本发明提供一种用于抛光基材的化学-机械抛光垫。该抛光垫包括：抛 光层；底层，其中该底层基本上与该抛光层共同延伸；以及热熔性粘合剂。 该热熔性粘合剂使该抛光层与该底层接合在一起。该热熔性粘合剂包含2～18 重量％的乙烯-乙酸乙烯酯或乙烯-丙烯酸乙烯酯(共同称作“EVA”)，且在该抛 光层达到40℃的温度时，该热熔性粘合剂基本上耐分层。
该抛光垫的抛光层可为任何合适的抛光层。期望地，该抛光层与该底层 基本上共同延伸。该抛光垫的抛光层任选地包括凹槽、沟道、和/或穿孔。这 些特征可促进抛光组合物在整个抛光层表面上的横向输送。该凹槽、沟道和 /或穿孔可为任何合适图案且可具有任何合适的深度及宽度。抛光层可具有两 种或更多种不同的凹槽图案，诸如大凹槽与小凹槽的组合，如美国专利第 5,489,233号中所述。凹槽的形式可为线形凹槽、倾斜凹槽、同心凹槽、螺旋 形或圆形凹槽、或X-Y交叉阴影线图案(crosshatch pattern)，且就连通性来说， 凹槽可为连续的或不连续的。
该抛光垫的底层(即副垫)可为任何合适的底层。期望地，该底层与该抛 光层基本上共同延伸。
该抛光垫任选地进一步包括设置于抛光层和底层之间的一个或多个中 间层。任选地，该抛光垫包括设置于抛光层与底层之间的三个或更多个(例 如四个或更多个、六个或更多个、或八个或更多个)的层。通常，该抛光垫 包括设置于抛光层与底层之间的十个或更少(例如八个或更少、或六个或更 少)的层。
抛光垫的中间层可为任何合适的层。期望地，中间层中的每一个均与抛 光层和底层基本上共同延伸。优选地，使用热熔性粘合剂使抛光层、底层及 中间层各自接合在一起。
这样的多层抛光垫的优点在于所述层各自可具有不同的物理或化学性 质。例如，在一些应用中，可能期望所述层各自具有相同的化学组成但具有 不同的物理性质，例如，硬度、密度、孔隙率、可压缩性、刚性、拉伸模量、 体积模量、流变性、蠕变、玻璃化转变温度、熔融温度、粘度、或透明度。 在其他应用中，可能期望抛光垫的各层具有相似的物理性质但具有不同的化 学性质(例如，不同的化学组成)。当然，该抛光垫的各层可既具有不同的化 学性质又具有不同的物理性质。
该抛光垫的各层可为任何合适的层。该抛光垫中的每层均可具有亲水 性、疏水性、或这两者的组合。该抛光垫中的每层均任选地含有颗粒(例如 加入到层中的颗粒)。所述颗粒可为研磨剂颗粒、聚合物颗粒、复合颗粒(例 如包封颗粒)、有机颗粒、无机颗粒、净化颗粒、水溶性颗粒、及它们的混 合物。合适的颗粒描述于例如美国专利第6,884,156及7,059,936号中。
该抛光垫的每层均可具有任何适宜的硬度(例如，30-50肖氏A或25-80 肖氏D)。类似地，每层均可具有任何适宜的密度和/或孔隙率。例如，每层 均可为无孔的(例如，实心的)、接近实心的(例如，具有小于10％的孔隙体积)、 或多孔的，和/或可具有0.3克/立方厘米或更高(例如，0.5克/立方厘米或更 高、或0.7克/立方厘米或更高)或甚至0.9克/立方厘米或更高(例如，1.1克/ 立方厘米或更高、或高达该材料理论密度的99％)的密度。对于一些应用， 可能期望抛光垫材料的一层或多层(例如，抛光层)为硬质、致密的和/或具有 低孔隙率，而其它层中的一层或多层为软质、高孔隙率的和/或具有低密度。
该抛光垫的每层均可具有任何合适的厚度。优选地，每层的厚度均为抛 光垫总厚度的至少10％或更大(例如，20％或更大、或30％或更大)。每层的 厚度部分地取决于抛光垫层的总数。此外，抛光垫层中的两个或更多个层(例 如所有的层)可具有相同的厚度，或者这些层可各自具有不同的厚度。
该抛光垫的每层均任选地进一步包括光学终点检测口。期望地，该多层 抛光垫中的每层均包括光学终点检测口，且所述各光学终点检测口基本对 准。所述光学终点检测口可为一个或多个孔、透明区域、或半透明区域(例 如，如美国专利第5,893,796号中所述的窗口)。当将抛光垫与原位CMP过 程监控技术一起使用时，期望包含所述孔或半透明区域(即光学透射区域)。 通过分析自工件表面反射的光或其他辐射而检测及监控抛光过程的技术在 本领域中是已知的。这样的方法描述于例如美国专利5,196,353、5,433,651、 5,609,511、5,643,046、5,658,183、5,730,642、5,838,447、5,893,796、5,949,927 及5,964,643中。期望地，对于正被抛光的工件的抛光过程的进展的检测或 监控使得能够确定抛光终点，即，确定何时终止对特定工件的抛光过程。
