1.用于进行环境离子质谱和/或离子迁移率谱的设备，包括：
基本上圆柱形、管状、棒状、线圈状、螺旋状或螺旋形的碰撞组件；以及
第一装置，被安装并适于将分析物、烟雾、烟气、液体、气体、手术烟雾、气溶胶或蒸气引导到所述碰撞组件上。
2.用于进行环境离子质谱和/或离子迁移率谱的设备，包括：
碰撞组件；以及
第一装置，被安装并适于将分析物、烟雾、烟气、液体、气体、手术烟雾、气溶胶或蒸气引导到所述碰撞组件上。
3.如权利要求1或2所述的设备，其中所述碰撞组件具有第一纵向轴线，并且所述第一装置被布置并适于将所述分析物、烟雾、烟气、液体、气体、手术烟雾、气溶胶或蒸气沿着基本上与所述第一轴线正交的第二轴线引导到所述碰撞组件上；或者
其中所述碰撞组件具有第一纵向轴线，并且所述第一装置被布置并适于将所述分析物、烟雾、烟气、液体、气体、手术烟雾、气溶胶或蒸气沿着所述第一轴线引导到所述碰撞组件上。
4.如权利要求1或2所述的设备，其中所述碰撞组件是网状物。
5.用于电离气溶胶、烟雾或蒸气的设备，包括：
具有进口和出口的中空碰撞组件，其中所述碰撞组件的内部横截面面积：(i)基本上恒定；或(ii)在从所述进口到所述出口的方向上减小；或(iii)在从所述进口到所述出口的方向上增加。
6.如权利要求5所述的设备，其中所述进口被布置以接收所述气溶胶。
7.如权利要求6所述的设备，其中所述气溶胶被布置以撞击在所述碰撞组件的边缘和/或内表面上。
8.如权利要求7所述的设备，其中所述气溶胶被布置以撞击在所述内表面上以形成或释放分析物离子。
9.如权利要求8所述的设备，其中所述分析物离子被布置以经由所述出口从所述碰撞组件出来。
10.如权利要求5-9的任一项中所述的设备，其中所述碰撞组件包括漏斗形碰撞组件。
11.如权利要求5-9的任一项中所述的设备，其中所述碰撞组件包括管状或圆柱形碰撞组件。
12.如权利要求5-11的任一项中所述的设备，进一步包括第一装置，所述第一装置被布置并适于将所述气溶胶沿着与所述碰撞组件的纵向轴线基本上同轴的轴线引导到所述碰撞组件中。
13.如权利要求3-12的任一项中所述的设备，其中所述碰撞组件由线圈结构或由连续的管状或锥形结构形成。
14.如以上任一项权利要求所述的设备，进一步包括用于加热所述碰撞组件的加热器或加热线圈。
15.如权利要求14所述的设备，其中所述加热器或所述加热线圈是所述分析物、烟雾、烟气、液体、气体、手术烟雾、气溶胶或蒸气可以被引导到其上的碰撞组件。
16.如权利要求14所述的设备，其中所述加热器或所述加热线圈被所述碰撞组件包围或被嵌入在所述碰撞组件内。
17.如权利要求16所述的设备，其中所述碰撞组件包括其中的孔，使得所述加热器或加热线圈可以被所述孔暴露于所述烟雾、烟气、液体、气体、手术烟雾、气溶胶或蒸气。
18.如权利要求14-17的任一项中所述的设备，进一步包括用于向所述加热器或所述加热线圈供应电源的一个或多个电极。
19.如权利要求14-18的任一项中所述的设备，其中所述设备被配置以向所述加热器或加热线圈供应电流用于加热所述碰撞组件，其中电流选自下列：约≥0.5A；≥约1A；约≥
1.5A；约≥2A；约≥2.5A；约≥3A；约≥3.5A；约≥4A；约≥4.5A；以及约≥5A。
20.如权利要求14-19的任一项中所述的设备，其中所述加热器或加热线圈被布置以将所述碰撞组件加热至选自下列的温度：(i)约<100℃；(ii)约100℃-200℃；(iii)约200℃-
300℃；(iv)约300℃-400℃；(v)约400℃-500℃；(vi)约500℃-600℃；(vii)约600℃-700℃；(viii)约700℃-800℃；(ix)约800℃-900℃；(x)约900℃-1000℃；(xi)约1000℃-1100℃；和(xii)约>1100℃。
21.如权利要求20所述的设备，其中所述加热器或加热线圈被布置并配置以从被分析的样品中烧掉沉积在所述碰撞组件上的污染物。
22.如以上任一项权利要求所述的设备，其中所述碰撞组件是或包括外部碰撞表面，所述外部碰撞表面为：陶瓷，非陶瓷，玻璃，玻璃-陶瓷，石英，金属如钢或镍，或金属合金如铁-铬-铝(FeCrAl)合金、Kanthal、Nikrothal或Nichrome。
23.如以上任一项权利要求所述的设备，其中所述分析物、烟雾、烟气、液体、气体、手术烟雾、气溶胶或蒸气沿轴线被引导到具有与所述轴线正交的选自下列的最大或最小尺寸的碰撞组件的区域上：约≥1mm；约≥2mm；约≥3mm；约≥4mm；约≥5mm；约≥6mm；约≥7mm；以及约≥8mm；和/或被引导到具有与所述轴线正交的选自下列的最大或最小尺寸的碰撞组件的区域上：约≤8mm；约≤7mm；约≤6mm；约≤5mm；约≤4mm；以及约≤3mm。
24.如以上任一项权利要求所述的设备，包括在所述碰撞组件周围布置的鞘管，所述烟雾、烟气、液体、气体、手术烟雾、气溶胶或蒸气可以在使用中穿行通过所述鞘管。
25.如权利要求24所述的设备，其中所述鞘管在所述碰撞组件的上游和/或下游延伸。
26.如权利要求24或25所述的设备，包括用于保持所述碰撞组件和所述鞘管之间的电位差的一个或多个电压源。
27.如以上任一项权利要求所述的设备，进一步包括用于将所述烟雾、烟气、液体、气体、手术烟雾、气溶胶或蒸气递送到所述碰撞组件上的毛细管或样品管。
28.如权利要求27所述的设备，其中所述毛细管或样品管的出口孔被布置在所述碰撞组件的所述碰撞表面上游的选自下列的距离：约0mm；约≤1mm；约1-2mm；约2-3mm；约3-4mm；
约4-5mm；约5-6mm；约6-7mm；约7-8mm；约8-9mm；约9-10mm；以及约≥10mm；和/或其中所述毛细管或样品管被接收在一个孔中，并且所述毛细管或样品管包括与其附接并且从其外表面径向向外延伸的移动限制构件，用于啮合所述设备的另一部分，以限制所述毛细管或样品管移动到所述孔中的程度，以将所述毛细管或样品管的出口定位在与所述碰撞表面预定的固定距离处。
29.如权利要求27或28所述的设备，包括用于加热所述毛细管或样品管的加热器。
30.如权利要求29所述的设备，其中所述加热器被配置以将所述毛细管或样品管加热到选自下列的温度：(i)约<100℃；(ii)约100℃-150℃；(iii)约150℃-200℃；(iv)约200℃-250℃；(v)约250℃-300℃；(vi)约300℃-350℃；(vii)约>350℃。
31.如以上任一项权利要求所述的设备，进一步包括用于支撑所述碰撞组件的第一支架。
32.如权利要求31所述的设备，其中所述第一支架由陶瓷或非陶瓷形成。
33.如权利要求31或32所述的设备，其中用于向所述加热器或加热线圈供应电源的所述一个或多个电极穿过所述第一支架。
34.如权利要求31、32或33所述的设备，进一步包括主加热器组件或单元壳体。
35.如权利要求34所述的设备，其中所述第一支架被可移除地安装到所述主加热器组件或单元壳体上。
36.如权利要求34或35所述的设备，其中所述主加热器组件或单元壳体进一步包括穿过其中的孔和用于选择性地关闭所述孔的第一隔离阀；任选地，其中所述第一隔离阀包括球阀。
37.如权利要求36所述的设备，其中所述第一隔离阀被布置并配置成当一个或多个毛细管或样品管插入所述孔中时打开。
38.如权利要求37所述的设备，其中所述第一隔离阀被布置成当所述一个或多个毛细管或样品管至少部分地或完全地从所述孔移除时关闭。
39.如权利要求37或38所述的设备，进一步包括所述一个或多个毛细管或样品管，它们在使用中延伸或定位穿过所述孔，用于将分析物、烟雾、烟气、液体、气体、手术烟雾、气溶胶或蒸气供应到所述碰撞组件上。
40.如权利要求39所述的设备，其中所述一个或多个毛细管或样品管在使用中延伸通过所述第一支架。
