1.一种方法，其包括：
利用一个或多个照明场图案对场景照明；
利用一个或多个测量场图案观测被照明的所述场景；以及
使用压缩成像算法对所观测的所述场景的图像进行重构；
其中所述照明场图案和/或所述测量场图案对应于超材料孔径天线的辐射图案。
2.根据权利要求1所述的方法，其中：
对所述场景进行照明包括利用成组的照明场图案以相应的成组的频率对所述场景进行照明；以及
所述观测被照明的所述场景包括利用成组的测量场图案以所述相应的成组的频率观测所述场景。
3.根据权利要求2所述的方法，其中所述相应的成组的频率包括成组的RF频率。
4.根据权利要求3所述的方法，其中所述成组的RF频率包括成组的微波频率。
5.根据权利要求2所述的方法，其中所述相应的成组的频率包括成组的mmW频率。
6.根据权利要求2所述的方法，其中利用所述成组的照明场图案以所述相应的成组的频率对所述场景进行照明包括：
以所述相应的成组的频率向所述超材料孔径天线的输入端口发送电磁能
量。
7.根据权利要求2所述的方法，其中利用所述成组的测量场图案以所述相应的成组的频率对所述场景进行观测包括：
以所述相应的成组的频率接收来自所述超材料孔径天线的输出端的电磁能量。
8.根据权利要求2所述的方法，其中利用所述成组的测量场图案以所述相应的成组的频率对所述场景进行观测包括：
以所述相应的成组的频率针对所述超材料孔径天线测量一个或多个S参数。
9.根据权利要求1所述的方法，其中所述超材料孔径天线是可调整超材料孔径天线，并且所述照明场图案和/或所述测量场图案对应于所述可调整超材料孔径天线的可调整辐射图案。
10.根据权利要求9所述的方法，其中利用一个或多个照明场图案对所述场景进行照明包括：
向所述可调整超材料孔径天线的输入端口发送电磁能量；以及
反复地调整所述可调整超材料孔径天线以提供一系列的照明场图案。
11.根据权利要求9所述的方法，其中利用一个或多个测量场图案对所述场景进行观测包括：
反复地调整所述可调整超材料孔径天线以提供一系列测量场图案；以及
针对每一调整，针对所述可调整超材料孔径天线测量一个或多个S参数。
12.根据权利要求9所述的方法，其中利用一个或多个测量场图案对所述场景进行观测包括：
反复地调整所述可调节超材料孔径天线以提供一系列的测量场图案；以及针对每一调整，接收来自所述可调节超材料孔径天线的输出端口的电磁能量。
13.根据权利要求1所述的方法，其中对所述场景进行照明是利用泛光照明场图案对所述场景进行泛光照明。
14.根据权利要求13所述的方法，其中所述泛光照明是利用低方向性喇叭天线的照明。
15.根据权利要求1所述的方法，其中利用一个或多个照明场图案对所述场景进行照明是利用集体填充该场景的成组的基本上正交的照明场图案对所述场景的照明。
16.根据权利要求15所述的方法，其中该成组的基本上正交的照明场图案是成组的随机的场图案。
17.根据权利要求15所述的方法，其中所述成组的基本上正交的照明场图案是成组的伪随机的场图案。
18.根据权利要求15所述的方法，其中所述成组的基本上正交的照明场图案是成组的傅立叶场图案。
19.根据权利要求15所述方法，其中所述成组的基本上正交的照明场图案是成组的小波场图案。
20.根据权利要求1所述的方法，其中对所述场景进行观测是利用泛光测量场图案对所述场景进行的泛光观测。
21.根据权利要求20所述的方法，其中所述泛光观测是利用低方向性喇叭天线的观测。
22.根据权利要求1所述的方法，其中利用一个或多个测量场图案对所述场景进行观测是利用集体填充所述场景的成组的基本上正交的测量场图案对所述场景进行的观测。
23.根据权利要求22所述的方法，其中所述成组的基本上正交的测量场图案是成组的随机的场图案。
24.根据权利要求22所述的方法，其中所述成组的基本上正交的测量场图案是成组的伪随机的场图案。
25.根据权利要求22所述的方法，其中所述成组的基本上正交的测量场图案是成组的傅立叶场图案。
26.根据权利要求22所述的方法，其中所述成组的基本上正交的测量场图案是成组的小波场图案。
27.根据权利要求1所述的方法，其中所述场景是动态场景，并且对所述场景图像进行重构是对所述动态场景的动态图像进行重构。