所述孔可具有任何适宜的形状且可与用于使抛光表面上的过量的抛光 组合物最少化或使其消除的排放沟道组合使用。所述光学透射区域或窗口可 为任何合适的窗口，其中的许多是本领域已知的。例如，该光学透射区域可 包括插入到该抛光垫的孔中的基于玻璃或聚合物的插入物，或者该光学透射 区域可包括与抛光垫其余部分中所用材料相同的聚合物材料。通常，该光学 透射区域在190nm～10,000nm(例如190nm～3500nm、200nm～1000nm、或 200nm～780nm)的一个或多个波长下具有10％或更多(例如20％或更多、或 30％或更多)的透光率。
该光学透射区域可具有任何合适的结构，例如结晶度、密度及孔隙率。 例如，该光学透射区域可为实心的或多孔的(例如微孔性的或纳孔性的)。优 选地，该光学透射区域为实心的或接近实心的(例如，具有3％或更小的空隙 体积)。该光学透射区域任选地进一步包括选自聚合物颗粒、无机颗粒、及 其组合的颗粒。任选地，该光学透射区域包含孔。
该光学透射区域任选地进一步包括染料，其使抛光垫的基材材料选择性 地透射特定波长的光。所述染料用于滤除不期望的波长的光(例如背景光)， 并从而改善检测的信噪比。该光学透射区域可包括任何适宜的染料，或可包 含染料的组合。适宜的染料包括多次甲基染料、二-及三-芳基次甲基染料、 二芳基次甲基染料的氮杂类似物、氮杂(18)轮烯染料、天然染料、硝基染料、 亚硝基染料、偶氮染料、蒽醌染料、硫染料等。期望地，该染料的透射光谱 与用于原位终点检测的光的波长相匹配或重叠。例如，当用于终点检测(EPD) 系统的光源为HeNe激光时，其产生波长为633纳米的可见光，优选地，该 染料为红色染料，其能够透射波长为633纳米的光。
该热熔性粘合剂可为任何合适的热熔性粘合剂。该热熔性粘合剂包含 2～18重量％的乙烯-乙酸乙烯酯或乙烯-丙烯酸乙烯酯(共同称作“EVA”)。具体 地说，该EVA可以18重量％或更少(例如，16重量％或更少、15重量％或更 少、12重量％或更少、11重量％或更少、10重量％或更少、8重量％或更少、 5重量％或更少、或3重量％或更少)的量存在于热熔性粘合剂中。可选地或 者额外地，该EVA可以2重量％或更高(例如，3重量％或更高、5重量％或 更高、8重量％更高、10重量％或更高、12重量％或更高、或15重量％或更 高)的量存在于热熔性粘合剂中。例如，该EVA可以3-15重量％、5-11重量 ％、8-10重量％、或12-16重量％的量存在于热熔性粘合剂中。
已出人意料地发现：含有2～18重量％的EVA的热熔性粘合剂在CMP 期间呈现出高的耐化学性和耐热性，并从而呈现出耐分层性。期望地，当抛 光层达到40℃(例如45℃、50℃、55℃、60℃、65℃、70℃、75℃、80℃、 85℃、90℃、95℃、或100℃)的温度时，该热熔性粘合剂层基本上耐分层。
本发明热熔性粘合剂的耐热性可通过剪切粘附力或固持力测试来测定。 固持力提供了在升高的温度和剪切条件下的粘合强度的精确预测。在本文 中，所使用的固持力为在规定的测试条件下沿平行于标准平坦表面的方向在 该表面上滑过样品的标准面积所需的时间。固持力为测定样品在规定负载下 在规定量的时间后所移动的毫米数(mm)的恒定负载蠕变测试。
本发明中所用的热熔性粘合剂的相对高的固持力表明该粘合剂在高达 100℃的抛光温度下具有耐热性。例如在40℃下、在1kg负载应力下达1小 时时，该热熔性粘合剂移动0.2mm或更少，例如，0.15mm或更少、0.1mm 或更少、0.05mm或更少、或0mm。在相同温度和相同应力下24小时后， 该热熔性粘合剂移动0.5mm或更少，例如，0.4mm或更少、0.3mm或更少、 0.2mm或更少、0.1mm或更少、或0mm。例如在60℃下、在1kg负载应力 下达1小时时，该热熔性粘合剂移动0.2mm或更少，例如，0.15mm或更少、 0.1mm或更少、0.05mm或更少、或0mm。