1.通过电镀成批工件来制造多个制品的方法，所述方法包括：
使成批工件的至少一部分与电沉积浴接触，所述电沉积浴与容纳装置的至少一部分接触，所述电沉积浴包括至少第一可电沉积材料和第二可电沉积材料；
通过以预定动作移动容纳装置来移动所述成批工件的一部分；
通过经由至少两个阴极触点施加第一电流持续第一时间量，将第一可识别层电沉积到成批工件的至少一部分上，所述阴极触点至少与所述成批工件的一部分间歇性电接触，所述第一可识别层包括至少所述第一可电沉积材料和所述第二可电沉积材料；以及
通过经由所述阴极触点施加第二电流持续第二时间量，将第二可识别层电沉积到成批工件的所述一部分上，所述第二可识别层包括至少所述第一可电沉积材料和所述第二可电沉积材料，所述第二可识别层的组成、粒径、结构、或厚度或其组合不同于所述第一可识别层的组成、粒径、结构、或厚度或其组合。
2.如权利要求1所述的方法，其中，所述容纳装置为滚镀装置、振动篮式电镀装置、或摇臂电镀装置。
3.如权利要求1或2所述的方法，还包括通过经由阴极触点施加附加电流，将附加层电沉积到成批中的工件的一部分上，所述附加层包含至少所述第一可电沉积材料和所述第二可电沉积材料，所述附加层的组成、粒径、结构、或厚度或其组合不同于紧邻的上一层的组成、粒径、结构、或厚度或其组合。
4.如权利要求1-3中任一项所述的方法，其中，至少部分地基于适用于容纳装置的一个或多个参数来确定选自由第一电流、第一时间、第二电流、第二时间组成的组中至少一个参数，其中适用于容纳装置的参数选自由负载分数、负载体积分数、表观负载、长度分数、包装体积、RPM、频率、振幅、容纳装置的运动速率、颤振和混合速率、或其组合组成的组。
5.如权利要求1-4中任一项所述的方法，其中，装载到所述容纳装置中的制品的包装体积与所述容纳装置的体积的比率小于70％。
6.如权利要求5所述的方法，其中，装载到所述容纳装置中的制品的体积与所述容纳装置的体积的比率为约10％至约40％。
7.如权利要求1-6中任一项所述的方法，其中，在所制造的多个制品中，所述第一可电沉积材料在多个制品中的任何一个制品中的一个或多个位置处的重量百分比与在多个制品中的另一个制品中的一个或多个位置处的相同的可电沉积材料的重量百分比相差不超过6重量％；或
其中在所制造的多个制品中，所述第二可电沉积材料在多个制品中的任何一个制品中的一个或多个位置处的重量百分比与在多个制品中的另一个制品中的一个或多个位置处的相同的可电沉积材料的重量百分比相差不超过6重量％。
8.如权利要求1-7中任一项所述的方法，其中，所述第一时间量和所述第二时间量中的每一个的范围为约2分钟至约10分钟。
9.如权利要求1-8中任一项所述的方法，其中，所述第一电流为约20安培至约70安培；
或
其中所述第二电流为约40安培至约140安培。
10.如权利要求1-9中任一项所述的方法，其中，与所述第一电流、所述第二电流或这两者相关的电压的范围为约3伏至约8伏。
11.如权利要求1-10中任一项所述的方法，其中，所述多个制品中的每个制品的一个或多个位置处的电沉积层的组合厚度独立地为约6μm至约14μm。
12.如权利要求1-11中任一项所述的方法，其中，多个制品中的所述第一可电沉积材料和所述第二可电沉积材料包含选自由Ni、Zn、Fe、Cu、Au、Ag、Pd、Sn、Mn、Co、Pb、Al、Ti、Mg、W、Rh和Cr组成的组中的至少两种元素。
13.如权利要求1-12中任一项所述的方法，其中，在所述多个制品中，所述第一可识别层、所述第二可识别层或这两者包含选自Ni和Zn、Ni和Co、Ni和Cr、以及Zn和Fe中的至少两种金属。