28.根据权利要求1所述的方法，其中所述照明场图案和所述测量场图案定义了测量矩阵H，所述观测定义了测量结果g的集合，且所述压缩成像算法解决了针对重构图像f的最小化问题 其中λ是正则化参数且R(f)是先验知识函
数。
29.根据权利要求28所述的方法，其中所述压缩成像算法是两步迭代软阈值(TwIST)算法。
30.根据权利要求28所述的方法，其中R(f)＝||f||1。
31.一种天线，包括：
波传播结构；以及
多个散射元件，其沿波传播结构分布并且针对所述波传播结构的导波模式具有相应的多个单独的电磁响应，所述多个单独的电磁响应针对导波模式的成组的频率提供基本上填充天线视场的相应的成组的基本上正交的、低方向性天线辐射场。
32.根据权利要求31所述的天线，其中所述成组的频率是成组的RF频率。
33.根据权利要求32所述的天线，其中所述成组的频率是成组的微波频率。
34.根据权利要求31所述的天线，其中所述成组的频率是mmW频率。
35.根据权利要求31所述的天线，其中所述成组的基本上正交的低方向性天线辐射场是成组的伪随机的辐射场。
36.根据权利要求31所述的天线，其中所述成组的基本上正交的低方向性天线辐射场是成组的傅立叶辐射场。
37.根据权利要求31所述的天线，其中所述成组的基本上正交的低方向性天线辐射场是成组的小波辐射场。
38.根据权利要求31所述的天线，其中所述波传播结构包括一个或多个传导面且所述多个散射元件与在所述一个或多个传导面中的多个孔径相对应。
39.根据权利要求38所述的天线，其中所述波传播结构是二维波传播结构。
40.根据权利要求39所述的天线，其中所述二维波传播结构是平行板波导，且所述一个或多个传导面是所述平行板波导的上导体。
41.根据权利要求38所述的天线，其中所述波传播结构包括一个或多个一维波传播结构。
42.根据权利要求41所述的天线，其中所述一个或多个一维波传播结构是多个包括二维天线区域的一维波传播结构。
43.根据权利要求42所述的天线，其中所述一个或多个一维波传播结构包括一个或多个微带，且所述一个或多个传导面是所述一个或多个微带的一个或多个相应的上导体。
44.根据权利要求41所述的天线，其中所述一个或多个一维波传播结构包括一个或多个闭合波导，且所述一个或多个传导面是所述一个或多个闭合波导的一个或多个相应的上表面。
45.根据权利要求38所述的天线，其中所述多个孔径定义了多个互补超材料元件。
46.根据权利要求45所述的天线，其中所述多个互补超材料元件是多个互补电LC超材料元件。
47.根据权利要求38所述的天线，其中所述多个散射元件还包括位于所述多个孔径上方的多个贴片。
48.根据权利要求31所述的天线，其中所述多个散射元件具有从与成组的共振频率相对应的成组的几何结构中多方面地选择的几何结构。
49.一种天线，其包括：
波传播结构；
多个散射元件，其沿着所述波传播结构分布并且针对所述波传播结构的一个或多个导波模式具有相应的多个可调整的单独的电磁响应，所述多个可调整的单独的电磁响应针对所述可调整的单独的电磁响应的成组的调整提供基本上填充所述天线的视场的相应的成组的基本上正交的低方向性天线辐射场；以及
控制电路，其耦合到所述多个散射元件并被配置成提供对所述可调整的单个电磁响应的所述成组的调整。
50.根据权利要求49所述的天线，其中所述一个或多个导波模式是在所选择的频率下的单个导波模式。
51.根据权利要求50所述的天线，其中所述所选择的频率是RF频率。
52.根据权利要求51所述的天线，其中所述RF频率是微波频率。
53.根据权利要求50所述的天线，其中所述所选择的频率是mmW频率。
54.根据权利要求49所述的天线，其中所述一个或多个导波模式是具有所选择的频带的成组的导波模式。
55.根据权利要求54所述的天线，其中所述所选择的频带是RF频带。
56.根据权利要求55所述的天线，其中所述RF频带是微波频带。
57.根据权利要求54所述的天线，其中所述所选择的频带是mmW频带。
58.根据权利要求49所述的天线，其中所述成组的基本上正交的低方向性天线辐射场是成组的伪随机的辐射场。
59.根据权利要求49所述的天线，其中所述成组的基本上正交的低方向性天线辐射场是成组的傅立叶辐射场。
