X射线管
专利汇可以提供X射线管专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且一种 X射线 管，其通过这样产生：由金属片形成第一壳体部分(20)；从金属片形成第二壳体部分(22)，安装 电子 源(18)在壳体部分之一中；安装 阳极 (16)在壳体部分之一中；以及连接壳体部分(20，22)在一起以形成限定电子源(18)和阳极(16)位于其中的室的壳体。，下面是X射线管专利的具体信息内容。
1.一种生产X射线管的方法，包括：从金属片形成第一壳体部分；从金属片形成第二壳体部分，安装电子源在其中一个所述壳体部分中；安装阳极在其中一个所述壳体部分中；
以及连接所述壳体部分在一起以形成限定室的壳体，所述电子源和所述阳极位于所述室中。
2.如权利要求1所述的方法，其中，至少一个所述壳体部分是通过压制金属片形成。
3.如权利要求1或2所述的方法，进一步包括在所述金属片中形成减小厚度的区域以形成X射线退出窗。
4.如上述权利要求中任一项所述的方法，其中，所述电子源安装在所述壳体部分中的一个内，所述阳极安装在另一个中。
5.如上述权利要求中任一项所述的方法，进一步包括在所述壳体中形成孔以及在所述孔中安装电子源馈通部以提供到所述电子源的电连接。
6.如上述权利要求中任一项所述的方法，进一步包括在所述壳体中形成孔以及在所述孔中安装阳极馈通部以提供到所述阳极的电连接。
7.如权利要求5或6所述的方法，其中，所述孔或者每个孔通过冲压形成。
8.如权利要求7所述的方法，其中，焊接形成部通过冲压形成在所述壳体上，并且所述焊接形成部用于焊接至少一个所述馈通部到所述壳体。
9.如权利要求6所述的方法，其中，所述阳极馈通部限定用于供应冷却剂到所述阳极的冷却剂导管。
10.如权利要求6-9中任一项所述的方法，其中，所述阳极馈通部具有设置在其上的电极，该电极成形和定位成防止所述阳极馈通部的至少一部分遭受杂散电子。
11.如上述权利要求中任一项所述的方法，其中，所述阳极是中空的并限定通过它的冷却通道。
12.如权利要求11所述的方法，进一步包括由管状构件形成所述阳极。
13.如权利要求12所述的方法，其中，所述管状构件形成为包括靶表面。
14.如权利要求13所述的方法，进一步包括涂覆所述靶表面。
15.一种X射线管，包括：壳体、支撑在该壳体中的阳极和X射线源，该X射线源布置成产生制像所述阳极的多个位置的电子束，其中所述壳体包括由金属片形成的两个部分。
16.如权利要求15所述的X射线管，其中，所述壳体包括在金属片中的减小厚度的区域，该区域形成X射线退出窗。
17.如权利要求15或16所述的X射线管，其中，所述电子源安装在所述壳体部分中的一个内，所述阳极安装在另一个中。
18.如权利要求15-17中任一项所述的X射线管，进一步包括安装在所述壳体中的孔中的电子源馈通部以提供到所述电子源的电连接。
19.如权利要求15-18中任一项所述的X射线管，进一步包括安装在所述壳体中的孔中的阳极馈通部以提供到所述阳极的电连接。
20.如权利要求19所述的X射线管，其中，所述阳极馈通部具有设置在其上的电极，该电极成形和定位成防止所述阳极馈通部的至少一部分遭受杂散电子。
21.如权利要求19或20所述的X射线管，其中，所述阳极馈通部限定用于传送冷却所述阳极的冷却剂的冷却通道的至少一部分。
22.如权利要求21所述的X射线管，其中，所述阳极馈通部包括支撑电连接器并具有通过它形成的所述冷却通道的一部分的主体。
23.如权利要求22所述的X射线管，其中，所述阳极馈通部进一步包括围绕所述主体延伸的管状构件，且限定在所述管状构件和所述主体之间的间隙形成所述冷却剂通道的一部分。