41.如权利要求40或41所述的设备，其中所述一个或多个毛细管或样品管具有在使用中基本上邻近所述碰撞组件或面向所述碰撞组件而布置的出口。
42.如以上任一项权利要求所述的设备，进一步包括一个或多个屏，所述一个或多个屏至少部分地围绕所述碰撞组件处于延伸位置，用于保护所述碰撞组件。
43.如权利要求42所述的设备，其中所述一个或多个屏从所述延伸位置至少部分地或完全地能缩回到缩回位置，在缩回位置中，所述碰撞组件的至少一部分不被所述一个或多个屏包围。
44.如权利要求43所述的设备，其中所述一个或多个屏被偏置朝向所述延伸位置。
45.如以上任一项权利要求所述的设备，进一步包括源壳体。
46.如权利要求45所述的设备，其中所述源壳体进一步包括第二隔离阀。
47.如权利要求46所述的设备，其中所述主加热器或可移除的单元壳体组件能插入到所述源壳体内或者能与所述源壳体连接，并且其中在使用中，所述主加热器组件或可移除的单元壳体然后另外地能从第一旋转位置旋转到第二旋转位置。
48.如权利要求47所述的设备，其中所述主加热器组件或可移除的单元壳体从所述第一位置到所述第二位置的旋转被布置并适于在使用中将所述第二隔离阀从第一操作位置移动到第二操作位置。
49.如权利要求48所述的设备，其中在所述第一操作位置中，所述第二隔离阀基本上是关闭的。
50.如权利要求48或49所述的设备，其中在所述第二操作位置中，所述第二隔离阀基本上是打开的。
51.如以上任一项权利要求所述的设备，其中所述第一装置或所述设备构成或形成环境离子或电离源的一部分；或其中所述第一装置或设备被配置以从待分析的目标产生气溶胶、烟雾或蒸气，并且所述气溶胶、烟雾或蒸气包含离子或者随后被环境离子或电离源或其它电离源电离。
52.如权利要求51的任一项所述的设备，其中所述目标包括天然或未改性的目标材料。
53.如权利要求52所述的设备，其中所述天然或未改性的目标材料通过添加基质或试剂而未改性。
54.如权利要求51-53的任一项中所述的设备，其中所述第一装置或设备被布置并适于从所述目标的一个或多个区域产生气溶胶、烟雾或蒸气，而在制备前不需要所述目标。
55.如权利要求51-54的任一项中所述的设备，其中所述第一装置或设备包括或者形成选自由以下各项组成的组的装置或离子源的一部分：(i)快速蒸发电离质谱(“REIMS”)离子源；(ii)解吸电喷雾电离(“DESI”)离子源；(iii)激光解吸电离(“LDI”)离子源；(iv)热解吸离子源；(v)激光二极管热解吸(“LDTD”)离子源；(vi)解吸电流聚焦(“DEFFI”)离子源；
(vii)介电阻挡放电(“DBD”)等离子体离子源；(viii)大气固体分析探针(“ASAP”)离子源；
(ix)超声波辅助喷雾电离离子源；(x)简单的环境声波-喷射电离(“EASI”)离子源；(xi)解吸大气压光化电离(“DAPPI”)离子源；(xii)纸喷射(“PS”)离子源；(xiii)射流解吸电离(“JeDI”)离子源；(xiv)触摸喷射(“TS”)离子源；(xv)纳米-DESI离子源；(xvi)激光消融电喷雾(“LAESI”)离子源；(xvii)实时直接分析(“DART”)离子源；(xviii)探针电喷雾电离(“PESI”)离子源；(xix)固体探针辅助电喷雾电离(“SPA-ESI”)离子源；(xx)超声波手术抽吸器(“CUSA”)装置；(xxi)杂合型CUSA-透热装置；(xxii)聚焦或未聚焦的超声波消融装置；
(xxiii)杂合型聚焦或未聚焦的超声波消融和透热装置；(xxiv)微波共振装置；(xxv)脉冲等离子体RF解剖装置；(xxvi)氩等离子体凝结装置；(xxvi)杂合型脉冲等离子体RF解剖和氩等离子体凝结装置；(xxvii)杂合型脉冲等离子体RF解剖和JeDI装置；(xxviii)手术水/盐水射流装置；(xxix)杂合型电外科和氩等离子体凝结装置；以及(xxx)杂合型氩等离子体凝结和水/盐水射流装置。
56.如权利要求51-55的任一项中所述的设备，其中所述第一装置或设备包括一个或多个电极，并且被布置并适于通过使所述目标目标与所述一个或多个电极接触而从所述目标目标的一个或多个区域产生气溶胶、烟雾或蒸气。
57.如权利要求56所述的设备，其中所述一个或多个电极包括：(i)单极器件，其中任选地提供单独的返回电极；(ii)双极器件；或(iii)多相RF器件，其中任选地提供至少一个单独的返回电极。
58.如权利要求56或57所述的设备，其中所述一个或多个电极包括快速蒸发电离质谱(“REIMS”)设备。
59.如权利要求56、57或58的任一项中所述的设备，进一步包括这样的设备，其被布置并适于将AC或RF电压施加到所述一个或多个电极以产生所述气溶胶、烟雾或蒸气。
60.如权利要求59所述的设备，其中用于将所述AC或RF电压施加到所述一个或多个电极的设备被布置以将所述AC或RF电压的一个或多个脉冲施加到所述一个或多个电极。
61.如权利要求59或60所述的设备，其中将所述AC或RF电压施加到所述一个或多个电极导致热散发到所述目标目标中。
62.如权利要求51-55的任一项中所述的设备，其中所述第一装置或设备包括用于照射所述目标目标的激光器。
63.如权利要求51-62的任一项中所述的设备，其中所述第一装置或设备被布置并适于通过焦耳加热或透热法通过直接蒸发或汽化来自所述目标的目标材料从所述目标的一个或多个区域产生气溶胶。
64.如权利要求51-63的任一项中所述的设备，其中所述第一装置或设备被布置并适于将超声能量引导到所述目标中。
65.如权利要求51-64的任一项中所述的设备，其中所述气溶胶包含不带电的水滴，任选地包括微孔材料。
66.如权利要求51-65的任一项中所述的设备，其中由所述第一装置或设备产生并形成所述气溶胶的至少50％、55％、60％、65％、70％、75％、80％、85％、90％或95％的质量或物质处于液滴的形式。
67.如权利要求51-66的任一项中所述的设备，其中所述第一装置被布置并适于产生气溶胶，其中所述气溶胶的索特尔平均直径(“SMD”，d32)在以下范围内：(i)<5μm；(ii)5-10μm；(iii)10-15μm；(iv)15-20μm；(v)20-25μm；或(vi)>25μm。
68.如权利要求51-67的任一项中所述的设备，其中所述气溶胶穿过具有在以下范围内的雷诺数(Re)的流动区域：(i)<2000；(ii)2000-2500；(iii)2500-3000；(iv)3000-3500；
(v)3500-4000；或(vi)>4000。
69.如权利要求51-68的任一项中所述的设备，其中基本上在产生所述气溶胶的点处，所述气溶胶包括具有选自下列的韦伯数(We)的液滴：(i)<50；(ii)50-100；(iii)100-150；
(iv)150-200；(v)200-250；(vi)250-300；(vii)300-350；(viii)350-400；(ix)400-450；(x)
450-500；(xi)500-550；(xii)550-600；(xiii)600-650；(xiv)650-700；(xv)700-750；(xvi)
750-800；(xvii)800-850；(xviii)850-900；(xix)900-950；(xx)950-1000；以及(xxi)>
1000。
70.如权利要求51-69的任一项中所述的设备，其中基本上在产生所述气溶胶的点处，所述气溶胶包括具有在以下范围内的斯托克斯数(Sk)的液滴：(i)1-5；(ii)5-10；(iii)10-
15；(iv)15-20；(v)20-25；(vi)25-30；(vii)30-35；(viii)35-40；(ix)40-45；(x)45-50；以及(xi)>50。
