专利汇可以提供使用离子束制造扫描探针显微镜和临界尺寸扫描探针显微镜纳米针探针的方法与由其制造的扫描探针显微镜和临界尺寸扫描探针显微镜纳米针探针专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本 发明 涉及一种使用离子束制造扫描探针 显微镜 (SPM)的方法以及由其制造的纳米针探针,该离子束优选为聚焦的离子束。更具体而言,本发明涉及一种制造SPM纳米针探针的方法和由其制造的SPM纳米针探针,该探针能够容易地调整,以使附着于SPM纳米针探针尖端上的纳米针具有期望的指向,且该探针能够容易被 准直 ,使附着于SPM纳米针探针尖端上的纳米针沿着期望的指向。而且,本发明涉及一种使用离子束制造临界尺寸SPM(CD-SPM)纳米针探针的方法和由其制造的CD-SPM,该探针能够精确地扫描纳米尺度的样品物体的 侧壁 ,该离子束优选为聚焦的离子束。更具体而言,本发明涉及一种制造CD-SPM纳米针探针的方法和由其制造的CD-SPM纳米针探针,该探针能够通过将附着于SPM纳米针探针尖端上的纳米针末端的一部分向着并非附着于SPM纳米针探针尖端上的纳米针所延伸出去的初始方向的特定方向弯曲特定 角 度,来精确地扫描纳米尺度的样品物体的侧壁。一种使用离子束制造扫描探针显微镜(SPM)纳米针探针的方法,包括: 定位 所述探针,使得其上附着有所述纳米针的所述探针的尖端面向辐照所述离子束的方向;以及通过向其上附着有所述纳米针的所述探针的尖端辐照所述离子束利用所述离子束平行地排列附着于所述探针的所述尖端上的所述纳米针。一种使用离子束制造临界尺寸扫描探针显微镜(CD-SPM)纳米针探针的方法,包括:使用掩模屏蔽附着于所述探针的尖端上的所述纳米针的特定部分;以及通过在暴露于所述掩模之外的所述纳米针的部分上辐照所述离子束来沿着所述辐照的离子束的方向弯曲暴露于所述掩模之外的所述纳米针的所述部分,以排列所述纳米针的所述部分。,下面是使用离子束制造扫描探针显微镜和临界尺寸扫描探针显微镜纳米针探针的方法与由其制造的扫描探针显微镜和临界尺寸扫描探针显微镜纳米针探针专利的具体信息内容。
1.一种使用离子束制造扫描探针显微镜(SPM)纳米针探针的方法, 包括:
定位所述探针,使得其上附着有所述纳米针的所述探针的尖端面向辐照 所述离子束的方向;以及
通过向其上附着有所述纳米针的所述探针的尖端辐照所述离子束,与所 述离子束平行地排列附着于所述探针的所述尖端上的所述纳米针。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:排列所述纳米针包括沿 着辐照所述离子束的方向准直附着于所述探针的所述尖端上的所述纳米针。
3.根据权利要求1或权利要求2所述的方法,还包括以相对于附着于 平行于所述离子束排列的所述探针的尖端上的所述纳米针的特定角度,辐照 聚焦离子束来以预定长度切断附着于所述探针的尖端上的所述纳米针。
4.根据权利要求1或权利要求2所述的方法,还包括:
使用掩模屏蔽由所述离子束排列的所述纳米针的特定部分;以及
相对于所述纳米针的排列方向成特定角度,通过在暴露于所述掩模之外 的所述纳米针的部分上再次辐照所述离子束,沿着所述再次辐照的离子束的 方向,弯曲暴露于所述掩模之外的所述纳米针的部分,以排列所述纳米针的 所述部分。
5.根据权利要求1或权利要求2所述的方法,其特征在于所述离子束 为聚焦的离子束。
6.根据权利要求5所述的方法,其特征在于所述聚焦的离子束的加速 电压为5kV到30kV,电流量为1pA到1nA,且所述纳米针暴露于所述聚焦 的离子束的时间为1到60秒。
7.根据权利要求5所述的方法,其特征在于所述聚焦的离子束为Ga 离子束、Au离子束、Ar离子束、Li离子束、Be离子束、He离子束和Au-Si-Be 离子束之一。
8.根据权利要求1或权利要求2所述的方法,其特征在于所述纳米针 为纳米管和纳米线之一。
9.一种使用离子束制造的SPM纳米针探针,其特征在于,通过向其上 附着有纳米针的所述探针的尖端辐照所述离子束,从而平行于所述离子束排 列附着于所述探针的尖端上的所述纳米针。
10.根据权利要求9所述的SPM纳米针探针,其特征在于:通过向所 述探针的所述尖端辐照的所述离子束,沿着所述离子束的方向准直附着于所 述探针的所述尖端上的所述纳米针。