14.如权利要求1-13中任一项所述的方法，其中，在多个制品中的一个或多个位置处，所述第一可识别层、所述第二可识别层或这两者包含13％至17％的Ni；或
其中在多个制品上的一个或多个位置处，所述第一可识别层、所述第二可识别层或这两者包含83％至87％的Zn。
15.如权利要求1-14中任一项所述的方法，其中，在多个制品中的一个或多个位置包括耐腐蚀层压涂层，当根据ASTM-B117-11盐雾试验测试时所述耐腐蚀层压涂层提供至少1000小时至首次红锈。
16.如权利要求1-15中任一项所述的方法，其中，所述多个制品中的任何一个制品在制品上的第一位置处具有纳米层压涂层总厚度，所述纳米层压涂层总厚度不超出在所述多个制品中的其他制品上的相同位置处的纳米层压涂层的平均厚度的6μm的厚度。
17.如权利要求1-16中任一项所述的方法，其中，所述多个制品中的任何一个制品在制品上的第二位置处具有纳米层压涂层总厚度，所述纳米层压涂层总厚度不超出在所述多个制品中的其他制品上的相同位置处的纳米层压涂层的平均厚度的6μm的厚度。
18.如权利要求1-17中任一项所述的方法，其中，所述多个制品包括具有相同形状的大部分制品，并且其中大部分制品占制品总数的至少70％。
19.如权利要求16或17所述的方法，其中所述一个或多个位置包括非螺纹表面。
20.如权利要求1-19中任一项所述的方法，其中所述多个制品包括螺柱，并且其中所述容纳装置是摇臂电镀装置。
21.如权利要求1-20中任一项所述的方法，其中所述多个制品包括重量至少为0.25kg的螺柱。
22.如权利要求1-21中任一项所述的方法，其中所述至少两个阴极触点与所述成批工件的一部分至少基本上连续接触。
23.通过在多个工件上形成纳米层压涂层来形成多个制品的方法，该方法包括：
使所述多个工件的至少一部分与电沉积浴接触，所述电沉积浴与电镀滚筒的内部体积接触，其中所述电沉积浴包括至少第一可电沉积材料和第二可电沉积材料，其中所述工件各自独立地具有最长尺寸并且所述电镀滚筒具有长度和半径；
旋转电镀滚筒；
通过经由至少两个阴极施加第一电流持续第一时间量，将第一可识别层电沉积到所述多个工件的至少一部分上，所述阴极具有位于所述电镀滚筒内部体积内的端部，所述端部被一段距离隔开，所述第一可识别层包括至少第一可电沉积材料和第二可电沉积材料；以及
通过经由所述至少两个阴极施加第二电流持续第二时间量，将第二可识别层电沉积到所述多个工件的所述部分上，所述第二可识别层包括至少所述第一可电沉积材料和第二可电沉积材料，其中所述第二可识别层的组成、粒径、结构、和厚度或其组合中的至少一个不同于所述第一可识别层的组成、粒径、结构、和厚度或其组合。
24.如权利要求23所述的方法，还包括通过经由所述至少两个阴极施加附加电流，将附加的可识别层电沉积到所述多个工件的所述部分上，所述附加层包括至少第一可电沉积材料和第二可电沉积材料，其中附加层的组成、粒径、结构、和厚度或其组合中的至少一个不同于相邻层的组成、粒径、结构、和厚度或其组合。
25.如权利要求23或24所述的方法，其中，所述第一电流是第一时变波形；或
其中所述第二电流是第二时变波形。
26.如权利要求23-25中任一项所述的方法，其中，所述第一可识别层在工件上的一个或多个位置处的厚度范围为约150nm至约20,000nm；或
其中所述第二可识别层在工件上的一个或多个位置处的厚度范围为约150nm至约20,
000nm。
27.如权利要求23-26中任一项所述的方法，其中，所述多个工件的最长尺寸与所述电镀滚筒的半径之比小于1.3。
28.如权利要求23-27中任一项所述的方法，其中，装载到所述电镀滚筒中的所述多个工件的包装体积与所述电镀滚筒的内部体积的比率小于70％。
