硅片清洗液
阅读：340发布：2020-05-13
专利汇可以提供硅片清洗液专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且本 发明 公开了新型 硅 片 清洗液，由 表面活性剂 20-50份、三羟乙基胺7-12份、 乙醇 7-13份、丙二醇3-9份、氟化铵7-10份、柑橘油3-6份、 水 20-33份组成，以重量份数计。本发明可有效提高对 硅片 的清洁程度，配方简单易于操作，对环境无不利影响， 去污 力 强，提高了硅片的清洗速度与耐用性能，有利于提高硅片清洗的清洁率，使硅片清洁率达到99.9％。，下面是硅片清洗液专利的具体信息内容。
硅片清洗液
技术领域
背景技术
[0002] 随着社会的发展，能源危机日益严重的今天，开发利用新能源已经越来越收到人们的关注，太阳能由于器无污染、可再生、无地域性等优点，越来越受到人们的青睐，太阳能产业也来越得以发展。而伴随太阳能光伏产业的成熟，硅片的使用也越来越多。
[0003] 清洗最为硅片的一个生产工序之一，清洗的好坏程度对硅片的使用性能有着很大的影响。清洗的主要目的是为了清洗掉切割过程中产生的沙粒，残留的切削磨料、金属离子及指纹等，使硅片表面达到无腐蚀、无氧化、无残留等技术指标。传统的硅片清洗，由于各个方法不一样，采用的清洗液也不一样。现有技术中的清洗液清洗效果较差，对于硅片表面的污渍难以做到更好的去除，降低了硅片的使用效果。
发明内容
[0004] 本发明所要解决的技术问题是提供一种能将硅片清洗干净，使用简单的新型清洗液。
[0005] 为了解决上述技术问题，本发明新型硅片清洗液，由表面活性剂20-50份、三羟乙基胺7-12份、乙醇7-13份、丙二醇3-9份、氟化铵7-10份、柑橘油3-6份、水 20-33份组成，以重量份数计。
[0006] 上述新型硅片清洗液，其中，由表面活性剂27份、三羟乙基胺8份、乙醇11份、丙二醇7份、氟化铵9份、柑橘油2.5份、水 31份组成。
[0007] 上述新型硅片清洗液，其中，所述表面活性剂为非离子表面活性剂。
[0008] 上述新型硅片清洗液，其中，所述表面活性剂为单硬脂酸甘油酯。
[0009] 上述新型硅片清洗液，其中，所述水为去离子水。
具体实施方式
[0011] 下面结合具体实施例对本发明作进一步说明。
[0012] 实施例一
[0013] 新型硅片清洗液，将单硬脂酸甘油酯27份、三羟乙基胺8份、乙醇11份、丙二醇7份、氟化铵9份、柑橘油2.5份、水 31份组成。以重量份数计，将上述原料以120r/min的速度下，搅拌15 分钟。
[0014] 性能指标：清洗硅片1000片，清洗洁净程度达到99.9%
[0015] 实施例二
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