在相同温度和相同应力下24小 时后，该热熔性粘合剂移动0.5mm或更少，例如，0.4mm或更少、0.3mm 或更少、0.2mm或更少、0.1mm或更少、或0mm。例如在80℃下、在1kg 负载应力下达1小时时，该热熔性粘合剂移动0.5mm或更少，例如，0.4mm 或更少、0.3mm或更少、0.2mm或更少、0.1mm或更少、或0mm。在相同 温度和相同应力下24小时后，该热熔性粘合剂移动1.0mm或更少，例如， 0.8mm或更少、0.5mm或更少、0.3mm或更少、0.1mm或更少、或0mm。 例如在100℃下、在1kg负载应力下达1小时时，该热熔性粘合剂移动0.5mm 或更少，例如，0.4mm或更少、0.3mm或更少、0.2mm或更少、0.1mm或更 少、或0mm。在相同温度和相同应力下24小时后，该热熔性粘合剂移动 1.5mm或更少，例如，1.2mm或更少、1.0mm或更少、0.8mm或更少、0.5mm 或更少、0.3mm或更少、0.1mm或更少、或0mm。
可根据ASTM D1238(2004)中所述的测试来测定热熔性粘合剂的熔体流 动指数。熔体流动指数是热塑性材料在规定温度和负载下通过孔口的挤出速 率的度量。熔体流动指数提供了度量熔融材料的流动的方法，该方法可用于 区分熔融材料的等级。具体地说，在抛光垫应用中，该熔体流动指数表征了 该粘合剂填充该层上与该粘合剂接触的表面上可能存在的任何凹痕(divot)或 小孔的速率。
该热熔性粘合剂的熔体流动指数可为任何合适的值。例如，该熔体流动 指数可为400g/10min或更低，例如200g/10min或更低、100g/10min或更低、 75g/10min或更低、65g/10min或更低、50g/10min或更低、35g/10min或更 低、25g/10min或更低、15g/10min或更低、10g/10min或更低、或5g/10min 或更低。可选择地或者另外地，该熔体流动指数可为4g/10min或更高，例 如10g/10min或更高、25g/10min或更高、50g/10min或更高、75g/10min或 更高、100g/10min或更高、200g/10min或更高、或300g/10min或更高。期 望地，该热熔性粘合剂的熔体流动指数为4g/10min～400g/10min。
可根据ASTM D1525(2006)中所述的测试来测定热熔性粘合剂的维卡软 化温度。维卡软化温度为这样的温度，在该温度下，1mm2的平头针在特定 负载、特定加热速率下刺入样品1mm的深度。维卡软化温度可用于预测当 将粘合剂施加至抛光垫或者当将粘合剂用于高温应用中时粘合剂的软化点。
本发明还提供了一种抛光基材的方法，其包括：(i)提供上述用于化学机 械抛光的抛光垫；(ii)使该基材与该抛光垫及抛光组合物接触；和(iii)相对于 该基材移动该抛光垫和该抛光组合物，以使用该抛光垫磨除该基材表面的至 少一部分来抛光该基材。
具体地说，本发明提供一种抛光基材的方法，其包括：(i)提供用于化学 机械抛光的抛光垫；(ii)使该基材与该抛光垫及抛光组合物接触；和(iii)相对 于该基材移动该抛光垫和该抛光组合物以使用该抛光垫磨除该基材表面的 至少一部分来抛光该基材，其中，所述抛光垫包括：(a)抛光层；(b)底层，其 中该底层与该抛光层基本上共同延伸；及(c)热熔性粘合剂，其中该热熔性粘 合剂使该抛光层和该底层接合在一起，且该热熔性粘合剂包含2～18重量％ 的EVA，当该抛光层达到40℃的温度时，该热熔性粘合剂基本上耐分层。
该抛光组合物可为任何适宜的抛光组合物。该抛光组合物通常包含含水 载体、pH调节剂、及任选的研磨剂。取决于抛光工件的类型，抛光组合物 任选地可进一步包含氧化剂、有机酸、络合剂、pH缓冲剂、表面活性剂、 腐蚀抑制剂、消泡剂等。
本发明进一步提供一种制备用于基材的化学机械抛光的抛光垫的方法， 其包括：(i)提供用于化学机械抛光的抛光垫，该抛光垫包括(a)抛光层和(b) 底层，其中该底层与该抛光层基本上共同延伸；以及(ii)用热熔性粘合剂对该 抛光层和该底层中的至少一个进行层压，其中，该热熔性粘合剂使该抛光层 和该底层接合在一起，且该热熔性粘合剂包含2～18重量％的EVA，当该抛 光层达到40℃的温度时，该热熔性粘合剂基本上耐分层。