24.一种X射线管，包括：阳极；安置来产生电子束的电子源，其中所述阳极包括其上具有靶表面的管状构件，电子束能够指向到所述靶表面；以及冷却剂供给源，其安置来传送冷却剂以流动通过所述管状构件以冷却所述阳极。
25.如权利要求23所述的X射线管，其中，所述管状构件形成为具有形成靶表面的前面，该前面在横截面中是平的。
26.如权利要求25所述的X射线管，其中，所述管状构件形成为具有在横截面中为弯曲的后侧。
27.如权利要求24-26中任一项所述的X射线管，其中，所述管状构件形成为环，以形成圆形阳极。
28.如权利要求24-27中任一项所述的X射线管，其中，所述靶表面至少部分地涂覆有靶材料。
29.一种生产用于X射线管的阳极的方法，所述方法包括提供管状构件并成形该管状构件以在其上形成靶表面。
30.如权利要求29所述的方法，进一步包括用靶材料涂覆所述靶表面。
31.如权利要求29或30所述的方法，进一步包括形成冷却剂端口，冷却剂能够通过该端口引入到所述管状构件中。
32.一种X射线管，包括：壳体；在所述壳体中的阳极，所述阳极包括冷却导管，冷却剂能够通过该冷却导管以冷却所述阳极；冷却剂回路，冷却剂能够通过该冷却剂回路提供给所述阳极以及从所述阳极返回；和馈通部，其延伸通过所述壳体并包括用于连接电源到所述阳极的电连接和冷却剂通道，所述冷却剂通道安置为形成所述冷却剂回路的一部分。
33.如权利要求32所述的X射线管，包括支撑主体，其中所述电连接包括支撑在所述支撑主体中的电连接器。
34.如权利要求33所述的X射线管，其中，所述支撑主体具有孔，通过该孔形成所述冷却剂回路的一部分。
35.如权利要求33或34所述的X射线管，进一步包括管状构件，该管状构件围绕所述支撑主体延伸并从该支撑主体间隔开，以部分地限定冷却剂容积，所述冷却剂容积形成所述冷却剂回路的一部分。
36.如权利要求35所述的X射线管，进一步包括端盖，该端盖覆盖所述管状构件的末端并也从所述支撑主体间隔开以使得所述冷却剂容积围绕所述支撑主体的末端延伸。
37.如权利要求34所述的X射线管，进一步包括连接到所述端盖的电极，该电极成形和定位成防止所述阳极馈通部的至少一部分遭受杂散电子。
38.如权利要求36或37所述的X射线管，其中，所述端盖包括形成所述电连接的一部分的电阻器，并且所述冷却剂容积中的冷却剂被安置来冷却该电阻器。
39.如权利要求38所述的X射线管，其中，所述电极电连接到所述电阻器。
40.如权利要求36-39中任一项所述的X射线管，当该权利要求引用权利要求32时，所述X射线管进一步包括跨过所述冷却剂容积延伸以形成流体路径的连接器，其中所述流体路径连接所述阳极到通过所述支撑主体的所述孔。
X射线管
技术领域
背景技术
发明内容
具体实施方式
84中的孔，每个桩具有连接到中空阳极16的一个末端。孔在管桩112、114连接到它上面之前切割通过阳极16，管桩112在形成端口的孔上连接以提供到阳极16内的冷却剂通道的流体连接。这些管桩112之一使其外端由弹性垫圈110覆盖以形成从阳极16到冷却剂通道
104的返回通道，并且另一个114连接阳极16到HV容器98和陶瓷管80之间的空间108。
它还流入到冷却剂容器的下部，在那里它在陶瓷电阻器90上流动以将其冷却。从那里，它通过管桩114流入到阳极16中。从阳极16返回的冷却剂被迫通过管桩112、将返回路径从入口冷却剂容器108分开的弹性垫圈10，然后通过冷却剂通道104，并通过出口通道120向后出去到外部冷却系统。
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