专利汇可以提供一种低压环境退火去除基底材料表面附着杂质的方法专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本 发明 提供了一种低压环境 退火 去除基底材料表面附着杂质的方法,该方法包括:将样品放入 退火炉 中并抽 真空 后,通入保护气体并维持保护气体气压,开启退火炉升温至退火 温度 并维持一定时间后,降温至室温后放真空,取出样品。目前,大部分剥离单 原子 层样品和CVD单原子层样品在实验中所沾染的杂质都是胶体或者油性杂质,在低压保护气环境下,选择合适的温度对附有样品的基底材料进行退火,可以使胶体、油污等杂质产生变性或变成气态,可以使杂质脱离基底表面,并且同时基本不影响样品本身的性质和性能。,下面是一种低压环境退火去除基底材料表面附着杂质的方法专利的具体信息内容。
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