可通过任何合适的层压方法实现层压。通常，通过使用标准层压机辊将 粘合剂施加至抛光垫的一层(或多层)上来实现层压。例如，在包括抛光层和 底层的抛光垫中，将热熔性粘合剂施加至该抛光层和该底层中的至少一个 上，由此使该抛光层和该底层接触在一起。任选地，将该热熔性粘合剂施加 至该抛光层和该底层两者上，由此使该抛光层和该底层接触在一起。在包含 设置在该抛光层和该底层之间的一个或多个中间层的抛光垫中，除了将热熔 性粘合剂施加至抛光层和/或底层上之外，还可将该热熔性粘合剂施加至所述 中间层中的至少一个上，或者，作为将热熔性粘合剂施加至抛光层和/或底层 上的替代方案，可将热熔性粘合剂施加至所述中间层中的至少一个上，由此 使这些层同时或不同时地接触在一起。期望地，该热熔性粘合剂将这些层中 的每一层接合，因此，将该热熔性粘合剂施加至彼此接触的每一对层中的至 少一层的侧面上，从而使得在所述对层之间有粘合剂。
可在任何合适的层压温度和压力下进行层压。期望地，在这样的温度下 进行层压，该温度足以将所述层加热至等于或高于热熔性粘合剂活化温度的 温度。在粘合剂活化温度或高于该温度的温度下，层压的各层甚至在相对高 的抛光温度下也保持固持力并耐分层。基于EVA的热熔性粘合剂的活化温 度通常为80℃～120℃，例如，80℃～110℃、80℃～100℃、80℃～90℃、90℃ ～120℃、90℃～110℃、90℃～100℃、100℃～120℃、100℃～110℃、或110℃ ～120℃。期望地，在足以将所述层加热至110℃～120℃(例如112℃、115℃、 或118℃)的温度下进行层压。
所述层实际达到的温度可明显低于通常的层压装置所设定的层压温度。 具体而言，所述层达到的温度可以比所设定的层压温度低50℃至70℃。可 将层压装置的层压温度设定为任何合适的温度以获得期望的层温度。例如， 可将该层压温度设定为150℃～200℃的温度，例如，150℃～190℃、150℃～180 ℃、150℃～170℃、150℃～160℃、160℃～200℃、160℃～190℃、160℃～180 ℃、160℃～170℃、170℃～200℃、170℃～190℃、170℃～180℃、180℃～200 ℃、180℃～190℃、或190℃～200℃。通常，将层压温度设定为170℃～190 ℃的温度，例如175℃、180℃、或185℃。
可以任何适合的速度进行层压。例如，可以任何合适的速度使所述层通 过层压机辊，且可使所述层遭受层压机辊的作用达任何合适的停留时间。期 望地，可降低层压机辊的速度以增加层的停留时间，从而使层的表面温度更 接近于所设定的层压装置的层压温度。
出人意料地发现：使用热熔性粘合剂在足以将垫表面加热至温度等于或 高于热熔性粘合剂活化温度的温度下层压的抛光垫在高温抛光应用中呈现 出改善的耐分层性。具体地说，使用含有2～18重量％的EVA的热熔性粘合 剂在150℃～200℃的温度下层压的抛光垫在CMP期间呈现出高的耐化学性 和耐热性，并从而耐分层。具体地说，当抛光层达到40℃或更高的温度(例 如40℃、45℃、50℃、55℃、60℃、65℃、70℃、75℃、80℃、85℃、90 ℃、95℃、或100℃)时，该热熔性粘合剂基本上耐分层。
实施例
以下实施例进一步说明本发明，但是，当然不能解释为以任何方式限制 本发明的范围。
实施例1
该实施例说明了随EVA含量而变化的基于EVA的热熔性粘合剂的热稳 定性和熔体流动。
测定12种含有不同量EVA的不同热熔性粘合剂(即粘合剂1A～1L)的熔 点、维卡软化点和熔体流动指数。根据ASTM D1238(2004)测定熔体流动指 数以确定各种热熔性粘合剂的流动。根据ASTM D1525(2006)测定维卡软化 点以确定该热熔性粘合剂的热稳定性。
表1：随EVA含量而变化的热熔性粘合剂性质