29.如权利要求28所述的方法，其中，装载到所述电镀滚筒中的所述多个工件的体积与所述电镀滚筒的体积的比率为约10％至约40％。
30.如权利要求23-29中任一项所述的方法，其中，在多个制品中，多个制品中的任何一个制品中的一个或多个位置处的第一可电沉积材料的重量百分比与在多个制品中的另一个制品中的一个或多个位置处的相同的可电沉积材料的重量百分比相差不超过6重量％；
或
其中在多个制品中，多个制品中的任何一个制品中的一个或多个位置处的第二可电沉积材料的重量百分比与在多个制品中的另一个制品中的一个或多个位置处的相同的可电沉积材料的重量百分比相差不超过6重量％。
31.如权利要求23-30中任一项所述的方法，其中，在施加所述第一电流和所述第二电流期间所述电镀滚筒以4RPM至10RPM的速率旋转。
32.如权利要求23-31中任一项所述的方法，其中，所述第一时间量和所述第二时间量中的每一个的范围为约2分钟至约10分钟。
33.如权利要求23-32中任一项所述的方法，其中，所述第一电流的范围为约20安培至约70安培；或
其中所述第二电流的范围为约40安培至约140安培。
34.如权利要求23-33中任一项所述的方法，其中，与所述第一电流、所述第二电流或这两者相关的电压的范围为约3伏至约8伏。
35.如权利要求23-34中任一项所述的方法，其中，在多个工件中的每个工件上的一个或多个位置处的第一可识别层和第二可识别层的组合厚度的范围为约6μm至约14μm。
36.如权利要求23-35中任一项所述的方法，其中，所述第一可电沉积材料和所述第二可电沉积材料包含选自由Ni、Zn、Fe、Cu、Au、Ag、Pd、Sn、Mn、Co、Pb、Al、Ti、Mg、W、Rh和Cr组成的组中的至少两种元素。
37.如权利要求23-36中任一项所述的方法，其中，所述第一可识别层、所述第二可识别层或这两者包含选自Ni和Zn、Ni和Co、Ni和Cr、以及Zn和Fe中的至少两种金属。
38.如权利要求23-37中任一项所述的方法，其中，在多个制品中的一个或多个位置处，所述第一可识别层、第二可识别层或这两者包含约13wt％至约17wt％的Ni；或
其中在多个制品上的一个或多个位置处，所述第一可识别层、第二可识别层或这两者包含约83wt％至约87wt％的Zn。
39.如权利要求23-38中任一项所述的方法，其中，在多个制品上的一个或多个位置包括耐腐蚀层压涂层，当根据ASTM-B117-11盐雾试验测试时所述耐腐蚀层压涂层提供至少
1000小时至首次红锈。
40.如权利要求23-39中任一项所述的方法，其中，所述多个制品中的任何一个制品在制品上的第一位置处具有纳米层压涂层总厚度，所述纳米层压涂层总厚度不超出在多个制品中的其他制品上的相同位置处的纳米层压涂层的平均厚度的6μm的厚度；或
其中所述多个制品中的任何一个制品在制品上的第二位置处具有纳米层压涂层总厚度，所述纳米层压涂层总厚度不超出在所述多个制品中的其他制品上的相同位置处的纳米层压涂层的平均厚度的6μm的厚度。
41.如权利要求23-40中任一项所述的方法，其中，所述多个制品包括具有相同形状的大部分制品，并且其中大部分制品占所述多个制品总数的至少70％。
42.如权利要求26、30、35、38或39中任一项所述的方法，其中，所述一个或多个位置包括非螺纹表面。
43.如权利要求1-42中任一项所述的方法制造的制品。
44.包含纳米层压涂层的制品，所述纳米层压涂层包含：
第一可识别层，其在制品上的一个或多个位置处具有约150nm至约20,000nm的厚度，所述第一可识别层包括至少第一组分和第二组分，所述第一可识别层具有第一组成、第一粒径和第一颗粒结构；
