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一种 转轴加工用清洗装置

阅读：163发布：2021-07-02

专利汇可以提供一种转轴加工用清洗装置专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且本实用新型涉及清洗装置技术领域，尤其涉及一种转轴加工用清洗装置，包括挡板，所述挡板为竖直设置，挡板的数量为两个，挡板之间连接有倾斜设置的滑板，所述挡板之间通过转轴安装有均匀分布的转动辊，所述转动辊的上端延伸至滑板的上方，且转动辊与滑板之间存在空隙，所述挡板之间从高到低依次设置有第一集水槽、第二集水槽和第三集水槽，第一集水槽、第二集水槽和第三集水槽均位于滑板的下方，本装置使用时，将转轴放置在滑板上，使得转轴沿着滑板滚动，此时第一分布板、第二分布板和第三分布板上的喷头能够对转轴喷出高压水流，通过高压水流对转轴进行清洗，操作过程方便简单。，下面是一种转轴加工用清洗装置专利的具体信息内容。

权利要求

1.一种转轴加工用清洗装置，包括挡板(1)，所述挡板(1)为竖直设置，挡板(1)的数量为两个，挡板(1)之间连接有倾斜设置的滑板(2)，其特征在于，所述挡板(1)之间通过转轴安装有均匀分布的转动辊(3)，所述转动辊(3)的上端延伸至滑板(2)的上方，且转动辊(3)与滑板(2)之间存在空隙，所述挡板(1)之间从高到低依次设置有第一集水槽(4)、第二集水槽(5)和第三集水槽(6)，第一集水槽(4)、第二集水槽(5)和第三集水槽(6)均位于滑板(2)的下方，所述第一集水槽(4)的下端与水箱(7)的上端相连通，所述水箱(7)的内部设置有过滤板(17)，所述水箱(7)的下端与第一水泵(8)的进口端相连接，所述第一水泵(8)的出口端通过第一连接管(9)与第一分布板(10)相连接，所述第一分布板(10)位于第三集水槽(6)的上方。
2.根据权利要求1所述的一种转轴加工用清洗装置，其特征在于，所述第二集水槽(5)的下端与第二水泵(11)的进口端相连接，所述第二水泵(11)的出口端通过第二连接管(12)与第二分布板(13)相连接，所述第二分布板(13)位于第一集水槽(4)的上方。
3.根据权利要求2所述的一种转轴加工用清洗装置，其特征在于，所述第三集水槽(6)的下端与第三水泵(14)的进口端相连接，所述第三水泵(14)的出口端通过第三连接管(15)与第三分布板(16)相连接，所述第三分布板(16)位于第二集水槽(5)的上方。
4.根据权利要求3所述的一种转轴加工用清洗装置，其特征在于，所述水箱(7)的侧壁上还设置有注水口和视镜，且注水口位于过滤板(17)的下方。
5.根据权利要求4所述的一种转轴加工用清洗装置，其特征在于，所述转动辊(3)与滑板(2)之间存在间隙，转动辊(3)与滑板(2)之间最小距离为1mm-10mm。
6.根据权利要求5所述的一种转轴加工用清洗装置，其特征在于，所述滑板(2)的倾斜角度为15°-45°。
7.根据权利要求6所述的一种转轴加工用清洗装置，其特征在于，所述第一分布板(10)的下端、第二分布板(13)的下端和第三分布板(16)的下端均安装有均匀分布的喷头。

说明书全文

一种转轴加工用清洗装置

技术领域

[0001] 本实用新型涉及清洗装置技术领域，尤其涉及一种转轴加工用清洗装置。

背景技术

[0002] 转轴，顾名思义即是连接产品零部主件必须用到的、用于转动工作中既承受弯矩又承受扭矩的轴。

[0003] 转轴加工过程中，需要对转轴进行清洗，现有的清洗方式一般是人工通过高压水枪对转轴进行清洗，清洗过程比较麻烦，且耗费较多的水资源。实用新型内容

[0004] 本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，而提出的一种转轴加工用清洗装置。

[0005] 为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：

[0006] 一种转轴加工用清洗装置，包括挡板，所述挡板为竖直设置，挡板的数量为两个，挡板之间连接有倾斜设置的滑板，所述挡板之间通过转轴安装有均匀分布的转动辊，所述转动辊的上端延伸至滑板的上方，且转动辊与滑板之间存在空隙，所述挡板之间从高到低依次设置有第一集水槽、第二集水槽和第三集水槽，第一集水槽、第二集水槽和第三集水槽均位于滑板的下方，所述第一集水槽的下端与水箱的上端相连通，所述水箱的内部设置有过滤板，所述水箱的下端与第一水泵的进口端相连接，所述第一水泵的出口端通过第一连接管与第一分布板相连接，所述第一分布板位于第三集水槽的上方。