  粘合剂   EVA   重量％   Tm   (℃)   维卡软化温度   (℃)   熔体流动指数   (g/10min)   1A(对比例)   0   110   105   20   1B(本发明)   2.5   107   98   5   1C(本发明)   5   104   83   28   1D(本发明)   9   100   80   10   1E(本发明)   12   96   78   2.5   1F(本发明)   15   93   71   43   1G(本发明)   16   89   62   28   1H(本发明)   18   88   60   67   1I(对比例)   25   78   51   800   1J(对比例)   28   72   50   400   1K(对比例)   32   63   46   43   1L(对比例)   40   47   35   57
这些结果表明：与含有其它量的EVA或不含EVA的热熔性粘合剂相比， 含有2～18重量％的EVA的热熔性粘合剂具有相对低的熔体流动指数。
实施例2
该实施例说明了本发明热熔性粘合剂在高温下的固持力。
测定三种不同的粘合剂(即粘合剂2A～2C)在不同温度下的固持力。粘合 剂2A(对比例)为热熔性粘合剂。粘合剂2B(对比例)为压敏粘合剂。粘合剂 2C(本发明)为含有2～18重量％的EVA的基于EVA的热熔性粘合剂。对粘合 剂2B和2C进行两次测试。
制备经层压的样品以用于测试。所述经层压的样品的长度为约4英寸。 每一经层压的样品均含有隔离层、粘合剂层(通常用以将垫组件固定到压板 上以进行抛光)、副垫、将副垫固定到顶垫(top pad)上的粘合剂、及顶垫。从 该样品上移除隔离衬垫，并将该样品固定到约10.16cm(4英寸)长、2.54cm(1 英寸)宽及0.64cm(0.25英寸)厚的铝板上。使该经层压的样品经历15-30分钟， 以充分粘附到该铝板上。
每个铝板均包括直径约0.64cm(0.25英寸)的孔，使得每个板能够以吊钩 悬挂在烘箱中。此外，在每个经层压的样品中冲压孔，以使得样品能够悬挂 1kg的重物。在加热至不同温度(约40℃、60℃、80℃、及100℃)的控温烘 箱中进行固持力测试。将包括经层压的样品和悬挂的重物的铝板放入已加热 的烘箱中。在该样品和烘箱的温度稳定时，开启计时器。在1小时后和在24 小时后，记录粘合剂与抛光垫层之间的分层程度。“脱落”表示样品完全分 层，即，粘合剂从所述垫层完全剥离。结果概括于表2中。
表2：随时间及温度而变化的粘合剂固持力

这些结果表明：所用粘合剂的类型(即压敏粘合剂或热熔性粘合剂)和粘 合剂的特定化学组成(即EVA的重量百分数)对不同温度下的粘合剂固持力 具有显著影响。本发明的热熔性粘合剂表现出较大的固持力(即较小的分层 程度)，即使在高达80℃或100℃的温度下也是如此。
实施例3
该实施例说明了层压温度对本发明热熔性粘合剂的固持力的影响。
使用本发明的基于EVA的热熔性粘合剂在不同层压温度下层压27个抛 光垫(即抛光垫3AA～3BA)。根据实施例2制备层压垫的样品，并在70℃和 80℃下进行固持力测试。观察所述抛光垫，观察时间最高达16小时(960分 钟)，并记录观察到任何分层时的时间。结果概括于表3中。
表3：随层压温度而变化的热熔性粘合剂的分层
  抛光垫   大致层压温度(℃)   烘箱温度(℃)   分层时间(分钟)   3AA   150   70   ＞960(未观察到分层)   3AB   165   70   ＞960(未观察到分层)   3AC   70   80   10   3AD   70   80   10   3AE   70   80   12   3AF   70   80   15   3AG   70   80   8   3AH   120   80   10   3AI   120   80   25   3AJ   120   80   35   3AK   120   80   35   3AL   120   80   20   3AM   150   80   30   3AN   150   80   25   3AO   150   80   20   3AP   150   80   20   3AQ   150   80   30   3AR   165   80   270   3AS   165   80   165   3AT   165   80   360   3AU   165   80   260   3AV   165   80   160   3AW   170   80   ＞960(未观察到分层)   3AX   170   80   ＞960(未观察到分层)   3AY   170   80   ＞960(未观察到分层)   3AZ   170   80   ＞960(未观察到分层)   3BA   170   80   ＞960(未观察到分层)
