专利汇可以提供一种低通高吸型电磁功能层专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本 发明 公开了一种低通高吸型电磁功能层,包括低通高阻型 频率 选择表面,由 刻蚀 在介质 基板 两面上的不同结构尺寸的金属结构单元阵列构成,单元阵列的周期p=10.0‑20.0mm,金属结构单元具有 旋转对称 性,其频率选择特与入射波极化方向无关,且两面金属结构单元的大小不同;吸波单元阵列,由磁损耗吸波材料或 电阻 型吸波材料制作的正方形或圆形小片构成的周期性阵列,在高频段具有宽带吸波性能,吸波单元尺寸小于金属结构单元的尺寸,并且粘结在低通高阻型频率选择表面带有尺寸较小金属结构单元的一侧。本发明所得材料带内插损小、厚度小、设计灵活、成本低。,下面是一种低通高吸型电磁功能层专利的具体信息内容。
1.一种低通高吸型电磁功能层,其特征在于,包括
低通高阻型频率选择表面,由刻蚀在介质基板两面上的不同尺寸的金属结构单元阵列构成,单元阵列的周期p=10.0-20.0mm,金属结构单元具有旋转对称性,其频率选择特与入射波极化方向无关,且两面金属结构单元的大小不同;
吸波单元阵列,由磁损耗吸波材料或电阻型吸波材料制作的正方形或圆形小片构成的周期性阵列,在高频段具有宽带吸波性能,吸波单元尺寸小于金属结构单元的尺寸,并且粘结在低通高阻型频率选择表面带有尺寸较小金属结构单元的一侧。
2.根据权利要求1所述的一种低通高吸型电磁功能层,其特征在于,所述金属结构单元采用大小不同的双层正方形金属贴片,正方形金属贴片的金属层厚度t=0.013-0.030mm,其中一侧较大边长的正方形金属贴片结构单元的边长a1=9.0-19.0mm,另一侧较小正方形金属贴片结构单元的边长a2=8.6-18.0mm,两正方形金属贴片之间设有介质基板,介质基板的厚度在t1=0.1-1.0mm之间,基板的相对介电常数εr=2.0-4.6,损耗角正切tanδ=
0.0001-0.025。
3.根据权利要求1所述的一种低通高吸型电磁功能层,其特征在于,所述吸波单元阵列是由宽带磁性吸波材料做成的正方形方块构成的周期性阵列,其在平面内的重复周期与低通高阻频率选择表面的重复周期相等。
4.根据权利要求1所述的一种低通高吸型电磁功能层,其特征在于,所述吸波单元阵列所采用磁性吸波材料的相对介电常数的实部εr’=8-16,虚部在εr”=0.3-2;相对磁导率介于μr’=1-6,虚部μr”=0.3-2;磁性吸波材料方块的边长a3小于金属结构单元的尺度,并且a3=8.0-18.0mm。
5.根据权利要求1所述的一种低通高吸型电磁功能层,其特征在于,所述吸波单元阵列的厚度t2=1.0-3.0mm。
6.根据权利要求1所述的一种低通高吸型电磁功能层,其特征在于,所述吸波单元阵列粘接在低通高阻型频率选择表面较小尺寸的金属结构单元上,其几何中心与较小尺寸金属结构单元的几何中心重合。
7.根据权利要求2所述的一种低通高吸型电磁功能层,其特征在于,所述正方形金属贴片采用铜、铝、银、金、锡、锌、铝镁合金中的一种材质。
标题 | 发布/更新时间 | 阅读量 |
---|---|---|
一种方块电阻SPICE模型的构建方法 | 2020-05-11 | 964 |
欧姆接触区方块电阻的修正方法 | 2020-05-11 | 972 |
HEMT器件欧姆接触区方块电阻的测试方法 | 2020-05-13 | 757 |
一种降低铜互连方块电阻的单大马士革方法 | 2020-05-13 | 57 |
一种提取互连线方块电阻的方法和装置 | 2020-05-14 | 321 |
体积电阻与方块电阻转换校准装置及其校准方法 | 2020-05-15 | 389 |
一种降低浮栅方块电阻的方法 | 2020-05-11 | 445 |
检测合金方块电阻的方法 | 2020-05-11 | 257 |
导电薄膜方块电阻多探针测量方法及测量头 | 2020-05-13 | 396 |
一种薄层材料方块电阻测试方法 | 2020-05-12 | 742 |
高效检索全球专利专利汇是专利免费检索,专利查询,专利分析-国家发明专利查询检索分析平台,是提供专利分析,专利查询,专利检索等数据服务功能的知识产权数据服务商。
我们的产品包含105个国家的1.26亿组数据,免费查、免费专利分析。
专利汇分析报告产品可以对行业情报数据进行梳理分析,涉及维度包括行业专利基本状况分析、地域分析、技术分析、发明人分析、申请人分析、专利权人分析、失效分析、核心专利分析、法律分析、研发重点分析、企业专利处境分析、技术处境分析、专利寿命分析、企业定位分析、引证分析等超过60个分析角度,系统通过AI智能系统对图表进行解读,只需1分钟,一键生成行业专利分析报告。