专利汇可以提供用于处理玻璃基片或晶片的电子回旋共振除灰装置专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且一种ECR除灰装置,包括:除灰室,在其一侧设置有玻璃基片或晶片的插入口、除灰气体的排气口和供气部件;下 电极 ,在所述除灰室中,下电极上安装有玻璃基片或晶片,其中光阻材料施加到玻璃基片或晶片上;RF电源,用于对所述下电极提供电源;ECR源,包括 微波 产生部件、波 导管 、 等离子体 放电室和磁线圈,用于在所述除灰室中形成等离子体;电源,用于对所述ECR源提供电源;和扫描单元,用于驱动所述ECR源前后或左右移动。,下面是用于处理玻璃基片或晶片的电子回旋共振除灰装置专利的具体信息内容。
1.一种除灰装置,包括:
除灰室,在其一侧设置有处理对象用的插入口、除灰气体的排气口和 供气部件;
下电极,在所述除灰室中,下电极上安装有处理对象,其中光阻材料 施加到处理对象上;
RF电源,用于对所述下电极提供电源;
ECR源,包括微波产生部件、波导管、等离子体放电室和磁线圈,用 于在所述除灰室中形成等离子体;
电源,用于对所述ECR源提供电源;和
扫描单元,用于驱动所述ECR源前后或左右移动。
2.一种除灰装置,包括:
除灰室,在其一侧设置有处理对象用的插入口、除灰气体的排气口和 供气部件;
下电极,在所述除灰室中下电极上安装有处理对象,其中光阻材料施 加到处理对象上;
RF电源,用于对所述下电极提供电源;
多个线性排列的ECR源,每个ECR源包括微波产生部件、波导管、 等离子体放电室和磁线圈,用于在所述除灰室中形成等离子体;
电源,用于对所述ECR源的每一个提供电源;和
扫描单元,用于驱动处理对象前后或左右移动。
3.根据权利要求2所述的除灰装置,其特征在于,所述ECR源的所述 波导管的形状是矩形、平行四边形、圆形和椭圆形之一,并且这些波导管 排列成一行、二行或多行。
4.根据权利要求1所述的除灰装置,其特征在于,所述处理对象是玻 璃基片。
5.根据权利要求1所述的除灰装置,其特征在于,所述处理对象是晶 片。
本发明涉及一种生产半导体器件的装置,特别地,涉及一种用于处理 玻璃基片或晶片的电子回旋共振(下文称作ECR)除灰装置。
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