71.如权利要求51-70的任一项中所述的设备，其中基本上在产生所述气溶胶的点处，所述气溶胶包括具有选自下列的平均轴向速度的液滴：(i)<20m/s；(ii)20-30m/s；(iii)
30-40m/s；(iv)40-50m/s；(v)50-60m/s；(vi)60-70m/s；(vii)70-80m/s；(viii)80-90m/s；
(ix)90-100m/s；(x)100-110m/s；(xi)110-120m/s；(xii)120-130m/s；(xiii)130-140m/s；
(xiv)140-150m/s；以及(xv)>150m/s。
72.如权利要求51-71的任一项中所述的设备，其中所述目标包括细菌菌落、真菌菌落或生物材料如生物组织或生物液体(例如唾液、血液或脓液)。
73.如权利要求72所述的设备，其中所述生物组织包括人类组织或非人动物组织。
74.如权利要求72或73所述的设备，其中所述生物组织包括体内生物组织。
75.如权利要求72或73所述的设备，其中所述生物组织包括离体生物组织。
76.如权利要求72或73所述的设备，其中所述生物组织包括体外生物组织。
77.如权利要求72-76的任一项中所述的设备，其中所述生物组织包括肾上腺组织、阑尾组织、膀胱组织、骨、肠道组织、脑组织、乳腺组织、支气管、冠状组织、耳组织、食管组织、眼组织、胆囊组织、生殖器组织、心脏组织、下丘脑组织、肾组织、大肠组织、肠组织、喉组织、肝组织、肺组织、淋巴结、口腔组织、鼻组织、胰腺组织、甲状旁腺组织、垂体组织、前列腺组织、直肠组织、唾液腺组织、骨骼肌组织、皮肤组织、小肠组织、脊髓、脾组织、胃组织、胸腺组织、气管组织、甲状腺组织、软组织、结缔组织、腹膜组织、血管组织、脂肪组织、输尿管组织、尿道组织；I级、II级、III级或IV级癌组织；转移性癌组织；混合级癌组织；亚级癌组织；健康或正常组织；或者癌性或异常组织。
78.如权利要求51-77的任一项中所述的设备，其中所述第一装置或设备包括即时
(“POC”)诊断或手术设备。
79.如以上任一项权利要求所述的设备，其中将分析物、烟雾、烟气、液体、气体、手术烟雾、气溶胶或蒸气引导到所述碰撞组件上，以产生或释放多个分析物离子。
80.包含如以上任一项权利要求所述的设备的质谱仪和/或离子迁移率谱仪。
81.如权利要求80所述的谱仪，进一步包括一种谱仪主壳体或组件，并且其中所述源壳体在使用中与所述谱仪主壳体连接。
82.如权利要求80或81所述的谱仪，进一步包括离子阱和/或离子导向器；任选地，其中所述离子导向器被配置以施加将离子与中性物质分离的电场。
83.如权利要求82所述的谱仪，进一步包括这样的设备，其被布置并适于将分析物离子诱捕在所述离子阱中和/或使用所述离子导向器引导分析物离子。
84.如权利要求80-83中任一项所述的谱仪，进一步包括用于分析分析物离子的分析仪。
85.如权利要求84所述的谱仪，其中所述分析仪包括：(i)用于质量分析所述分析物离子的质量分析仪；(ii)离子迁移率或差示离子迁移率分析仪；(iii)用于分析所述分析物离子的离子横截面或碰撞横截面的分析仪；(iv)用于根据其离子迁移率或差示离子迁移率分离所述分析物离子的分离器；(v)用于在质量分析所述分析物离子之前根据其离子迁移率或差示离子迁移率分离所述分析物离子的分离器；或(vi)布置并适于根据其离子迁移率或差示离子迁移率排除或丢弃分析物离子的设备。
86.如权利要求80-85中任一项所述的谱仪，其中在使用中将基质供应给所述气溶胶、烟雾、蒸气或液体，同时所述气溶胶、烟雾、蒸气或液体处于气相、蒸气形式、气溶胶形式或液相中；任选地，其中所述气溶胶、烟雾、蒸气或液体，或至少在所述气溶胶、烟雾、蒸气或液体内的分析物溶解于所述基质中或被所述基质稀释。
87.如权利要求83所述的谱仪，进一步包括这样的设备，其被布置并适于将基质分子供应给所述气溶胶、烟雾或蒸气并且将所述基质分子与所述气溶胶、烟雾或蒸气混合，同时所述基质处于气相或处于固相中。
88.如权利要求87所述的谱仪，进一步包括这样的设备，其被布置并适于将混合物从高压区域转移到低压区域使得所述气相基质冷却并冷凝成液体，并且/或其中至少部分所述气溶胶、烟雾或蒸气溶解在所述液体基质中以形成溶解的分析物液滴、被所述基质稀释、或与所述基质形成簇。
89.如权利要求86、87或88中任一项所述的谱仪，其中所述基质选自下列：(i)针对所述分析物、烟雾、烟气、液体、气体、手术烟雾、气溶胶或蒸气的溶剂；(ii)有机溶剂；(iii)挥发性化合物；(iv)极性或非极性分子；(v)水；(vi)一种或多种醇；(vii)甲醇；(viii)乙醇；
(ix)异丙醇；(x)丙酮；(xi)乙腈；(xii)二甲基亚砜(DMSO)；和(xiii)二醇；(xiv)1-丁醇；
(xv)四氢呋喃；(xvi)乙酸乙酯；(xvii)乙二醇；(xviii)醛；(xix)酮；(xx)己烷；(xxi)氯仿；
以及(xxii)丙醇。
90.如权利要求89所述的谱仪，进一步包括这样的设备，其被布置并适于将分析物液滴加速到所述碰撞组件上。
91.如权利要求90所述的谱仪，进一步包括这样的设备，其被布置并适于保持压差以将分析物液滴加速到所述碰撞组件上。
92.如权利要求91所述的谱仪，进一步包括这样的分析仪，其被布置以分析由所述分析物、烟雾、烟气、液体、气体、手术烟雾、气溶胶或蒸气与所述碰撞组件碰撞而产生的分析物离子，其中所述谱仪进一步包括邻近真空室的大气接口，其中分析物液滴通过跨越所述大气接口的压差被加速到所述碰撞组件上。
93.如权利要求86-92中任一项所述的谱仪，进一步包括用于将所述基质供应给所述气溶胶、烟雾、蒸气或液体的基质引入导管。
94.如权利要求93所述的谱仪，进一步包括用于分析分析物离子的离子分析仪，其中将所述离子分析仪布置在所述基质引入导管的出口的下游。
95.如权利要求94所述的谱仪，其中所述基质引入导管的所述出口与所述离子分析仪的进口之间的距离x选自下列：(i)约0.1至0.5mm；(ii)约0.5-1.0mm；(iii)约1.0-1.5mm；
(iv)约1.5-2.0mm；(v)约2.0-2.5mm；(vi)约2.5-3.0mm；(vii)约3.0-3.5mm；(viii)约3.5-
4.0mm；(ix)约4.0-4.5mm；(x)约4.5-5.0mm；(xi)约5.0-5.5mm；(xii)约5.5-6.0mm；(xiii)约6.0-6.5mm；(xiv)约6.5-7.0mm；(xv)约7.0-7.5mm；(xvi)约7.5-8.0mm；(xvii)约8.0-
8.5mm；(xviii)约8.5-9.0mm；(xix)约9.0-9.5mm；(xx)约9.5-10.0mm；(xxi)约0.1-10mm；
(xxii)约0.1-7.5mm；(xxiii)约0.1-5.1mm；(xxiv)约0.5-5.1mm；以及(xxv)约0.5-5.0mm。
96.如权利要求93、94或95所述的谱仪，进一步包括用于经由基质引入导管以选自下列的流速供应所述基质的泵：(i)约5-10μl/min；(ii)约10-25μl/min；(iii)约25-50μl/min；
(iv)约50-100μl/min；(v)约100-150μl/min；(vi)约150-200μl/min；(vii)约200-250μl/min；(viii)约250-300μl/min；(ix)约300-350μl/min；(x)约350-400μl/min；(xi)约400-
450μl/min；(xii)约450-500μl/min；(xiii)约500-550μl/min；(xiv)约550-600μl/min；
