述检修门110一端设置。
[0075] 具体地，在实际的操作过程中，操作人员站在阶梯踏板301上，通过所述检修门110进行检修，方便操作。
[0076] 本申请还提供的镀膜系统，包括上述所述的蒸发镀膜装置，因而，镀膜系统具有占地面积小、结构更加紧凑和能耗小技术效果。
[0077] 最后应说明的是：以上各实施例仅用以说明本申请的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述各实施例对本申请进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本申请各实施例技术方案的范围。
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