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一种 行星架的锻造工艺

阅读：521发布：2020-05-12

专利汇可以提供一种行星架的锻造工艺专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且本发明公开了一种行星架的锻造工艺，涉及行星架加工技术领域，旨在解决抛丸机处理的随机性较大，容易导致行星架的氧化皮处理不彻底的技术问题，其技术方案要点是通过基础的抛丸机抛光，并对行星架表面通过高压水进行清洗，把上面附着的氧化皮去除，然后进行二次喷砂细致处理，最后通过高压气流去屑；提高行星架氧化皮处理的效果。，下面是一种行星架的锻造工艺专利的具体信息内容。

权利要求

1.一种行星架的锻造工艺，其特征在于，包括以下步骤：
S01：基础抛光，把若干行星架进行第一次抛丸处理；
S02：高压去皮，把经过基础抛光过的若干行星架沿传输带穿过高压清洗装置进行清洗；
S03：二次抛光，把经过高压去皮的行星架进行烘干处理后，进行喷砂处理；
S04：气流去屑，通过强风把经过二次抛光处理的行星架表面的碎屑去除；
S05：包装，最终把抛光好的行星架进行包装。
2.根据权利要求1所述的一种行星架的锻造工艺，其特征在于：所述步骤S01中的抛丸采用履带式抛丸机、吊钩式抛丸机和转台式抛丸机中的一种。
3.根据权利要求2所述的一种行星架的锻造工艺，其特征在于：所述步骤S01的抛丸时间设置优选为3min-5min。
4.根据权利要求1所述的一种行星架的锻造工艺，其特征在于：所述步骤S02中的高压去皮，使用高压水枪以360°环绕式对传输带上的行星架进行高压水流冲击。
5.根据权利要求4所述的一种行星架的锻造工艺，其特征在于：所述步骤S02中的高压水枪的水射角度与运输带呈25°-30°夹角。
6.根据权利要求4所述的一种行星架的锻造工艺，其特征在于：所述步骤S02中的高压水枪的水射压力优选为50Mpa-70Mpa。
7.根据权利要求1所述的一种行星架的锻造工艺，其特征在于：所述步骤S03中的喷砂采用环保型喷砂机和液体喷砂机中的一种。
8.根据权利要求7所述的一种行星架的锻造工艺，其特征在于：所述步骤S03的喷砂时间设置优选为5min-8min。
9.根据权利要求1所述的一种行星架的锻造工艺，其特征在于：所述步骤S04中的气流去屑的功率设置为2000W-2500W。

说明书全文

一种行星架的锻造工艺

技术领域

[0001] 本发明涉及行星架加工技术领域，更具体地说，它涉及一种行星架的锻造工艺。

背景技术

[0002] 行星架是行星齿轮传动装置的主要构件之一，行星轮轴或者轴承就装在行星架上；当行星轮作为基本构件时，它是机构中承受外力矩最大的零件。

[0003] 现有公开号为CN105855439A的中国专利，提供了一种行星架的加工方法，包括如下步骤：S1、选用直径为194mm，厚度为52mm的圆柱体钢料；S2、将步骤1的毛坯件放入中频加热炉加热；S3、利用空气锤对步骤2得到工件进行拔锤；S4、将拔锤后的工件放入摩压机内的成型模具热锻；S5、利用冲床对热锻后的工件进行切边、热校处理；S6、将热校后的工件进行热处理；S7、清理氧化皮；S8、包装零件。

[0004] 上述中的现有技术方案存在以下缺陷：现有的行星架在锻造中经过氧化皮清理这一步骤，通常采用抛丸机进行抛丸处理，但抛丸机处理的随机性较大，容易导致行星架的氧化皮处理不彻底，处理效果较差，故有待改善。