(xv)约600-650μl/min；(xvi)约650-700μl/min；(xvii)约700-750μl/min；(xviii)约750-
800μl/min；(xiv)约800-850μl/min；(xx)约850-900μl/min；(xxi)约900-950μl/min；
(xxii)约950-1000μl/min；(xxiii)约50μl/min至1ml/min；(xxiv)约100-800μl/min；(xxv)约150-600μl/min；以及(xxvi)约200-400μl/min。
97.如权利要求94、95或96中任一项所述的谱仪，其中所述基质引入导管的出口与离子分析仪的进口相对或同轴。
98.如权利要求80-97中任一项所述的谱仪，包括用于分析分析物离子以获得分析物离子数据的质量和/或离子迁移率分析仪，并且其中所述分析仪进一步被布置以分析锁定质量、锁定迁移率或校准离子，并且以基于从分析所述锁定质量、锁定迁移率或校准离子而获得的数据校准所述离子分析仪或调整分析物离子数据。
99.质谱和/或离子迁移率谱的方法，包括：
提供基本上圆柱形、管状、棒状、线圈状、螺旋状或螺旋形的碰撞组件；以及
使用第一装置来将分析物、烟雾、烟气、液体、气体、手术烟雾、气溶胶或蒸气引导到所述碰撞组件上。
100.质谱和/或离子迁移率谱的方法，包括：
提供碰撞组件；以及
使用第一装置来将分析物、烟雾、烟气、液体、气体、手术烟雾、气溶胶或蒸气引导到所述碰撞组件上。
101.如权利要求99或100所述的方法，其中所述碰撞组件具有第一纵向轴线，并且所述第一装置将所述分析物、烟雾、烟气、液体、气体、手术烟雾、气溶胶或蒸气沿着基本上与所述第一轴线正交的第二轴线引导到所述碰撞组件上。
102.如权利要求99或100所述的方法，其中所述碰撞组件具有第一纵向轴线，并且所述第一装置将所述分析物、烟雾、烟气、液体、气体、手术烟雾、气溶胶或蒸气沿着所述第一轴线引导到所述碰撞组件上。
103.电离气溶胶、烟雾或蒸气的方法，包括：
使用第一装置引导所述气溶胶、烟雾或蒸气来撞击在具有进口和出口的中空碰撞组件的内表面上，其中所述碰撞组件的内部横截面面积：(i)基本上恒定；或(ii)在从所述进口到所述出口的方向上减小；或(iii)在从所述进口到所述出口的方向上增加。
104.如权利要求103所述的方法，进一步包括经由所述进口接收所述气溶胶、烟雾或蒸气。
105.如权利要求103或104所述的方法，包括使所述气溶胶、烟雾或蒸气撞击在所述内表面上以形成分析物离子。
106.如权利要求105所述的方法，进一步包括使分析物离子经由所述出口从所述碰撞组件出来。
107.如权利要求103-106中任一项所述的方法，其中所述碰撞组件包括漏斗形碰撞组件。
108.如权利要求103-107中任一项所述的方法，其中所述碰撞组件包括管状或圆柱形碰撞组件。
109.如权利要求103-108中任一项所述的方法，进一步包括将所述气溶胶、烟雾或蒸气沿着与所述碰撞组件的纵向轴线基本上同轴的轴线引导到所述碰撞组件中。
110.如权利要求103-109中任一项所述的方法，其中所述碰撞组件由线圈结构或由连续的管状或锥形结构形成。
111.如权利要求99-110中任一项所述的方法，进一步包括使用加热器或加热线圈加热所述碰撞组件。
112.如权利要求111所述的方法，其中所述加热器或加热线圈是所述碰撞组件的碰撞表面。
113.如权利要求112所述的方法，其中所述加热器或所述加热线圈被所述碰撞组件包围或被嵌入在所述碰撞组件内。
114.如权利要求113所述的方法，其中所述碰撞组件包括其中的孔，使得所述加热器或加热线圈被所述孔暴露于烟雾、烟气、液体、气体，手术烟雾、气溶胶或蒸气。
115.如权利要求112、113或114所述的方法，进一步包括经由一个或多个电极向所述加热器或所述加热线圈供应电源。
116.如权利要求115所述的方法，包括向所述加热器或加热线圈供应电流以加热碰撞组件，其中所述电流选自下列：约≥0.5A；≥约1A；约≥1.5A；约≥2A；约≥2.5A；约≥3A；约≥3.5A；约≥4A；约≥4.5A；以及约≥5A。
117.如权利要求111-116中任一项所述的方法，包括将所述碰撞组件加热至选自下列的温度：(i)约<100℃；(ii)约100℃-200℃；(iii)约200℃-300℃；(iv)约300℃-400℃；(v)约400℃-500℃；(vi)约500℃-600℃；(vii)约600℃-700℃；(viii)约700℃-800℃；(ix)约
800℃-900℃；(x)约900℃-1000℃；(xi)约1000℃-1100℃；以及(xii)约>1100℃。
118.如权利要求111-117中任一项所述的方法，其中所述加热器或加热线圈从被分析的样品中烧掉沉积在所述碰撞组件上的污染物。
119.如权利要求99-118中任一项所述的方法，其中所述碰撞组件是或包括外部碰撞表面，所述外部碰撞表面为：陶瓷、非陶瓷、玻璃、玻璃-陶瓷、石英、金属如钢或镍、或金属合金如铁-铬-铝(FeCrAl)合金。
120.如权利要求99-119中任一项所述的方法，其中所述分析物、烟雾、烟气、液体、气体、手术烟雾、气溶胶或蒸气沿轴线被引导到具有与选所述轴线正交的具有选自下列的最大或最小尺寸的碰撞组件的区域上：约≥1mm；约≥2mm；约≥3mm；约≥4mm；约≥5mm；约≥
6mm；约≥7mm；以及约≥8mm；和/或被引导到具有与选所述轴线正交的具有选自下列的最大或最小尺寸的碰撞组件的区域上：约≤8mm；约≤7mm；约≤6mm；约≤5mm；约≤4mm；以及约≤
3mm。
121.如权利要求99-120中任一项所述的方法，包括提供在所述碰撞组件周围布置的鞘管，所述烟雾、烟气、液体、气体、手术烟雾、气溶胶或蒸气穿行通过所述鞘管。
122.如权利要求121所述的方法，其中所述鞘管在所述碰撞组件的上游和/或下游延伸。
123.如权利要求121或122所述的方法，包括保持所述碰撞组件和所述鞘管之间的电位差。
124.如权利要求99-123中任一项所述的方法，进一步包括提供用于将所述烟雾、烟气、液体、气体、手术烟雾、气溶胶或蒸气递送到所述碰撞组件上的毛细管或样品管。
125.如权利要求124所述的方法，其中所述毛细管或样品管的出口孔被布置在所述碰撞表面上游的选自下列的距离：约0mm；约≤1mm；约1-2mm；约2-3mm；约3-4mm；约4-5mm；约5-
6mm；约6-7mm；约7-8mm；约8-9mm；约9-10mm；以及约≥10mm。
126.如权利要求124或125所述的方法，包括加热所述毛细管或样品管。
127.如权利要求126所述的方法，其中所述加热器将所述毛细管或样品管加热到选自下列的温度：(i)约<100℃；(ii)约100℃-150℃；(iii)约150℃-200℃；(iv)约200℃-250℃；(v)约250℃-300℃；(vi)约300℃-350℃；(vii)约>350℃。
128.如权利要求99-127中任一项所述的方法，进一步包括使用第一支架来支撑所述碰撞组件。
129.如权利要求125所述的方法，进一步包括由陶瓷或非陶瓷形成所述第一支架。
130.如权利要求128或129所述的方法，进一步包括通过所述第一支架提供所述一个或更多个电极，用于向所述加热线圈供应电源。
131.如权利要求128、129或130所述的方法，包括提供主加热器或可移除的单元壳体组件。
132.如权利要求131所述的方法，包括将所述第一支架可移除地安装到所述主加热器组件或可移除的单元壳体。
