专利汇可以提供轮胎胎圈专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本实用新型涉及一种轮胎 胎圈 ,属于轮胎领域。包括胎踵、胎趾及周向半圆状凸起,其特征在于:胎踵部位形成切边结构,切边与胎圈底部的交点到 轮辋 轮缘的距离a,满足a=0.1 W~0.25 W,所述W指胎圈的宽度,切边与胎圈侧部的交点到胎圈基线的距离b,满足b=0.2hc~0.4hc,所述hc指轮辋缘上边圆弧的圆心到胎圈基线BL的距离。本实用新型能够改变胎踵部位胶料的流动方向,解决胎圈部位硫化缺胶的问题,同时减小胎踵部位胶料厚度,使胎踵部位生热变少,提高胎圈的耐久性能。,下面是轮胎胎圈专利的具体信息内容。
1.一种轮胎胎圈,包括胎踵、胎趾及周向半圆状凸起,其特征在于:胎踵部位形成切边结构,切边与胎圈底部的交点到轮辋轮缘的距离a,满足a=0.1 W~0.25 W,所述W指胎圈的宽度,切边与胎圈侧部的交点到胎圈基线的距离b,满足b=0.2hc~0.4hc,所述hc指轮辋缘上边圆弧的圆心到胎圈基线BL的距离。
2.根据权利要求1所述轮胎胎圈,其特征在于所述的胎踵切边两端的周向半圆状凸起,其截面为半圆弧形,半径为0.3mm~0.6mm。
技术领域
[0001] 本实用新型涉及轮胎领域,详细地讲是一种轮胎胎圈。
背景技术
[0002] 众所周知,轮胎的构成包括
胎面、
胎体、胎侧、胎圈等部件,车辆全部
载荷都有安装在
轮辋上的轮胎承担,胎圈是轮胎与轮辋
接触的部分,胎圈对轮胎的
质量起重要的作用,而在轮胎生产过程中胎圈部位又是出现
缺陷较多的地方,最为典型就是缺胶,影响产品外观合格率。
[0003]
现有技术,胎圈与轮辋紧密相接触,胎圈部位受
力非常大,胎踵部位胶料厚度大,轮胎使用过程中胎踵生热较大当热量积聚到一定程度,造成胶料性能降低,轮胎损坏。
发明内容
[0004] 为了克服现有技术的不足,本实用新型提供一种轮胎胎圈,能够改变胎踵部位胶料的流动方向,解决胎圈部位硫化缺胶的问题,同时减小胎踵部位胶料厚度,使胎踵部位生热变少,提高胎圈的耐久性能。
[0005] 本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:一种轮胎胎圈,包括胎踵、胎趾及周向半圆状凸起,其特征在于,胎踵部位形成切边结构,切边与胎圈底部的交点到轮辋轮缘的距离a,满足a=0.1 W~0.25 W,所述W指胎圈的宽度,切边与胎圈侧部的交点到胎圈基线的距离b,满足b=0.2hc~0.4hc,所述hc指轮辋缘上边圆弧的圆心到胎圈基线BL的距离。
[0006] 本实用新型还可通过如下措施来实现:胎踵切边两端的周向半圆状凸起,其截面为半圆弧,半径为0.3mm~0.6mm。
[0007] 本实用新型的有益效果是,能够改变胎踵部位胶料的流动方向,解决胎圈部位硫化缺胶的问题,同时减小胎踵部位胶料厚度,使胎踵部位生热变少,提高胎圈的耐久性能。
附图说明
[0008] 下面结合附图和
实施例对本实用新型进一步说明。
[0009] 图1为本实用新型的结构示意图。
[0010] 图2为本实用新型胎圈结构中胎踵切边结构示意图。
[0011] 图3为本实用新型周向半圆状凸起局部放大图。
[0012] 图中1.胎踵,2.胎趾,3.周向半圆状凸起。
具体实施方式
[0013] 如图1、图2、图3所示,本实用新型胎圈结构包括:胎踵1、胎趾2及周向半圆状凸起3,胎踵部位形成切
角结构,A边指A点到轮辋轮缘的距离为a,所述A点指切边与胎圈底部的交点;B边指 B点到胎圈基线BL的距离为b,所述B点指切边与胎圈侧部的交点。
[0014] 胎踵1形成切角结构,切边与胎圈底部的交点到轮辋轮缘的距离a,更为具体地说A边就是在胎圈底部贴近轮辋的
位置。满足a=0.1 W~0.25 W,所述W指胎圈的宽度,本实施列a=8mm。
[0015] 胎踵1形成切角结构,切边与胎圈侧部的交点到胎圈基线BL的距离b,更为具体地说B边就是在胎圈侧面贴近轮辋缘的位置。满足b=0.2hc~0.4hc,,所述hc指轮辋缘上边圆弧的圆心到胎圈基线BL的距离,本实施列a=10mm。
[0016] 胎踵1可以改变胎踵部分的胶料流动方向,改进胎圈结构使轮胎
胎坯在硫化时胎踵部分的胶料向胎圈底部及胎圈侧部流动。
[0017] 胎踵1切角两端的周向半圆状凸起3,周向半圆状凸起3截面为半圆弧,周向半圆状凸3起作用是排气体,本实施例半径为r=0.55mm。
[0018] 胎踵1切角结构,胎踵1部位胶料厚度t与现有技术胎踵胶料厚度T比较明显减小,轮胎使用过程中胶料蠕动或形变生成的热量也比现有技术少,降低胎踵部位生热,能提高胎圈耐久性能。