发明内容

[0005] 针对现有技术存在的不足，本发明的目的在于提供一种行星架的锻造工艺，其具有提高行星架氧化皮处理的效果的优势。

[0006] 本发明的上述发明目的是通过以下技术方案得以实现的：一种行星架的锻造工艺，包括以下步骤：
S01：基础抛光，把若干行星架进行第一次抛丸处理；
S02：高压去皮，把经过基础抛光过的若干行星架沿传输带穿过高压清洗装置进行清洗；
S03：二次抛光，把经过高压去皮的行星架进行烘干处理后，进行喷砂处理；
S04：气流去屑，通过强风把经过二次抛光处理的行星架表面的碎屑去除；
S05：包装，最终把抛光好的行星架进行包装。

[0007] 通过采用上述技术方案，操作人员把行星架放置在抛丸机内，经过一定时间的抛丸处理后，行星架表面上的大部分氧化皮脱落，少量粘附在行星架表面的氧化皮在高压水枪的水流射击下完全从行星架上剥落；提高了行星架氧化皮处理的效果。

[0008] 此时行星架上还残余少量氧化皮，在行星架被高压水枪冲洗后，自然烘干后，放入喷砂机内，通过喷砂的方式，去除行星架表面上死角处的氧化皮，进一步提高了行星架氧化皮处理的效果，最终通过高压气流把死角处脱落的氧化皮全部吹离行星架。

[0009] 本发明进一步设置为：所述步骤S01中的抛丸采用履带式抛丸机、吊钩式抛丸机和转台式抛丸机中的一种。

[0010] 通过采用上述技术方案，履带式抛丸机大多适用于压铸件、精密铸件、精密锻件等的清理，去除热处理件、铸件、锻件表面的氧化皮；吊钩式抛丸机大多适用于易碎和形状不规则的工件；转台式抛丸机适用于中小型工件的表面清理；上述三种类型的抛丸机均比较适合行星架的抛丸处理。

[0011] 本发明进一步设置为：所述步骤S01的抛丸时间设置优选为3min-5min。

[0012] 通过采用上述技术方案，抛丸时间的设置一般遵循两个原则，其一为节约能源、降低能耗；其二为清理干净；在多次实验后取范围值得出抛丸时间优选为3min-5min；既能保证行星架表面上的氧化皮被清理，又能节约能源。

[0013] 本发明进一步设置为：所述步骤S02中的高压去皮，使用高压水枪以360°环绕式对传输带上的行星架进行高压水流冲击。

[0014] 通过采用上述技术方案，由于行星架在抛丸过程中大部分氧化皮在抛丸的作用下脱离行星架，少量已脱落的氧化皮依旧粘附在行星架上，通过环绕式的高压水枪对行星架进行无死角高压水流的射击，把行星架上粘附的氧化皮冲落。

[0015] 本发明进一步设置为：所述步骤S02中的高压水枪的水射角度与运输带呈25°-30°夹角。

[0016] 通过采用上述技术方案，高压水枪的冲击水流对行星架的冲击力较大，直角冲击容易导致行星架表面出现微小凹陷，故通过多次实验调试在高压水枪的水射角度与运输带呈25°-30°夹角时，高压水枪技能保持对行星架的冲击效果，又能减少对行星架表面的冲击力。

[0017] 本发明进一步设置为：所述步骤S02中的高压水枪的水射压力优选为50Mpa-70Mpa。

[0018] 通过采用上述技术方案，通过控制高压水枪的水射压力，达到高压水枪对行星架表面的冲击效果，但压力的控制又使得水流的冲击力难以对行星架表面造成微小凹陷的情况发生。

[0019] 本发明进一步设置为：所述步骤S03中的喷砂采用环保型喷砂机和液体喷砂机中的一种。

[0020] 通过采用上述技术方案，液体喷砂机很好的控制了喷砂加工过程中的粉尘污染，改善了工作环境；环保型喷砂机采用质量较高的滤芯，提高了除尘效果；保障了行星架的喷砂作业中的空气环境。