133.如权利要求131或132所述的方法，包括在所述主加热器组件或可移除的单元壳体中的孔内提供第一隔离阀，用于选择性地关闭所述孔；任选地，其中所述第一隔离阀包括球阀。
134.如权利要求133所述的方法，进一步包括通过将一个或多个毛细管或样品管插入穿过所述孔来打开所述第一隔离阀。
135.如权利要求134所述的方法，进一步包括通过至少部分地从所述孔移除所述一个或多个毛细管或样品管来关闭所述第一隔离阀。
136.如权利要求133-135中任一项所述的方法，进一步包括定位所述一个或多个毛细管或样品管以延伸穿过所述孔，用于将所述分析物、烟雾、烟气、液体、气体、手术烟雾、气溶胶或蒸气供应到所述碰撞组件上。
137.如权利要求136所述的方法，进一步包括定位所述一个或多个毛细管或样品管以延伸穿过所述第一支架。
138.如权利要求136或137所述的方法，进一步包括将所述一个或多个毛细管或样品管的出口基本上邻近或面对所述碰撞组件而布置。
139.如权利要求99-138中任一项所述的方法，进一步包括提供一个或多个屏，所述一个或多个屏至少部分地围绕所述碰撞组件处于延伸位置，用于保护所述碰撞组件。
140.如权利要求139所述的方法，进一步包括使所述一个或多个屏从所述延伸位置至少部分地或完全地缩回到缩回位置，在缩回位置中，所述碰撞组件的至少一部分不被所述一个或多个屏包围；任选地，其中所述一个或多个屏被偏置朝向所述延伸位置。
141.如权利要求99-140中任一项所述的方法，包括提供源壳体。
142.如权利要求141所述的方法，其中所述源壳体进一步包括第二隔离阀。
143.如权利要求142所述的方法，包括将所述主加热器组件或可移除的单元壳体插入所述源壳体内或以其它方式将所述主加热器组件或可移除的单元壳体与所述源壳体连接，并且将其中所述主加热器组件或可移除的单元壳体从第一旋转位置旋转到第二旋转位置。
144.如权利要求143所述的方法，其中将所述主加热器组件或可移除的单元壳体从所述第一位置旋转到所述第二位置的步骤将所述第二隔离阀从第一操作位置移动到第二操作位置。
145.如权利要求144所述的方法，其中在所述第一操作位置中，所述第二隔离阀基本上是关闭的。
146.如权利要求143或144所述的方法，其中在所述第二操作位置中，所述第二隔离阀基本上是打开的。
147.如权利要求141-146中任一项所述的方法，包括提供谱仪主壳体或组件，其中所述源壳体与所述谱仪主壳体连接。
148.如权利要求147所述的方法，进一步包括提供离子阱和/或离子导向器；任选地，其中所述离子导向器施加将离子与中性物质分离的电。
149.如权利要求148所述的方法，包括将源自所述气溶胶、烟雾或蒸气的分析物离子诱捕在所述离子阱中和/或使用所述离子导向器引导分析物离子。
150.如权利要求99-149中任一项所述的方法，包括使用分析仪分析源自所述气溶胶、烟雾或蒸气的分析物离子。
151.如权利要求150所述的方法，其中所述分析仪包括：(i)用于质量分析所述分析物离子的质量分析仪；(ii)离子迁移率或差示离子迁移率分析仪；(iii)用于分析所述分析物离子的离子横截面或碰撞横截面的分析仪；(iv)用于根据其离子迁移率或差示离子迁移率分离所述分析物离子的分离器；(v)用于在质量分析所述分析物离子之前根据其离子迁移率或差示离子迁移率分离所述分析物离子的分离器；或(vi)布置并适于根据其离子迁移率或差示离子迁移率排除或丢弃分析物离子的设备。
152.如权利要求99-151中任一项所述的方法，进一步包括将基质供应给所述气溶胶、烟雾、蒸气或液体，同时所述气溶胶、烟雾、蒸气或液体处于气相、蒸气形式、气溶胶形式或液相。
153.如权利要求152所述的方法，进一步包括将基质分子供应给所述气溶胶、烟雾、蒸气或液体或者将所述基质分子与所述气溶胶、烟雾、蒸气或液体混合，同时所述基质处于气相或处于固相中。
154.如权利要求153所述的方法，进一步包括将混合物从高压区域转移到低压区域使得所述气相基质冷却并冷凝成液体，和/或其中所述至少部分的所述气溶胶、烟雾或蒸气溶解在所述液体基质中以形成溶解的分析物液滴、被所述基质稀释、或与所述基质形成簇。
155.如权利要求152、153或154中任一项所述的方法，其中所述基质选自下列：(i)针对所述分析物、烟雾、烟气、液体、气体、手术烟雾、气溶胶或蒸气的溶剂；(ii)有机溶剂；(iii)挥发性化合物；(iv)极性或非极性分子；(v)水；(vi)一种或多种醇；(vii)甲醇；(viii)乙醇；(ix)异丙醇；(x)丙酮；(xi)乙腈；(xii)二甲基亚砜(DMSO)；和(xiii)二醇；(xiv)1-丁醇；(xv)四氢呋喃；(xvi)乙酸乙酯；(xvii)乙二醇；(xviii)醛；(xix)酮；(xx)己烷；(xxi)氯仿；以及(xxii)丙醇。
156.如权利要求154或155所述的方法，包括将所述分析物液滴加速到所述碰撞组件上。
157.如权利要求155所述的方法，进一步包括保持压差以将所述分析物液滴加速到所述碰撞组件上。
158.如权利要求157所述的方法，包括通过跨越大气接口的压差将分析物液滴加速到所述碰撞组件上，并且分析由所述分析物液滴与所述碰撞组件碰撞而产生的分析物离子。
159.如权利要求152所述的方法，包括经由基质引入导管供应所述基质；以及使用离子分析仪分析所述分析物离子，其中所述离子分析仪被布置在所述基质引入导管的出口的下游。
160.如权利要求159所述的方法，其中所述基质引入导管的所述出口与所述离子分析仪的进口之间的距离x选自下列：(i)约0.1至0.5mm；(ii)约0.5-1.0mm；(iii)约1.0-1.5mm；
(iv)约1.5-2.0mm；(v)约2.0-2.5mm；(vi)约2.5-3.0mm；(vii)约3.0-3.5mm；(viii)约3.5-
4.0mm；(ix)约4.0-4.5mm；(x)约4.5-5.0mm；(xi)约5.0-5.5mm；(xii)约5.5-6.0mm；(xiii)约6.0-6.5mm；(xiv)约6.5-7.0mm；(xv)约7.0-7.5mm；(xvi)约7.5-8.0mm；(xvii)约8.0-
8.5mm；(xviii)约8.5-9.0mm；(xix)约9.0-9.5mm；(xx)约9.5-10.0mm；(xxi)约0.1-10mm；
(xxii)约0.1-7.5mm；(xxiii)约0.1-5.1mm；(xxiv)约0.5-5.1mm；以及(xxv)约0.5-5.0mm。
161.如权利要求152-160中任一项所述的方法，进一步包括经由基质引入导管以选自下列的流速将所述基质供应给所述分析物：(i)约50-100μl/min；(ii)约100-150μl/min；
(iii)约150-200μl/min；(iv)约200-250μl/min；(v)约250-300μl/min；(vi)约300-350μl/min；(vii)约350-400μl/min；(viii)约400-450μl/min；(ix)约450-500μl/min；(x)约500-
550μl/min；(xi)约550-600μl/min；(xii)约600-650μl/min；(xiii)约650-700μl/min；
(xiv)约700-750μl/min；(xv)约750-800μl/min；(xvi)约800-850μl/min；(xvii)约850-900μl/min；(xviii)约900-950μl/min；(xiv)约950-1000μl/min；(xx)约50μl/min至1ml/min；
(xxi)约100-800μl/min；(xxii)约150-600μl/min；以及(xxiii)约200-400μl/min。