11.根据权利要求9或权利要求10所述的SPM纳米针探针,其特征在 于:通过相对于附着于所述探针的尖端上的所述纳米针成特定角度辐照聚焦 的离子束,以预定长度切断附着于所述探针的尖端上的所述纳米针,并平行 于所述离子束排列所述纳米针。
12.根据权利要求9或权利要求10所述的SPM纳米针探针,其特征在 于:由所述离子束排列的所述纳米针的特定部分被掩模屏蔽;且
其特征在于:通过相对于所述纳米针的排列方向成特定角度在所述纳米 针暴露于所述掩模之外的部分上再次辐照离子束,沿着所述再次辐照的离子 束的方向,弯曲所述纳米针暴露于所述掩模之外的部分,以排列所述纳米针 的所述部分。
13.根据权利要求9或权利要求10所述的SPM纳米针探针,其特征在 于所述离子束为聚焦的离子束。
14.根据权利要求13所述的SPM纳米针探针,其特征在于所述聚焦的 离子束的加速电压为5kV到30kV,电流量为1pA到1nA,且所述纳米针暴 露于所述聚焦的离子束的时间为1到60秒。
15.根据权利要求13所述的SPM纳米针探针,其特征在于所述聚焦的 离子束为Ga离子束、Au离子束、Ar离子束、Li离子束、Be离子束、He 离子束和Au-Si-Be离子束之一。
16.根据权利要求9或权利要求10所述的SPM纳米针探针,其特征在 于所述纳米针为纳米管和纳米线之一。
17.一种使用离子束制造临界尺寸扫描探针显微镜(CD-SPM)纳米针 探针的方法,包括:
使用掩模屏蔽附着于所述探针的尖端上的所述纳米针的特定部分;以及
通过在暴露于所述掩模之外的所述纳米针的部分上辐照所述离子束,从 而沿着所述辐照的离子束的方向弯曲暴露于所述掩模之外的所述纳米针的 所述部分,以排列所述纳米针的所述部分。
18.根据权利要求17所述的方法,其特征在于所述离子束为聚焦的离 子束。
19.根据权利要求18所述的方法,其特征在于所述聚焦的离子束的加 速电压为5kV到30kV,电流量为1pA到1nA,且所述纳米针暴露于所述聚 焦的离子束的时间为1到60秒。
20.根据权利要求18所述的方法,其特征在于所述聚焦的离子束为Ga 离子束、Au离子束、Ar离子束、Li离子束、Be离子束、He离子束和Au-Si-Be 离子束之一。
21.根据权利要求17到20中任一项所述的方法,其特征在于所述纳米 针为纳米管和纳米线之一。
22.一种使用离子束制造的CD-SPM纳米针探针,其特征在于:用掩模 屏蔽附着于所述探针的尖端上的所述纳米针的特定部分;且其特征在于:
通过在暴露于所述掩模之外的所述纳米针的部分上辐照所述离子束,从 而沿着所述辐照的离子束的方向弯曲暴露于所述掩模之外的所述纳米针的 所述部分,以排列所述纳米针的所述部分。
23.根据权利要求22所述的CD-SPM纳米针探针,其特征在于所述离 子束为聚焦的离子束。
24.根据权利要求23所述的CD-SPM纳米针探针,所述聚焦的离子束 的加速电压为5kV到30kV,电流量为1pA到1nA,且所述纳米针暴露于所 述聚焦的离子束的时间为1到60秒。
25.根据权利要求23所述的CD-SPM纳米针探针,其特征在于所述聚 焦的离子束为Ga离子束、Au离子束、Ar离子束、Li离子束、Be离子束、 He离子束和Au-Si-Be离子束之一。
26.根据权利要求22到25的任一项所述的CD-SPM纳米针探针,其特 征在于所述纳米针为纳米管和纳米线之一。
本发明涉及使用离子束制造扫描探针显微镜(SPM)纳米针探针的方法 和由其制造的纳米针探针。更具体而言,本发明涉及一种制造SPM纳米针 探针的方法和由其制造的SPM纳米针探针,该探针能够容易地被调整,以 使附着于SPM纳米针探针尖端上的纳米针具有期望的指向,且该探针能够 容易被准直,使附着于SPM纳米针探针尖端上的纳米针沿着期望的指向。
而且,本发明涉及一种使用离子束制造临界尺寸SPM(CD-SPM)纳米 针探针的方法和由其制造的CD-SPM,该探针能够精确地扫描纳米尺度的样 品物体的侧壁。更具体而言,本发明涉及一种制造CD-SPM纳米针探针的方 法和由其制造的CD-SPM纳米针探针,该探针能够通过将附着于SPM纳米 针探针尖端上的纳米针末端的一部分向着除了附着于SPM纳米针探针尖端 上的纳米针所延伸出去的初始方向之外的特定方向弯曲特定角度,来精确地 扫描纳米尺度的样品物体的侧壁。
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