[0021] 本发明进一步设置为：所述步骤S03的喷砂时间设置优选为5min-8min。

[0022] 通过采用上述技术方案，喷砂时间经过多次实验数据比较，当喷砂时间在5min-8min内时，喷砂机不但能达到所预期的抛光效果，且提高了能源的利用率，减少了能源的消耗浪费。

[0023] 本发明进一步设置为：所述步骤S04中的气流去屑的功率设置为2000W-2500W。

[0024] 通过采用上述技术方案，通过2000W-2500W功率的吹风机把行星架上死角处的氧化皮吹除，在保证吹除效果的同时，尽可能的保证功率较低，减少了能源消耗，达到了节源的效果。

[0025] 综上所述，本发明具有以下有益效果：1、采用了基础的抛丸机抛光，并对行星架表面通过高压水进行清洗，把上面附着的氧化皮去除，然后进行二次喷砂细致处理，最后通过高压气流去屑；提高行星架氧化皮处理的效果；
2、采用了对抛丸机、喷砂机和高压水枪的各项参数进行限定，在保证其最终效果的同时，达到了节源能源的效果。
附图说明

[0026] 图1为本发明的工艺流程图。

具体实施方式

[0027] 以下结合附图对本发明作进一步详细说明。

[0028] 实施例：一种行星架的锻造工艺，参照图1，包括以下步骤：
S01：基础抛光，把若干行星架通过抛丸机进行第一次抛丸处理，以清理大部分的氧化皮；
抛丸采用转台式抛丸机；抛丸时间设置优选为4min；在保证抛丸效果的情况下，减少能源的使用。

[0029] S02：高压去皮，把经过基础抛光过的若干行星架沿传输带穿过高压清洗装置进行清洗；传输带带动行星架向固定方向移动，此时通过若干高压水枪、并以360°环绕式的方式对传输带上的行星架进行高压水流冲击，利用高压水流与行星架接触时的冲击力把粘附在行星架表面的、但已经在抛丸机的抛丸作用下脱落的氧化皮去除；
其中高压水枪的水射角度与运输带呈30°夹角，减少高压水枪直射后行星架表面的微微凹陷；
高压水枪的水射压力优选为60Mpa，在保证高压水枪的清洗效果的情况下，减少消耗的功率。

[0030] S03：二次抛光，把经过高压去皮的行星架进行烘干处理后，进行喷砂处理，通过喷砂处理取出行星架上死角处的氧化皮，喷砂相比较抛丸的对氧化皮的处理更加的细致，效果更加；喷砂采用环保型喷砂机，在利用喷砂清理氧化皮的情况下，减轻喷砂所导致灰尘对空气的污染；
喷砂时间设置优选为6min；在保证喷砂下清理氧化皮的效果的时，减少能源的使用。

[0031] S04：气流去屑，设置吹风机的气流输出功率为2300W，通过吹风机气流对二次抛光处理的行星架表面的碎屑进行强力吹扫；S05：包装，最终把抛光好的行星架通过纸箱进行包装，并利用透明胶带封住箱口，进行运输。

[0032] 工作原理如下：操作人员把行星架放置在抛丸机内，经过一定时间的抛丸处理后，行星架表面上的大部分氧化皮脱落，少量粘附在行星架表面的氧化皮在高压水枪的倾斜、环绕式的水流射击下完全从行星架上剥落；提高了行星架氧化皮处理的效果。

[0033] 此时行星架上还残余少量氧化皮，在行星架被高压水枪冲洗后，自然烘干后，放入喷砂机内，通过喷砂的方式，去除行星架表面上死角处的氧化皮，进一步提高了行星架氧化皮处理的效果，最终通过高压气流把死角处脱落的氧化皮全部吹离行星架。

[0034] 本具体实施方式的实施例均为本发明的较佳实施例，并非依此限制本发明的保护范围，故：凡依本发明的结构、形状、原理所做的等效变化，均应涵盖于本发明的保护范围之内。

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