162.如权利要求159、160或161中任一项所述的方法，进一步包括将所述基质引入导管的出口定位成与所述离子分析仪的进口相对或同轴。
163.如权利要求99-162中任一项所述的方法，包括质量分析和/或离子迁移率分析源自所述气溶胶、烟雾或蒸气的分析物离子以获得分析物离子数据，分析锁定质量、锁定迁移率或校准离子，并且基于从分析所述锁定质量、锁定迁移率或校准离子而获得的数据校准离子分析仪或调整分析物离子数据。
164.如权利要求99-163中任一项所述的方法，其中所述第一装置构成或形成环境离子或电离源的一部分；或其中所述第一装置从待分析的目标产生气溶胶、烟雾或蒸气，并且所述气溶胶、烟雾或蒸气包含离子或者随后被环境离子或电离源或其它电离源电离。
165.如权利要求164所述的方法，其中所述目标包括天然或未改性的目标材料。
166.如权利要求165所述的方法，其中所述天然或未改性的目标材料未通过添加基质或试剂而改性。
167.如权利要求164-166中任一项所述的方法，其中所述第一装置被布置并适于从所述目标的一个或多个区域产生气溶胶、烟雾或蒸气，而在制备前不需要所述目标。
168.如权利要求164-167中任一项所述的方法，其中所述第一装置包括选自下列的离子源：(i)快速蒸发电离质谱(“REIMS”)离子源；(ii)解吸电喷雾电离(“DESI”)离子源；
(iii)激光解吸电离(“LDI”)离子源；(iv)热解吸离子源；(v)激光二极管热解吸(“LDTD”)离子源；(vi)解吸电流聚焦(“DEFFI”)离子源；(vii)介电阻挡放电(“DBD”)等离子体离子源；
(viii)大气固体分析探针(“ASAP”)离子源；(ix)超声波辅助喷雾电离离子源；(x)简单的环境声波-喷射电离(“EASI”)离子源；(xi)解吸大气压光化电离(“DAPPI”)离子源；(xii)纸喷射(“PS”)离子源；(xiii)射流解吸电离(“JeDI”)离子源；(xiv)触摸喷射(“TS”)离子源；
(xv)纳米-DESI离子源；(xvi)激光消融电喷雾(“LAESI”)离子源；(xvii)实时直接分析(“DART”)离子源；(xviii)探针电喷雾电离(“PESI”)离子源；(xix)固体探针辅助电喷雾电离(“SPA-ESI”)离子源；(xx)超声波手术抽吸器(“CUSA”)装置；(xxi)杂合型CUSA-透热装置；(xxii)聚焦或未聚焦的超声波消融装置；(xxiii)杂合型聚焦或未聚焦的超声波消融和透热装置；(xxiv)微波共振装置；(xxv)脉冲等离子体RF解剖装置；(xxvi)氩等离子体凝结装置；(xxvi)杂合型脉冲等离子体RF解剖和氩等离子体凝结装置；(xxvii)杂合型脉冲等离子体RF解剖和JeDI装置；(xxviii)手术水/盐水射流装置；(xxix)杂合型电外科和氩等离子体凝结装置；以及(xxx)杂合型氩等离子体凝结和水/盐水射流装置。
169.如权利要求164-168中任一项所述的方法，其中使用所述第一装置从所述目标的一个或多个区域产生气溶胶、烟雾或蒸气的步骤进一步包括使所述目标与一个或多个电极接触。
170.如权利要求169所述的方法，其中所述一个或多个电极包括：(i)单极器件，其中所述方法任选地进一步包括提供单独的返回电极；(ii)双极器件；或(iii)多相RF器件，其中所述方法任选地进一步包括提供一个或多个单独的返回电极。
171.如权利要求169或170所述的方法，其中所述一个或多个电极包括快速蒸发电离质谱(“REIMS”)设备。
172.如权利要求169、170或171所述的方法，进一步包括将AC或RF电压施加到所述一个或多个电极以产生所述气溶胶、烟雾或蒸气。
173.如权利要求172所述的方法，其中将所述AC或RF电压施加到所述一个或多个电极的步骤进一步包括将所述AC或RF电压的一个或多个脉冲施加到所述一个或多个电极。
174.如权利要求172或173所述的方法，其中将所述AC或RF电压施加到所述一个或多个电极的步骤导致热散发到所述目标中。
175.如权利要求164-168中任一项所述的方法，其中使用所述第一装置从所述目标的一个或多个区域产生气溶胶、烟雾或蒸气的步骤进一步包括用激光照射所述目标。
176.如权利要求164-175中任一项所述的方法，其中所述第一装置被布置并适于通过焦耳加热或透热法通过直接蒸发或汽化来自所述目标的目标材料从所述目标的一个或多个区域产生气溶胶。
177.如权利要求164-176中任一项所述的方法，其中使用所述第一装置从所述目标的一个或多个区域产生气溶胶、烟雾或蒸气的步骤进一步包括将超声能量引导到所述目标中。
178.如权利要求99-177中任一项所述的方法，其中所述气溶胶包含不带电的水滴，任选地包括微孔材料。
179.如权利要求99-178中任一项所述的方法，其中由所述第一装置产生并形成所述气溶胶的至少50％、55％、60％、65％、70％、75％、80％、85％、90％或95％的质量或物质处于液滴的形式。
180.如权利要求99-179中任一项所述的方法，其中所述第一装置被布置并适于产生气溶胶，其中所述气溶胶的索特尔平均直径(“SMD”，d32)在以下范围内：(i)<5μm；(ii)5-10μm；(iii)10-15μm；(iv)15-20μm；(v)20-25μm；或(vi)>25μm。
181.如权利要求99-180中任一项所述的方法，其中所述气溶胶穿过具有在以下范围内的雷诺数(Re)的流动区域：(i)<2000；(ii)2000-2500；(iii)2500-3000；(iv)3000-3500；
(v)3500-4000；或(vi)>4000。
182.如权利要求99-181中任一项所述的方法，其中基本上在产生所述气溶胶的点处，所述气溶胶包括具有选自下列的韦伯数(Weber number)(We)的液滴：(i)<50；(ii)50-100；
(iii)100-150；(iv)150-200；(v)200-250；(vi)250-300；(vii)300-350；(viii)350-400；
(ix)400-450；(x)450-500；(xi)500-550；(xii)550-600；(xiii)600-650；(xiv)650-700；
(xv)700-750；(xvi)750-800；(xvii)800-850；(xviii)850-900；(xix)900-950；(xx)950-
1000；以及(xxi)>1000。
183.如权利要求99-182中任一项所述的方法，其中基本上在产生所述气溶胶的点处，所述气溶胶包括具有在以下范围内的斯托克斯数(Sk)的液滴：(i)1-5；(ii)5-10；(iii)10-
15；(iv)15-20；(v)20-25；(vi)25-30；(vii)30-35；(viii)35-40；(ix)40-45；(x)45-50；以及(xi)>50。
184.如权利要求99-183中任一项所述的方法，其中基本上在产生所述气溶胶的点处，所述气溶胶包括具有选自下列的平均轴向速度的液滴：(i)<20m/s；(ii)20-30m/s；(iii)
30-40m/s；(iv)40-50m/s；(v)50-60m/s；(vi)60-70m/s；(vii)70-80m/s；(viii)80-90m/s；
(ix)90-100m/s；(x)100-110m/s；(xi)110-120m/s；(xii)120-130m/s；(xiii)130-140m/s；
(xiv)140-150m/s；以及(xv)>150m/s。
185.如权利要求164-184中任一项所述的方法，其中所述目标包括细菌菌落、真菌菌落或生物材料如生物组织或生物液体(例如唾液、血液或脓液)。
186.如权利要求185所述的方法，其中所述生物组织包括人类组织或非人动物组织。