第二可识别层，其在制品上的一个或多个位置处具有约150nm至约20,000nm的厚度，所述第二可识别层包括第一组分和第二组分，所述第二可识别层具有第二组成、第二粒径和第二颗粒结构，其中第二组成、第二粒径和第二颗粒结构中的至少一个不同于第一组成、第一粒径和第一颗粒结构；以及
一个或多个间断，其特征在于所述第一可识别层和所述第二可识别层朝向基板表面向内变形。
45.如权利要求44所述的制品，其中，所述纳米层压涂层还包含在制品上的一个或多个位置处具有约150nm至约20,000nm的厚度的附加的可识别层，所述附加的可识别层包含第一组分和第二组分中的至少一个，并且所述附加的可识别层具有至少一个选自组成、粒径和颗粒结构、或其组合的特征不同于紧邻的上一层中的至少一个特征。
46.如权利要求44或45所述的制品，其中，所述第一可识别层在制品上的一个或多个位置处具有约225nm至约500nm的厚度。
47.如权利要求44-46中任一项所述的制品，其中，所述第二可识别层在制品上的一个或多个位置处具有约400nm至约1000nm的厚度。
48.如权利要求44-47中任一项所述的制品，其中，所述制品在制品上的一个或多个位置处包含至少6层。
49.如权利要求44-48中任一项所述的制品，其中，所述第一可识别层和第二可识别层的组合厚度在制品上的一个或多个位置处为6μm-14μm。
50.如权利要求44-49中任一项所述的制品，其中，所述第一组分和所述第二组分独立地包含Ni、Zn、Fe、Cu、Au、Ag、Pd、Sn、Mn、Co、Pb、Al、Ti、Mg、W、Rh、或者Cr。
51.如权利要求44-50中任一项所述的制品，其中，所述第一可识别层、所述第二可识别层或这两者独立地包含Ni和Zn、Ni和Co、Ni和Cr、或Zn和Fe。
52.如权利要求44-51中任一项所述的制品，其中，所述第一可识别层、所述第二可识别层或这两者在制品上的一个或多个位置处独立地包含约13wt％至约17wt％的Ni；或其中所述第一可识别层、所述第二可识别层或这两者在制品上的一个或多个位置处独立地包含约83wt％至约87wt％的Zn。
53.如权利要求44-52中任一项所述的制品，其中，当根据ASTM-B117-11盐雾试验测试时，在制品上的一个或多个位置处所述纳米层压涂层抗腐蚀并提供至少1000小时至首次红锈。
54.如权利要求44-53中任一项所述的制品，其中，所述一个或多个位置包括非螺纹表面。
55.如权利要求44-54中任一项所述的制品，其中所述一个或多个位置包括螺纹表面。
56.如权利要求44-55中任一项所述的多个制品，其中多个制品中的任何一个制品中的纳米层压涂层中的第一电沉积组分的重量百分比与在多个制品中的另一个制品中的纳米层压涂层中的相同的组分的重量百分比相差不超过6重量％；或
其中多个制品中的任何一个制品中的纳米层压涂层中的第二电沉积组分的重量百分比与在多个制品中的另一个制品中的纳米层压涂层中的相同的组分的重量百分比相差不超过6重量％。
57.如权利要求44-55中任一项所述的多个制品，其中在所述多个制品中的任何一个制品在制品上的第一位置处具有纳米层压涂层总厚度，所述纳米层压涂层总厚度不超出在所述多个制品中的其他制品上的相同位置处的纳米层压涂层的平均厚度的6μm的厚度。
58.如权利要求57所述的多个制品，其中在所述多个制品中的任何一个制品在制品上的第二位置处具有纳米层压涂层总厚度，所述纳米层压涂层总厚度不超出在所述多个制品中的其他制品上的相同位置处的纳米层压涂层的平均厚度的6μm的厚度。
59.如权利要求58所述的多个制品，其中所述一个或多个位置包括非螺纹表面。