这些结果表明：使用本发明的热熔性粘合剂在该热熔性粘合剂的活化温 度或高于该温度的温度下层压的抛光垫表现出提高了的固持力且在高温下 耐分层。
实施例4
该实施例对使用本发明热熔性粘合剂制备的抛光垫的性能与使用美国 专利6,422,921号中所述的热熔性粘合剂及美国专利7,101,275号中所述的属 于同一大类的热熔性粘合剂制备的抛光垫的性能进行了比较。
UAF-420热熔性粘合剂得自位于新泽西州的Adhesive Films of Pine Brook。使用UAF-420热熔性粘合剂在90℃～95℃的层压温度下以1分钟的 停留时间来层压四个EPICTM D100垫(Cabot Microelectronics，Aurora， Illinois)(即抛光垫4A～4D)。将层压机辊的压力设定为8.6kPa(1.25psi)，且施 加至该垫的实际压力为550kPa(80psi)。测定每个经层压的垫在305mm/min 的速度下的T-剥离强度。
这些测试参数符合美国专利第7,101,275号的规定。具体地说，′275专 利规定层压温度可为50℃～150℃(第5栏第4-5行)且在305mm/min的速度下 测定T-剥离强度(参见例如第3栏第62-63行)。′275专利公开了该“发明” 包括聚氨酯热熔性粘合剂(第3栏第33-36行)，且美国专利第6,422,921号公 开了UAF-420为这样的聚氨酯热熔性粘合剂(第3栏第25-27行)。将UAF-420 热熔性粘合剂的T-剥离结果概括于表4A中。
表4A：现有技术热熔性粘合剂的T-剥离强度
  抛光垫  T-剥离强度(N)   4A(对比例)   48.9   4B(对比例)   58.7   4C(对比例)   58.8   4D(对比例)   59.2   平均值(4A～4D)   56.4
这些结果表明：使用现有技术公开的热熔性粘合剂大类制备的抛光垫表 现出与′275专利中所要求保护的抛光垫相同的T-剥离强度。
使用UAF-420热熔性粘合剂在170℃的层压温度下层压5个额外的 EPICTM D100垫(即抛光垫4E～4I)。将层压机辊的压力设定为8.6kPa(1.25psi)， 且施加至该垫的实际压力为550kPa(80psi)。根据实施例2制备层压垫样品， 且在80℃下进行固持力测试。观察所述抛光垫，并记录观察到任何分层时的 时间。每个分层均为完全分层或“脱落”，即，粘合剂从所述垫层完全剥离。 结果概括于表4B中。
表4B：现有技术的热熔性粘合剂的固持力
抛光垫   分层时间(分钟) 4E(对比例)   9 4F(对比例)   13 4G(对比例)   15 4H(对比例)   16 4I(对比例)   9 平均值(4E～4I)   12.4
这些结果表明：虽然现有技术的热熔性粘合剂UAF-420表现出足以满 足美国专利第7,101,275号的要求的T-剥离强度，但其在高温下并未表现出 可与由本发明所用的基于EVA的热熔性粘合剂所表现出的固持力相比的固 持力。具体地说，当使用本发明的基于EVA的热熔性粘合剂在约170℃下层 压抛光垫并在80℃的烘箱温度下对该抛光垫进行固持力测试时，未观察到分 层，即使在960分钟后也是如此(参见实施例3中的经层压的抛光垫3AW、 3AX、3AY、3AZ、及3BA)。对比之下，在相同测试条件下仅在平均12.4 分钟后即观察到UAF-420粘合剂的完全分层。
这些结果进一步表明：T-剥离测试为粘合强度在剪切条件和升高的温度 下的不充分的指标。虽然现有技术的热熔性粘合剂UAF-420表现出足以满 足美国专利第7,101,275号的要求的T-剥离强度，但固持力测试的结果表明 其在升高的温度下无法承受剪切力。粘合剂的T-剥离强度不能单独用来说明 使用该粘合剂层压的抛光垫在高温抛光应用期间会耐分层。本文所公开的固 持力测试提供了在剪切条件和升高的温度下的粘合强度的更精确的表示法。