[0007] 优选的，所述第二集水槽的下端与第二水泵的进口端相连接，所述第二水泵的出口端通过第二连接管与第二分布板相连接，所述第二分布板位于第一集水槽的上方。

[0008] 优选的，所述第三集水槽的下端与第三水泵的进口端相连接，所述第三水泵的出口端通过第三连接管与第三分布板相连接，所述第三分布板位于第二集水槽的上方。

[0009] 优选的，所述水箱的侧壁上还设置有注水口和视镜，且注水口位于过滤板的下方。

[0010] 优选的，所述转动辊与滑板之间存在间隙，转动辊与滑板之间最小距离为1mm-10mm。

[0011] 优选的，所述滑板的倾斜角度为15°-45°。

[0012] 优选的，所述第一分布板的下端、第二分布板的下端和第三分布板的下端均安装有均匀分布的喷头。

[0013] 本实用新型的有益效果是：

[0014] 1、本装置使用时，将转轴放置在滑板上，使得转轴沿着滑板滚动，此时第一分布板、第二分布板和第三分布板上的喷头能够对转轴喷出高压水流，通过高压水流对转轴进行清洗，操作过程方便简单。

[0015] 2、本装置使用时，由于转动辊与滑板之间存在间隙，清洗过程中产生的废水会流到滑板的下方，最终进入到第一集水槽、第二集水槽或者第三集水槽的内部，再进行循环使用，提高水资源的利用率。附图说明

[0016] 图1为本实用新型提出的一种转轴加工用清洗装置的主视结构示意图；

[0017] 图2为本实用新型提出的一种转轴加工用清洗装置的滑板的俯视结构示意图；

[0018] 图3为本实用新型提出的一种转轴加工用清洗装置的图1中A处放大结构示意图。

[0019] 图中：1挡板、2滑板、3转动辊、4第一集水槽、5第二集水槽、6第三集水槽、7水箱、8第一水泵、9第一连接管、10第一分布板、11第二水泵、12第二连接管、13第二分布板、14第三水泵、15第三连接管、16第三分布板、17过滤板。

具体实施方式

[0020] 下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。

[0021] 参照图1-3，一种转轴加工用清洗装置，包括挡板1，所述挡板1为竖直设置，挡板1的数量为两个，挡板1之间连接有倾斜设置的滑板2，滑板2与挡板1焊接连接，挡板1之间的垂直距离大于需要清洗的转轴的长度，所述挡板1之间通过转轴安装有均匀分布的转动辊3，所述转动辊3的上端延伸至滑板2的上方，转动辊3位于滑板2上方的体积占整个转动辊3体积的六分之一到三分之一，且转动辊3与滑板2之间存在空隙，所述挡板1之间从高到低依次设置有第一集水槽4、第二集水槽5和第三集水槽6，第一集水槽4、第二集水槽5和第三集水槽6均位于滑板2的下方，所述第一集水槽4的下端与水箱7的上端相连通，所述水箱7的内部设置有过滤板17，过滤板17包括石英砂净水层、活性炭净水层和过滤膜，所述水箱7的下端与第一水泵8的进口端相连接，所述第一水泵8的出口端通过第一连接管9与第一分布板
10相连接，所述第一分布板10位于第三集水槽6的上方。

[0022] 进一步的，第二集水槽5的下端与第二水泵11的进口端相连接，所述第二水泵11的出口端通过第二连接管12与第二分布板13相连接，所述第二分布板13位于第一集水槽4的上方。

[0023] 进一步的，第三集水槽6的下端与第三水泵14的进口端相连接，所述第三水泵14的出口端通过第三连接管15与第三分布板16相连接，所述第三分布板16位于第二集水槽5的上方。

[0024] 进一步的，水箱7的侧壁上还设置有注水口和视镜，且注水口位于过滤板17的下方。

[0025] 进一步的，转动辊3与滑板2之间存在间隙，转动辊3与滑板2之间最小距离为1mm-10mm。

[0026] 进一步的，滑板2的倾斜角度为15°-45°。

[0027] 进一步的，第一分布板10的下端、第二分布板13的下端和第三分布板16的下端均安装有均匀分布的喷头，每块分布板上喷头的数量为15个-40个。

[0028] 进一步的，本实施例中共设置有六个转动辊，第一集水槽4、第二集水槽5和第三集水槽6的正上方分别设置有两个转动辊。

[0029] 本实施例中，本装置使用时，将转轴放置在滑板2上，使得转轴沿着滑板2滚动，挡板1能够对转轴起到限位的作用，转动辊3能够对转轴起到一定的缓冲作用，此时第一分布板10、第二分布板13和第三分布板16上的喷头能够对转轴喷出高压水流，通过高压水流对转轴进行清洗，操作过程方便简单。

[0030] 本装置使用时，由于转动辊3与滑板2之间存在间隙，清洗过程中产生的废水会流到滑板2的下方，最终进入到第一集水槽4、第二集水槽5或者第三集水槽6的内部，第一集水槽4中的废水流入到水箱7内部，经过过滤板17 净化，净化后通过第一水泵8输送至第一分布板10，对转轴进行漂洗，第二集水槽5中收集的废水通过第二水泵11输送至第二分布板13，对转轴进行初洗，第三集水槽6中收集的废水通过第三水泵14输送至第三分布板16对转轴进行洗涤，最终实现水资源的循环使用，提高水资源的利用率。

[0031] 以上所述，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。

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