专利汇可以提供一种用于天文摄影的放射型渐变式抗光污染滤光镜专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本 发明 涉及一种用于天文摄影的放射型渐变式抗光污染滤光镜,属于光学过滤技术领域,本滤光镜包括基片、第一滤光层、第二滤光层、第三滤光层、第四滤光层和第五滤光层,所述第一滤光层盖设在所述基片的上表面,所述第二滤光层盖设在所述第一滤光层的上表面,所述第三滤光层盖设在所述第二滤光层的上表面,所述第四滤光层盖设在所述第三滤光层的上表面,所述第五滤光层盖设在所述第四滤光层的上表面,所述第一滤光层、所述第二滤光层、所述第三滤光层、所述第四滤光层和所述第五滤光层内的膜层 密度 均由一侧向另一侧逐渐减小。本发明效果是通过设置的多级滤光层,使得滤光强度逐渐减小,能够有效避免产生地面景物 色偏 的现象。,下面是一种用于天文摄影的放射型渐变式抗光污染滤光镜专利的具体信息内容。
1.一种用于天文摄影的放射型渐变式抗光污染滤光镜,其特征在于,包括基片(1)、第一滤光层(2)、第二滤光层(3)、第三滤光层(4)、第四滤光层(5)和第五滤光层(6),所述第一滤光层(2)盖设在所述基片(1)的上表面,所述第二滤光层(3)盖设在所述第一滤光层(2)的上表面,所述第三滤光层(4)盖设在所述第二滤光层(3)的上表面,所述第四滤光层(5)盖设在所述第三滤光层(4)的上表面,所述第五滤光层(6)盖设在所述第四滤光层(5)的上表面,所述第一滤光层(2)、所述第二滤光层(3)、所述第三滤光层(4)、所述第四滤光层(5)和所述第五滤光层(6)内的膜层密度均由一侧向另一侧逐渐减小。
2.根据权利要求1所述的用于天文摄影的放射型渐变式抗光污染滤光镜,其特征在于,还包括保护膜层(7),所述保护膜层(7)盖设在所述第五滤光层(6)上。
3.根据权利要求1所述的用于天文摄影的放射型渐变式抗光污染滤光镜,其特征在于,还包括防反光膜层(8),所述防反光膜层(8)盖设在所述基片(1)远离所述第一滤光层(2)的侧面上。
4.根据权利要求1所述的用于天文摄影的放射型渐变式抗光污染滤光镜,其特征在于,所述第一滤光层(2)过滤波长为435mm的光波,所述第一滤光层(2)的厚度为327mm,所述第一滤光层(2)由交替间隔设置的三层第一低折射率层和三层第一高折射率层组成,所述第一低折射率层和所述第一高折射率层的厚度为54.5mm。
5.根据权利要求4所述的用于天文摄影的放射型渐变式抗光污染滤光镜,其特征在于,所述第二滤光层(3)过滤波长为546mm的光波,所述第二滤光层(3)的厚度为410mm,所述第二滤光层(3)由交替间隔设置的三层第二低折射率层和三层第二高折射率层组成,所述第二低折射率层和所述第二高折射率层的厚度为68.3mm。
6.根据权利要求5所述的用于天文摄影的放射型渐变式抗光污染滤光镜,其特征在于,所述第三滤光层(4)过滤波长为578mm的光波,所述第三滤光层(4)的厚度为433mm,所述第三滤光层(4)由交替间隔设置的三层第三低折射率层和三层第三高折射率层组成,所述第三低折射率层和所述第三高折射率层的厚度为72.2mm。
7.根据权利要求6所述的用于天文摄影的放射型渐变式抗光污染滤光镜,其特征在于,所述第四滤光层(5)过滤波长为595mm的光波,所述第四滤光层(5)的厚度为446mm,所述第四滤光层(5)由交替间隔设置的三层第四低折射率层和三层第四高折射率层组成,所述第四低折射率层和所述第四高折射率层的厚度为74.4mm。
8.根据权利要求7所述的用于天文摄影的放射型渐变式抗光污染滤光镜,其特征在于,所述第五滤光层(6)过滤波长为616mm的光波,所述第五滤光层(6)的厚度为462mm,所述第五滤光层(6)由交替间隔设置的三层第五低折射率层和三层第五高折射率层组成,所述第五低折射率层和所述第五高折射率层的厚度为77mm。
9.根据权利要求8所述的用于天文摄影的放射型渐变式抗光污染滤光镜,其特征在于,所述第一低折射率层、所述第二低折射率层、所述第三低折射率层、所述第四低折射率层和所述第五低折射率层的材质为二氧化硅或氟化镁,所述第一高折射率层、所述第二高折射率层、所述第三高折射率层、所述第四高折射率层和所述第五高折射率层的材质为二氧化锆、二氧化钛或氧化锌中的一种。
10.根据权利要求1-9任一项所述的用于天文摄影的放射型渐变式抗光污染滤光镜,其特征在于,所述基片(1)为光学玻璃基片或光学树脂基片。
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