60.根据权利要求49所述的天线，其中所述成组的基本上正交的低方向性天线辐射场是成组的小波辐射场。
61.根据权利要求49所述的天线，其中所述波传播结构包括一个或多个传导面且所述多个散射元件与所述一个或多个传导面中的多个孔径相对应。
62.根据权利要求61所述的天线，其中所述波传播结构是二维波传播结构。
63.根据权利要求62所述的天线，其中所述二维波传播结构是平行板波导，且所述一个或多个传导面是所述平行板波导的上导体。
64.根据权利要求61所述的天线，其中所述波传播结构包括一个或多个一维波传播结构。
65.根据权利要求64所述的天线，其中所述一个或多个一维波传播结构是构成二维天线区域的多个一维波传播结构。
66.根据权利要求64所述的天线，其中所述一个或多个一维波传播结构包括一个或多个微带，且所述一个或多个传导面是所述一个或多个微带的一个或多个相应的上导体。
67.根据权利要求64所述的天线，其中所述一个或多个一维波传播结构包括一个或多个闭合波导，且所述一个或多个传导面是所述一个或多个闭合波导的一个或多个相应的上表面。
68.根据权利要求61所述的天线，其中所述多个孔径定义了多个互补超材料元件。
69.根据权利要求68所述的天线，其中所述多个互补超材料元件是多个互补电LC超材料元件。
70.根据权利要求68所述的天线，还包括：
位于所述多个孔径相应的附近处的电可调整材料。
71.根据权利要求70所述的天线，其中所述电可调整材料包括液晶材料。
72.根据权利要求68所述的天线，其中所述多个互补超材料元件定义了与所述一个或多个传导面相分离的相应的多个导电岛，且所述天线还包括：
在所述一个或多个传导面与所述多个导电岛之间连接的多个有源元件。
73.根据权利要求72所述的天线，其中所述多个有源元件包括晶体管。
74.根据权利要求72所述的天线，其中所述多个有源元件包括p-n结。
75.根据权利要求72所述的天线，其中所述多个有源元件包括肖特基二极管。
76.根据权利要求61所述的天线，其中所述多个散射元件还包括位于所述多个孔径上方的多个传导贴片。
77.根据权利要求76所述的天线，还包括：
位于所述多个传导贴片与所述多个孔径之间的电可调整材料。
78.根据权利要求77所述的天线，其中所述电可调整材料包括液晶材料。
79.根据权利要求77所述的天线，还包括：
在所述一个或多个传导面与所述多个传导贴片之间连接的多个有源元件。
80.根据权利要求79所述的天线，其中所述多个有源元件包括晶体管。
81.根据权利要求79所述的天线，其中所述多个有源元件包括p-n结。
82.根据权利要求79所述的天线，其中所述多个有源元件包括肖特基二极管。
83.一种系统，其包括：
照明天线，其具有在视场内的一个或多个照明场图案；
超材料表面天线，其具有在所述视场内的一个或多个测量场图案；
发射机，其耦合到所述照明天线的输入端口；
接收机，其耦合到所述超材料表面天线的输出端口；以及
处理电路，其耦合到所述发射机和所述接收机，且其被配置成使用压缩成像算法在所述视场内重构场景的图像。
84.根据权利要求83所述的系统，其中所述照明天线是低方向性喇叭天线。
85.根据权利要求83所述的系统，其中所述照明天线是另一超材料表面天线。
86.根据权利要求83所述的系统，其中所述一个或多个测量场图案是与成组的频率相对应的成组的测量场图案。
87.根据权利要求86所述的系统，其中所述成组的频率是成组的RF频率。
88.根据权利要求87所述的系统，其中所述成组的RF频率是成组的微波频率。
89.根据权利要求86所述的系统，其中所述成组的频率是成组的mmW频率。
90.根据权利要求83所述的系统，其中所述超材料表面天线是可调整的超材料表面天线，其具有与响应于一个或多个控制输入对所述超材料表面天线进行的成组的调整相对应的成组的测量场图案，且所述系统还包括：
控制电路，其配置成提供所述一个或多个控制输入。
91.根据权利要求90所述的系统，其中所述超材料表面天线具有多个散射元件，所述散射元件具有相应的可调整的物理参数，所述物理参数是所述一个或多个控制输入的函数。