187.如权利要求185或186所述的方法，其中所述生物组织包括体内生物组织。
188.如权利要求185或186所述的方法，其中所述生物组织包括离体生物组织。
189.如权利要求185或186所述的方法，其中所述生物组织包括体外生物组织。
190.如权利要求185-189中任一项所述的方法，其中所述生物组织包括肾上腺组织、阑尾组织、膀胱组织、骨、肠道组织、脑组织、乳腺组织、支气管、冠状组织、耳组织、食管组织、眼组织、胆囊组织、生殖器组织、心脏组织、下丘脑组织、肾组织、大肠组织、肠组织、喉组织、肝组织、肺组织、淋巴结、口腔组织、鼻组织、胰腺组织、甲状旁腺组织、垂体组织、前列腺组织、直肠组织、唾液腺组织、骨骼肌组织、皮肤组织、小肠组织、脊髓、脾组织、胃组织、胸腺组织、气管组织、甲状腺组织、软组织、结缔组织、腹膜组织、血管组织、脂肪组织、输尿管组织、尿道组织；I级、II级、III级或IV级癌组织；转移性癌组织；混合级癌组织；亚级癌组织；健康或正常组织；或者癌性或异常组织。
191.如权利要求99-190中任一项所述的方法，其中所述第一装置包括即时(“POC”)诊断或手术设备；电外科手术设备；透热设备；超声波设备；杂合型超声-电外科手术设备；手术水射流设备；杂合型电外科手术氩等离子体凝结装置；杂合型氩等离子体凝结和水射流设备；和/或激光设备。
192.如权利要求99-191中任一项所述的方法，包括使所述气溶胶、烟雾或蒸气中的至少一些电离以产生分析物离子。
193.如权利要求99-192中任一项所述的方法，包括将所述气溶胶、烟雾或蒸气中的至少一些引导或抽吸到质谱仪和/或离子迁移率谱仪的真空室中。
194.如权利要求193所述的方法，包括在所述质谱仪和/或离子迁移率谱仪的一个或所述真空室内将至少一些所述气溶胶、烟雾或蒸气电离，以产生多个分析物离子。
195.如权利要求192、193或194所述的方法，进一步包括使所述气溶胶、烟雾或蒸气撞击在任选地位于所述质谱仪和/或离子迁移率谱仪的真空室内的碰撞表面上，以产生多个分析物离子。
196.如权利要求192-195中任一项所述的方法，包括分析所述分析物离子或源自所述气溶胶、烟雾或蒸气的离子，以获得光谱数据，例如质谱数据和/或离子迁移率谱数据。
197.如权利要求196所述的方法，包括分析所述光谱数据，以便：(i)区分健康组织和患病组织；(ii)区分潜在的癌组织和非癌组织；(iii)区分不同类型或等级的癌组织；(iv)区分不同类型或级别的目标材料；(v)确定所述目标中是否存在一种或多种所希望或不希望的物质；(vi)确认所述目标的身份或真实性；(vii)确定所述目标中是否存在一种或多种杂质、非法物质或不希望的物质；(viii)确定人或动物患者是否处于遭受不利结果的增加的风险下；(ix)做出或协助作出诊断或预后；以及(x)通知外科医生、护士、医师或机器人医疗、手术或诊断结果。
198.如权利要求196或197所述的方法，其中分析光谱数据的步骤包括分析一个或多个样品光谱，以对气溶胶、烟雾或蒸气样品进行分类。
199.如权利要求198所述的方法，其中分析所述一个或多个样品光谱以对气溶胶、烟雾或蒸气样品进行分类包括所述一个或多个样品光谱的监督分析和/或所述一个或多个样品光谱的无监督分析。
200.如权利要求198或199所述的方法，其中分析所述一个或多个样品光谱以对气溶胶、烟雾或蒸气样品进行分类包括使用以下各项中的一种或多种：(i)单变量分析；(ii)多变量分析；(iii)主成分分析(PCA)；(iv)线性判别分析(LDA)；(v)最大边界标准(MMC)；(vi)基于库的分析；(vii)软独立建模分类法(SIMCA)；(viii)因子分析(FA)；(ix)递归分配(决策树)；(x)随机森林；(xi)独立成分分析(ICA)；(xii)偏最小二乘判别分析(PLS-DA)；
(xiii)对潜在结构的正交(偏最小二乘)投影(OPLS)；(xiv)OPLS判别分析(OPLS-DA)；(xv)支持向量机(SVM)；(xvi)(人工)神经网络；(xvii)多层感知器；(xviii)径向基函数(RBF)网络；(xix)贝叶斯分析；(xx)聚类分析；(xxi)核心化方法；和(xxii)子空间判别分析；
(xxiii)k-最近邻算法(KNN)；(xxiv)二次判别分析(QDA)；(xxv)概率性主成分分析(PPCA)；
(xxvi)非负矩阵因子分解；(xxvii)k-均值因子分解；(xxviii)模糊c-均值因子分解；以及(xxix)判别分析(DA)。
201.如权利要求198、199或200所述的方法，其中分析所述一个或多个样品光谱以对气溶胶、烟雾或蒸气样品进行分类包括使用一个或多个参考样品光谱开发分类模型或库。
202.如权利要求198-201中任一项所述的方法，其中分析所述一个或多个样品光谱以对气溶胶、烟雾或蒸气样品进行分类包括在进行主成分分析(PCA)之后进行线性判别分析(LDA)。
203.如权利要求198-202中任一项所述的方法，其中分析所述一个或多个样品光谱以对气溶胶、烟雾或蒸气样品进行分类包括在进行主成分分析(PCA)之后进行最大边界标准(MMC)。
204.如权利要求198-203中任一项所述的方法，其中分析所述一个或多个样品光谱以将气溶胶、烟雾或蒸气样品分类包括在分类模型或库内定义一个或多个类别。
205.如权利要求198-204中任一项所述的方法，其中分析所述一个或多个样品光谱以对气溶胶、烟雾或蒸气样品进行分类包括根据一个或多个分类标准或聚类标准，在分类模型或库内手动地或自动地定义一个或多个类别。
206.如权利要求205所述的方法，其中针对每个类别的所述一个或多个分类标准或聚类标准基于以下各项中的一个或多个：模型空间内参考样品光谱的一对或多对参考点之间的距离；模型空间内参考样品光谱的多组参考点之间的方差值；以及模型空间内参考样品光谱的一组参考点内的方差值。
207.如权利要求204、205或206所述的方法，其中所述一个或多个类别各自由一个或多个类别定义来定义。
208.如权利要求207所述的方法，其中所述一个或多个类别定义包括以下中的一个或多个：在模型空间内针对参考样品光谱、值、边界、线、平面、超平面、方差、体积、Voronoi单元和/或位置的一个或多个参考点的集合；以及分类层级内的一个或多个位置。
209.如权利要求198-208中任一项所述的方法，其中分析所述一个或多个样品光谱以对气溶胶、烟雾或蒸气样品进行分类包括使用分类模型或库来分类一个或多个未知样品光谱。
210.如权利要求198-209中任一项所述的方法，其中分析所述一个或多个样品光谱以对气溶胶、烟雾或蒸气样品进行分类包括根据一个或多个分类标准手动地或自动地分类一个或多个样品光谱。
211.如权利要求210所述的方法，其中所述一个或多个分类标准包括以下各项中的一个或多个：
在模型空间内针对一个或多个样品光谱的一个或多个投影采样点与在模型空间内针对一个或多个参考样品光谱、值、边界、线、平面、超平面、体积、Voronoi单元或位置的一个或多个参考点的集合之间的距离，其低于距离阈值或者是最小的这样的距离；
在模型空间内针对一个或多个样品光谱的一个或多个投影采样点的位置，其是在模型空间内针对一个或多个参考样品光谱、值、边界、线、平面、超平面、或位置的一个或多个参考点的一侧或另一侧；
模型空间内针对一个或多个样品光谱的一个或多个投影采样点的位置，其位于模型空间内的一个或多个体积或Voronoi单元内；以及
概率或分类得分，其高于概率或分类得分阈值或者是最高的这种概率或分类得分。
212.如以上任一项权利要求所述的方法，其中所述碰撞组件或表面相对于所述毛细管或样品管保持在第一电位；和/或
