专利汇可以提供一种同时确定高反射腔镜和测试镜反射率的方法专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且一种同时确定高反射腔镜和测试镜反射率的方法,其特征在于:强度调制的连续激光入射到两 块 平凹高反射腔镜组成的稳定 谐振腔 ,以 锁 相方式测量光腔输出 信号 一次谐波的振幅和 相位 ,保持腔长不变,加入高反射测试镜构成折叠腔,重复上述过程,测量对应 频率 的折叠腔振幅和相位,进而得到两种腔型对应频率的振幅比值和 相位差 值。由两者随调制频率的变化曲线拟合或由两者在两个频率点的值计算,同时得到腔镜反射率和测试镜反射率,本 发明 具有测量效率和测量 精度 高的优点。,下面是一种同时确定高反射腔镜和测试镜反射率的方法专利的具体信息内容。
1、一种同时确定高反射腔镜和测试镜反射率的方法,其特征在于通过 以下步骤实现:
(1)将方波或正弦波调制的连续激光,入射到两块相同的平凹高反射 腔镜组成的稳定谐振腔或共焦腔,探测直腔输出信号一次谐波的振幅A1(f)和 相位φ1(f);
(2)保持腔长不变,在两块相同的平凹高反射腔镜之间加入高反射测 试镜构成折叠腔,测量折叠腔对应频率下的振幅A2(f)和相位φ2(f);
(3)由直腔和折叠腔两种腔型对应频率的振幅相除和相位相减分别得 到振幅比值RA(f)和相位差值Δφ(f);
(4)由两种腔型对应调制频率的振幅比值RA(f)和相位差值Δφ(f),通 过频率曲线拟合确定直腔衰荡时间τ1和折叠腔衰荡时间τ2,计算腔镜反射率 R和测试镜反射率Rx,或者由两种腔型对应调制频率的振幅比值RA(f)和相位 差值Δφ(f),通过直接计算确定腔镜反射率R和测试镜反射率Rx。
2、根据权利要求1所述的同时确定高反射腔镜和测试镜反射率的方法, 其特征在于:所述步骤(1)中的连续激光采用连续半导体激光器或二极管 泵浦的固体激光器或气体激光器。
3、根据权利要求1所述的同时确定高反射腔镜和测试镜反射率的方法, 其特征在于:所述步骤(1)中的方波或者正弦波调制的连续激光是通过调 制半导体激光器的驱动电流或电压,或者采用声光调制器、电光调制器、斩 波器调制连续激光束实现的。
4、根据权利要求1所述的同时确定高反射腔镜和测试镜反射率的方法, 其特征在于:所述步骤(1)的调制频率变化范围为10Hz~2MHz。
5、根据权利要求1所述的同时确定高反射腔镜和测试镜反射率的方法, 其特征在于:所述步骤(4)中频率曲线拟合方法为:采用振幅比值RA(f)随 调制频率的变化曲线拟合,同时确定直腔衰荡时间τ1和折叠腔衰荡时间τ2。
6、根据权利要求1所述的同时确定高反射腔镜和测试镜反射率的方法, 其特征在于:所述步骤(4)中频率曲线拟合方法为:采用相位差值Δφ(f)随 调制频率的变化曲线拟合,同时确定直腔衰荡时间τ1和折叠腔衰荡时间τ2。
7、根据权利要求1所述的同时确定高反射腔镜和测试镜反射率的方法, 其特征在于:所述步骤(4)中频率曲线拟合方法为:振幅比值RA(f)和相位 差值Δφ(f)随调制频率的变化曲线一起拟合,同时确定直腔衰荡时间τ1和折叠 腔衰荡时间τ2。
8、根据权利要求1所述的同时确定高反射腔镜和测试镜反射率的方法, 其特征在于:所述步骤(4)中直接计算方法为:根据相位差值Δφ(f)在任意 两个频率点f1、f2,其中包含(2n+1)f2=(2m+1)f1,m,n为非负整数且m≠n的值, 列方程直接计算,同时确定直腔衰荡时间τ1和折叠腔衰荡时间τ2,再计算腔 镜反射率R和测试镜反射率Rx,或者根据相位差值Δφ(f)在任意两个频率点 f1、f2,其中包含(2n+1)f2=(2m+1)f1,m,n为非负整数且m≠n的值,直接计算 腔镜反射率R和测试镜反射率Rx。
9、根据权利要求1所述的同时确定高反射腔镜和测试镜反射率的方法, 其特征在于:所述步骤(4)中直接计算方法为:根据振幅比值RA(f)在两个 频率点f1、f2的值和相位差值Δφ(f)在其中一个频率点的值,列方程直接计算, 同时确定直腔衰荡时间τ1和折叠腔衰荡时间τ2,再计算腔镜反射率R和测试 镜反射率Rx,或者根据振幅比值RA(f)在两个频率点f1、f2的值和相位差值 Δφ(f)在其中一个频率点的值,直接计算腔镜反射率R和测试镜反射率Rx。
10、根据权利要求1所述的同时确定高反射腔镜和测试镜反射率的方 法,其特征在于:所述步骤(2)中的高反射测试镜待测角度为1-85度。
11、根据权利要求1所述的同时确定高反射腔镜和测试镜反射率的方 法,其特征在于:所述步骤(1)中的两块相同的平凹镜,凹面镀高反膜, 且凹面相对构成直腔。
12、根据权利要求1所述的同时确定高反射腔镜和测试镜反射率的方 法,其特征在于:所述的步骤(1)和步骤(2)中通过锁相放大器探测直腔 和折叠腔的振幅和相位。
本发明涉及一种对光学元件参数的测量方法,特别一种同时确定腔镜和 测试镜反射率的方法。
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