92.根据权利要求91所述的系统，其中所述一个或多个控制输入包括用于所述多个散射元件的多个相应的偏置电压。
93.根据权利要求91所述的系统，其中所述多个散射元件通过行和列能寻址，且所述一个或多个控制输入包括成组的行输入和成组的列输入。
94.一种系统，其包括：
超材料表面天线，其具有在视场内的一个或多个照明场图案；
测量天线，其具有在所述视场内的一个或多个测量场图案；
发射机，其耦合到所述超材料表面天线的输入端口；
接收机，其耦合到测量天线的输出端口；以及
处理电路，其耦合到所述发射机和所述接收机，且其配置成使用压缩成像算法在所述视场内重构场景的图像。
95.根据权利要求94所述的系统，其中所述测量天线是低方向性喇叭天线。
96.根据权利要求94所述的系统，其中所述测量天线是另一超材料表面天线。
97.根据权利要求94所述的系统，其中所述一个或多个照明场图案是与成组的频率对应的成组的照明场图案。
98.根据权利要求97所述的系统，其中所述成组的频率是成组的RF频率。
99.根据权利要求97所述的系统，其中所述成组的RF频率是成组的微波频率。
100.根据权利要求97所述的系统，其中所述成组的频率是成组的mmW频率。
101.根据权利要求94所述的系统，其中所述超材料表面天线是可调整的超材料表面天线，其具有与响应于一个或多个控制输入对所述超材料表面天线进行的成组的调整相对应的成组的照明场图案，且所述系统还包括：
控制电路，其配置成提供所述一个或多个控制输入。
102.根据权利要求101所述的系统，其中所述超材料表面天线具有多个散射元件，所述散射元件具有相应的可调整的物理参数，所述物理参数是所述一个或多个控制输入的函数。
103.根据权利要求102所述的系统，其中所述一个或多个控制输入包括用于所述多个散射元件的多个相应的偏置电压。
104.根据权利要求102所述的系统，其中所述多个散射元件通过行和列能寻址，且所述一个或多个控制输入包括成组的行输入和成组的列输入。
105.一种系统，其包括：
超材料表面天线，其具有在视场内的成组的辐射图案；
收发机，其耦合到所述超材料表面天线的输入和输出端口；以及
处理电路，其耦合到所述收发机，且其配置成使用压缩成像算法在所述视场内重构场景的图像。
106.根据权利要求105所述的系统，其中所述成组的辐射图案与成组的频率相对应。
107.根据权利要求106所述的系统，其中所述成组的频率是成组的RF频率。
108.根据权利要求107所述的系统，其中所述成组的RF频率是成组的微波频率。
109.根据权利要求106所述的系统，其中所述成组的频率是成组的mmW频率。
110.根据权利要求105所述的系统，其中所述超材料表面天线是可调整的超材料表面天线，其具有与响应于一个或多个控制输入对所述超材料表面天线进行的成组的调整相对应的成组的辐射图案，且所述系统还包括：
控制电路，其配置成提供所述一个或多个控制输入。
111.根据权利要求110所述的系统，其中所述超材料表面天线具有多个散射元件，所述散射元件具有相应的可调整的物理参数，所述物理参数是所述一个或多个控制输入的函数。
112.根据权利要求111所述的系统，其中所述一个或多个控制输入包括用于所述多个散射元件的多个相应的偏置电压。
113.根据权利要求111所述的系统，其中所述多个散射元件通过行和列能寻址，且所述一个或多个控制输入包括成组的行输入和成组的列输入。
114.一种用于创建电磁场分布的孔径，所述孔径包括：
空间场分布；以及
矩阵，其具有成组的标准的特征、所捕获的数据、视场、所捕获的数据的信噪比、所捕获数据的分辨率、所捕获数据的对比、数据捕获的速率、以及所捕获数据的质量。
115.根据权利要求114所述的孔径，其中所述空间场分布是以频率任意编码的。
116.根据权利要求115所述的孔径，其中所述空间场分布包括随机场。
117.根据权利要求115所述的孔径，其中所述空间场分布包括伪随机场。
118.根据权利要求115所述的孔径，其中所述孔径场分布包括小波图案。
119.根据权利要求118所述的孔径，其中所述空间场分布包括傅立叶图案。
120.根据权利要求114所述的孔径，其还包括面板。
