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一种多电极束流聚焦调节装置

阅读:1026发布:2020-10-11

专利汇可以提供一种多电极束流聚焦调节装置专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本 发明 公开了一种多 电极 束流聚焦调节装置,包括:绝缘腔体(1)、上电极组(2)、下电极组(3)、左电极(4)、右电极(5)、程控数字电源(6)。其特征在于上电极组(2)和下电极组(3)两排电极一一相对,均匀安装在绝缘腔体(1)上,上电极组(2)、下电极组(3)中的每个电极和左电极(4)及右电极(5)分别通过 导线 和程控数字电源(6)的一个 电压 输出 端子 连接,通过调节各个 电机 的电压极性及大小来改变空间点位分布,从而达到调节束流的目的。,下面是一种多电极束流聚焦调节装置专利的具体信息内容。

1.本发明提供一种多电极束流聚焦调节装置,包括:绝缘腔体(1)、上电极组(2)、下电极组(3)、左电极(4)、右电极(5)、程控数字电源(6)。
2.权利1中所述的上电极组(2)、下电极组(3)、左电极(4)、右电极(5)安装固定在绝缘腔体(1)上。
3.权利2中所述的上电极组(2)和下电极组(3)两排电极一一相对,均匀排列安装在绝缘腔体(1)上。
4.权利1中所述的上电极组(2)、下电极组(3)、左电极(4)、右电极(5)中的每个电极分别和程控数字电源(6)的各个电压输出端子相连接。

说明书全文

一种多电极束流聚焦调节装置

技术领域

[0001] 本发明涉及一种多电极束流聚焦调节装置,尤其的涉及离子注入机,属于半导体器件制造设备领域。

背景技术

[0002] 在半导体制造工艺设备离子注入机中,离子束从离子源引出后,由于离子间相互电荷的作用机离子初始运动方向的不同,导致离子束在传输过程中会发生发散,为了使最终打在靶上的离子束流满足生产的要求,需要对离子束进行聚焦。
[0003] 本专利所涉及的宽带束离子束流宽度超过了300mm,为了满足这么大宽度的束流中离子运动方向的一致性及束流大小的均匀性,本专利设计了一种多电极束流聚焦调节装置,能够对宽带离子束流经过的空间电场强度分布进行调节,改变离子运动的方向,调整宽带离子束流分布的均匀性。

发明内容

[0004] 本发明即是针对上述要求而提出的一种结构简单、可靠性高的多电极束流聚焦调节装置。
[0005] 本发明的技术方案是通过改变离子束传输路径空间的电场分布,对宽带离子束在空间不同位置的离子产生不同大小和方向的电场力,从而改变离子束中不同位置的离子运动的偏转方向,达到调节离子束束流径向分布均匀性的目的。
[0006] 本发明中上电极组(2)、下电极组(3)中的每个电极和左电极(4)及右电极(5)分别连接程控数字电源(6)的一个电压输出端相连接。控制程控数字电源(6)每个电压输出端的电压大小,即可改变绝缘腔体(1)各个位置的电场场强大小及方向。
[0007] 本发明具有如下显著优点:
[0008] 1.通过改变离子束传输路径空间的电场场强大小及方向来调节束流均匀性,使得整个装置结构简单,调节方便。
[0009] 2.上电极组(2)、下电极组(3)中的每个电极和左电极(4)及右电极(5)分别连接程控数字电源(6)的一个电压输出端子相连接,各个电极的电压可以单独调节,使得空间各个局部区域的电场改变灵活,能满足不同束流分布的调节。附图说明
[0010] 图1为多电极束流聚焦调节装置的示意图;

具体实施方式

[0011] 下面结合附图和具体实施例对本发明作进一步的介绍,但不作为对本发明的限定。
[0012] 如图1所示的一种一种多电极束流聚焦调节装置,包括:绝缘腔体(1)、上电极组(2)、下电极组(3)、左电极(4)、右电极(5)、程控数字电源(6)。其特征在于上电极组(2)和下电极组(3)两排电极一一相对,均匀安装在绝缘腔体(1)上,上电极组(2)、下电极组(3)中的每个电极和左电极(4)及右电极(5)分别通过导线和程控数字电源(6)的一个电压输出端子连接。
[0013] 调节程控数字电源(6)各个电压输出端子的电压即改变每个电极上的电压大小,导致绝缘腔体(1)内空间中电场的分布发生变化,从而改变经过绝缘腔体(1)的宽带离子束各个位置的离子运动的偏转方向,达到调节离子束束流径向分布均匀性的目的。
[0014] 以上所述已对本发明的内容做了详尽说明。对本领域一般技术人员而言,在不背离本发明精神的前提下对它所做的任何显而易见的改动,都构成对本发明专利的侵犯,将承担相应的法律责任。
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