其中所述碰撞组件或表面相对于所述离子分析仪的进口保持在第二电位；和/或
其中所述碰撞组件或表面相对于所述谱仪的接地底座保持在第三电位；和/或
其中所述碰撞组件或表面相对于所述离子导向器或离子阱保持在第四电位；和/或其中所述离子分析仪的进口相对于所述谱仪的接地底座保持在第五电位。
213.如权利要求212所述的方法，其中所述第一、第二、第三、第四和第五电位中的任一个或任何组合是选自下列的正电位：≥2V；2-3V；3-4V；4-5V；5-10V；10-15；15-20V；20-25V；
25-30V；30-35V；35-40V；40-45V；45-50V；50-60V；60-70V；70-80V；80-90V；90-100V；100-
120V；120-140V；140-160V；160-180V；180-200V；200-220V；220-240V；240-260V；260-280V；
280-300V；以及≥300V；和/或
其中所述第一、第二、第三、第四和第五电位中的任一个或任何组合是选自下列的负电位：≥2V；2-3V；3-4V；4-5V；5-10V；10-15；15-20V；20-25V；25-30V；30-35V；35-40V；40-45V；
45-50V；50-60V；60-70V；70-80V；80-90V；90-100V；100-120V；120-140V；140-160V；160-
180V；180-200V；200-220V；220-240V；240-260V；260-280V；280-300V；以及≥300V。
214.手术或电外科手术的方法，包括如权利要求99-213中任一项所述的步骤，其中所述方法包括：
使生物组织与手术或电外科手术工具接触并激活所述工具以产生所述分析物、烟雾、烟气、液体、气体、手术烟雾、气溶胶或蒸气；
抽吸所述分析物、烟雾、烟气、液体、气体、手术烟雾、气溶胶或蒸气；
将所述分析物、烟雾、烟气、液体、气体、手术烟雾、气溶胶或蒸气引导到所述碰撞组件上以形成分析物离子；以及
质量和/或离子迁移率分析所述分析物离子。
215.包括如权利要求1-98中任一项所述的设备的手术或电外科手术设备，所述手术或电外科手术设备包括：
包含一个或多个电极的手术工具或电外科手术工具；
这样的设备，当所述工具在使用中与生物组织接触时，所述设备被布置并适于激活所述工具以产生所述分析物、烟雾、烟气、液体、气体、手术烟雾、气溶胶或蒸气；
这样的设备，其被布置并适于抽吸所述分析物、烟雾、烟气、液体、气体、手术烟雾、气溶胶或蒸气；以及
质谱仪和/或离子迁移率谱仪，其包括：(i)所述碰撞组件；(ii)所述设备，其将所述分析物、烟雾、烟气、液体、气体、手术烟雾、气溶胶或蒸气引导到所述碰撞组件上以形成分析物离子；和(iii)质量和/或离子迁移率分析仪，用于质量和/或离子迁移率分析所述分析物离子。
216.用于将分析物源与质谱仪和/或离子迁移率谱仪的真空室接合的设备，所述设备包括：
壳体，其具有穿过其中的孔，用于在所述孔的第一端处接收分析物，并将所述分析物传送到所述孔的第二端进而到真空室；以及
所述孔中的隔离阀，其中所述隔离阀被配置成当毛细管或样品管通过所述孔插入与所述阀接触时打开，并且被配置成当毛细管或管从孔中取出时关闭。
217.如权利要求216所述的设备，包括所述毛细管或样品管。
218.如权利要求216或217所述的设备，包括布置在孔的第二端处的碰撞组件，用于从其上的所述孔撞击所述分析物或其它样品。
219.如权利要求218所述的设备，其中所述碰撞组件被可移除地安装到所述壳体。
220.如权利要求218或219所述的设备，包括用于加热所述碰撞组件的加热器。
221.如权利要求218、219或220所述的设备，其中所述壳体包括一个或多个屏，所述一个或多个屏至少部分地围绕所述碰撞组件处于延伸位置，用于保护所述碰撞组件。
222.如权利要求221所述的设备，其中所述一个或多个屏从所述延伸位置至少部分地能缩回到缩回位置，在缩回位置中，所述碰撞组件的至少一部分不被所述一个或多个屏包围。
223.如权利要求222所述的设备，其中所述一个或多个屏被偏置朝向所述延伸位置。
224.质谱仪和/或离子迁移率谱仪，包括如权利要求216-223中任一项所述的设备，其中当所述隔离阀打开时，所述孔被布置以连接被配置为保持在第一压力下的真空室和较高压力下的区域。
225.用于将分析物源与质谱仪和/或离子迁移率谱仪的真空室接合的设备，所述设备包括：
壳体，其具有穿过其中的孔，用于在所述孔的第一端处接收分析物，并将所述分析物传送到所述孔的第二端进而到真空室；以及
碰撞组件，其布置在所述孔的第二端的邻近或下游，用于从其上的所述孔撞击所述分析物或其它样品，其中所述碰撞组件被可移除地安装到壳体上。
226.如权利要求225所述的设备，包括用于加热所述碰撞组件的加热器。
227.如权利要求225或226所述的设备，其中所述碰撞组件基本上是圆柱形、管状、棒状、线圈状、螺旋状或螺旋形、球形、半球形、泪滴形、板形、凹形、盘形或圆锥形。
228.如权利要求225、226或227所述的设备，其中所述壳体包括一个或多个屏，所述一个或多个屏至少部分地围绕所述碰撞组件处于延伸位置，用于保护所述碰撞组件。
229.如权利要求228所述的设备，其中所述一个或多个屏从所述延伸位置至少部分地能缩回到缩回位置，在缩回位置中，所述碰撞组件的至少一部分不被所述一个或多个屏包围。
230.如权利要求229所述的设备，其中所述一个或多个屏被偏置朝向所述延伸位置。
231.质谱仪和/或离子迁移率谱仪，包括如权利要求225-230中任一项所述的设备，其中所述壳体在所述孔的第二端处与真空室连接。
232.用于将分析物源与质谱仪和/或离子迁移率谱仪的真空室接合的设备，所述设备包括：
壳体，其具有穿过其中的孔，用于在所述孔的第一端处接收分析物，并将所述分析物传送到所述孔的第二端进而到真空室；
碰撞组件，其安装到所述壳体，以邻近所述孔的第二端或在所述孔的第二端的下游，用于从其上的所述孔撞击所述分析物或其它样品；并且
其中所述壳体包括一个或多个屏，所述一个或多个屏被配置成能从延伸位置和缩回位置移动，在所述延伸位置中，所述屏至少部分地围绕所述碰撞组件，在所述缩回位置中，所述碰撞组件的至少一部分不被所述一个或多个屏包围。
233.如权利要求232所述的设备，其中所述一个或多个屏被偏置朝向所述延伸位置。
234.质谱仪和/或离子迁移率谱仪，包括如权利要求232或233中任一项所述的设备，其中所述壳体在所述孔的第二端处与真空室连接。
235.用于将分析物源与质谱仪和/或离子迁移率谱仪的真空室接合的设备，所述设备包括：
壳体，其具有穿过其中的孔，用于在所述孔的第一端处接收分析物，并将所述分析物传送到所述孔的第二端进而到真空室；以及
隔离阀，所述隔离阀用于选择性地关闭所述孔或与所述孔连通的路径；其中所述隔离阀偶联到所述壳体，使得所述壳体关于其纵向轴线的旋转使所述隔离阀在打开位置和关闭位置之间移动。
236.如权利要求235所述的设备，其中所述隔离阀包括凸轮构件，当所述阀在打开位置和关闭位置之间移动时，所述凸轮构件被配置以滑过所述孔中的开口或与所述孔连通的路径。
237.如权利要求235或236所述的设备，包括布置在所述孔的第二端处的碰撞组件，用于从其上的所述孔撞击所述分析物或其它样品。
238.如权利要求237所述的设备，其中所述碰撞组件被可移除地安装到所述壳体。
239.如权利要求237或238所述的设备，包括用于加热所述碰撞组件的加热器。
240.质谱仪和/或离子迁移率谱仪，包括如权利要求235-239中任一项所述的设备，其中当所述隔离阀打开时，所述孔被布置以连接被配置为保持在第一压力下的真空室和较高压力下的区域。