121.根据权利要求120所述的孔径，其中所述面板包括平面结构。
122.根据权利要求120所述的孔径，其中所述面板包括弹性的或保形的结构。
123.根据权利要求120所述的孔径，其中所述面板包括足够支持在其表面上的业务的、在机械上健壮的结构。
124.根据权利要求120所述的孔径，其中所述面板包括配置成安装到或挂在建筑元件上的材料。
125.根据权利要求114所述的孔径，其中所述电磁场分布是能重配置的。
126.根据权利要求125所述的孔径，其中所述电磁场能重配置成调整所述视场。
127.根据权利要求125所述的孔径，其中所述电磁场能重配置成调整所述分辨率。
128.根据权利要求125所述的孔径，其中所述电磁场能重配置成调整属性，该属性在降低或增加所述所捕获的数据的质量的同时，增加或降低所述数据捕获的速率。
129.根据权利要求128所述的孔径，其中所述属性包括所述信噪比。
130.根据权利要求128所述的孔径，其中所述属性包括在所述所捕获的数据的任意基础上的所述分辨率。
131.根据权利要求128所述的孔径，其中所述属性包括对所述所捕获的数据的对比。
132.根据权利要求128所述的孔径，其中所述属性包括将分析模型匹配到所述所捕获的数据的真实物理模型。
133.根据权利要求128所述的孔径，其中所述属性包括所述孔径的所述矩阵特征。
134.根据权利要求133所述的孔径，其中所述矩阵特征包括在所述奇异值谱下方的区域。
135.根据权利要求133所述的孔径，其中所述矩阵特征包括基础相干。
136.根据权利要求133所述的孔径，其中所述矩阵特征包括子空间匹配。
137.根据权利要求114所述的孔径，还包括所设计的数学阵列因子。
138.根据权利要求137所述的孔径，其中所述阵列因子包括针对频率分集的函数。
139.根据权利要求138所述的孔径，其中所述频率分集函数包括在所述阵列元件中的分散。
140.根据权利要求138所述的孔径，其中所述频率分集函数包括在所述超材料收发机的所述信号资源中的分散。
141.根据权利要求138所述的孔径，其中所述阵列因子包括针对对应于调谐参数的基于非卷积的前向模型的函数。
142.根据权利要求141所述的孔径，其中所述模型包括波束图案分集，所述波束图案分集包括所述所捕获的数据的成组的过定的模式。
143.根据权利要求142所述的孔径，其中所述模型包括波束图案分集，所述波束图案分集包括最大化旁瓣。
144.根据权利要求137所述的孔径，其中所述阵列因子包括针对跨孔径模式的能量分布的函数。
145.根据权利要求144所述的孔径，其中所述能量分布函数包括跨所述视场的均匀分布。
145.根据权利要求144所述的孔径，其中所述能量分布包括任意的编码方案。
146.根据权利要求145所述的孔径，其中所述任意编码方案包括随机分布的场。
147.根据权利要求145所述的孔径，其中所述随机编码方案包括伪随机分布的场。
148.根据权利要求145所述的孔径，其中所述任意编码的方案包括小波图案。
149.根据权利要求145所述的孔径，其中所述任意编码的方案包括傅立叶图案。
150.根据权利要求145所述的孔径，其中所述任意编码的方案包括正弦函数的和。
151.根据权利要求143所述的孔径，其中所述能量分布函数包括用于聚焦在所述视场内所研究的区域上的函数。
152.根据权利要求143所述的孔径，其中所述能量分布函数包括在所述视场内的适应性。
153.根据权利要求152所述的孔径，其中所述适应性包括选择频率子集。
154.根据权利要求152所述的孔径，其中所述适应性包括外部调谐激励。
155.根据权利要求152所述的孔径，其中所述适应性包括过完整信号集。
156.根据权利要求143所述的孔径，其中所述能量分布函数利用线性频率调制(LFM)测距工作。
157.一种包括能够发送和接收信号的超材料元件阵列的天线，所述超材料元件包括用于创建电磁场的孔径，所述孔径包括：
空间场分布；以及
矩阵，其具有成组的标准的特征、所捕获的数据、视场、所捕获的数据的信噪比、所捕获的数据的分辨率、所捕获的数据的对比、数据捕获的速率、以及所捕获的数据的质量。
158.根据权利要求157所述的天线，其中所述电场分布是由所述超材料元件的阵列产生的。
159.根据权利要求157所述的天线，其中所述超材料元件的阵列被设计成表示所述数学阵列因子。
160.根据权利要求157所述的天线，其中所述超材料元件是能电气重配置的。
161.根据权利要求160所述的天线，其中所述电气重配置发生在单位晶格级别上、在块或部分中、或在其展开的连续分布中。
162.根据权利要求157所述的天线，其中所述超材料元件的阵列包括用于频率编码的函数。
163.根据权利要求162所述的天线，其中所述频率编码函数包括频率分散模式。
164.根据权利要求163所述的天线，其中所述频率编码函数包括单个频率分集。
165.根据权利要求163所述的天线，其中所述频率编码函数包括当被白化时具有良好属性的矩阵。
166.根据权利要求161所述的天线，其中所述超材料元件包括通过硅调谐肖特基二极管可调谐的元件，由此能够实现所述电气重配置。
168.根据权利要求162所述的天线，其中所述超材料元件每一个包括可调谐元件，所述可调谐元件包括硅调谐PN结，使得能够实现所述电气重配置。
169.根据权利要求159所述的天线，其中所述超材料阵列元件配置用于极化选择。
170.根据权利要求159所述的天线，其中所述超材料阵列元件被配置用于单位晶格指向性。
171.根据权利要求159所述的天线，其中所述超材料元件是互补超材料元件。
172.一种超材料收发机，其包括
信号源；
天线，其包括能够发送和接收信号的超材料元件的阵列，所述超材料元件包括用于创建电磁场的孔径，所述孔径包括：
空间场分布；以及
矩阵，其具有成组的标准的特征、所捕获的数据、视场、所捕获的数据的信噪比、所捕获的数据的分辨率、所捕获的数据的对比、数据捕获的速率、以及所捕获的数据的质量；以及信号检测器，其中所述信号源和所述信号检测器操作性地连接到所述天线。
173.一种使用权利要求71所述的超材料收发机的成像方法，其包括：
提供超材料收发机，所述超材料收发机包括：
信号源；
天线，其包括能够发送和接收信号的超材料元件阵列，所述超材料元件包括用于创建电磁场的孔径，所述孔径包括：
空间场分布；以及
矩阵，其具有成组的标准的特征、所捕获的数据、视场、所捕获的数据的信噪比、所捕获的数据的分辨率、所捕获的数据的对比、数据捕获的速率、以及所捕获的数据的质量；以及信号检测器，其中所述信号源和所述信号检测器操作性地连接到所述天线；以及从所述天线发射多模信号；
在所述多模信号通过遇到场景已经被转换之后，接收所转换的信号；以及翻译所述所转换的信号以生成所述场景的图像。
174.根据权利要求173所述的成像方法，还包括将所述超材料收发机放置在建筑元件上或中，以产生对象的图像。
175.根据权利要求174所述的成像方法，其中所述对象是能移动的。
176.根据权利要求175所述的成像方法，其中所述场景包括一个或多个运动中的对象。
177.根据权利要求175所述的成像方法，还包括向所述收发机分配图像生成速率。
178.根据权利要求177所述的成像方法，还包括使一个或多个移动的对象进行成像。
179.根据权利要求178所述的成像方法，还包括跟踪移动的对象。
180.根据权利要求179所述的成像方法，还包括使用所跟踪的移动对象信息动态地分配图像生成速率。
181.根据权利要求175所述的成像方法，其中所述超材料元件阵列是二维阵列。
182.根据权利要求175所述的成像方法，其中所述天线被配置用于压缩成像。
183.根据权利要求175所述的成像方法，其中所述天线被配置用于组合多个多模式的成像技术。
184.根据权利要求175所述的成像方法，其中所述天线被配置用于多频带传感。
185.一种成像的方法，其包括：
从超材料收发机发送多模信号，所述超材料收发机包括互补超材料元件的二维阵列；
通过遇到要成像的场景，转换所述发送的多模信号；
由所述超材料收发机接收所述所转换的信号；以及
从所述所转换的信号生成所述场景的图像。
186.根据权利要求185所述的方法，其中以与所述孔径的典范基不同的基础来表示所述模式。
187.根据权利要求186所述的方法，其中所述基础表示是频率。
188.根据权利要求186所述的方法，其中所述基础表示是傅立叶模式。