专利汇可以提供集成塞贝克器件专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且一种集成器件包括集成在衬底(2)中的塞贝克器件(4)。发热器件(6)加热塞贝克器件(4),从而塞贝克器件(4)生成电功率。塞贝克器件对另一器件供电,该另一器件可以是同样集成在衬底中的微 电池 (8)或用于冷却另一发热器件的珀 耳 帖效应器件。,下面是集成塞贝克器件专利的具体信息内容。
1.一种集成器件,包括:
-集成在衬底(2)中的塞贝克器件(4),该衬底具有相对的第一主表面和第二主表面(42,44);
-在第一主表面(42)处位于塞贝克器件上的第一器件(6),该第一器件是在使用中产生热量的器件;
-另一器件(8,12),该另一器件连接至塞贝克器件且由塞贝克器件供电,该另一器件是集成在衬底(2)中的可再充电电池或珀耳帖效应器件。
2.根据权利要求1所述的集成器件,其中,衬底(2)是半导体衬底,塞贝克器件(4)包括在衬底中处于第一器件下、向第二主表面(44)延伸的多个孔、沟槽或网孔(30)。
3.根据权利要求2所述的集成器件,其中,衬底被掺杂为第一导电类型,塞贝克器件进一步包括:
-所述多个孔、沟槽或网孔中的绝缘层(34);
-所述孔、沟槽或网孔中与第一导电类型相反的导电类型的半导体(36),该半导体通过所述绝缘层与衬底绝缘;
-与第一器件相邻的所述孔、沟槽或网孔的顶部处的至少一个顶部电极(38);以及-在所述孔、沟槽或网孔与顶部电极相反的一端处的至少一个底部电极(40),用于根据顶部电极和底部电极之间的电势生成电功率。
4.根据权利要求3所述的集成器件,其中,孔、沟槽或网孔(30)从第一器件(4)穿过衬底延伸至与第一主表面相对的第二主表面,且底部电极(40)位于衬底的第二主表面(44)上。
5.根据任一前述权利要求所述的集成器件,包括衬底第一主表面中的凹陷(32),产生热量的器件(6)安装在该凹陷(32)中。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的集成器件,其中,所述另一器件是珀耳帖器件(12),且所述集成器件进一步包括位于珀耳帖器件上的第二器件(14)以便通过珀耳帖器件来冷却。
7.根据权利要求6所述的集成器件,其中,珀耳帖器件(12)的结构与塞贝克器件(14)的结构相同。
8.根据任一前述权利要求所述的集成器件,其中,所述另一器件是可再充电电池(8),该可再充电电池(8)连接至塞贝克器件从而可以通过塞贝克器件来再充电。
9.根据权利要求8所述的集成器件,其中,可再充电电池(8)包括多个延伸进入半导体衬底中的孔。
10.根据任一前述权利要求所述的集成器件,其中,第一器件(6)是固态照明器件。
11.一种制造集成器件的方法,包括:
-形成集成在衬底(2)中的塞贝克器件(4),该衬底具有相对的第一主表面和第二主表面(42,44);
-形成集成在衬底(2)中的另一器件(8,12),该另一器件连接至塞贝克器件且由塞贝克器件供电;和
-在衬底(2)的第一主表面(42)处使第一器件(6)位于塞贝克器件(4)上,该第一器件是在使用中产生热量的器件。
12.根据权利要求11所述的方法,其中,所述另一器件是珀耳帖效应器件(12),该珀耳帖效应器件(12)以用来形成塞贝克效应器件(6)的相同方法步骤来形成。
13.根据权利要求11所述的方法,其中,所述另一器件是电池(8)。
14.根据权利要求11、12或13所述的方法,其中,形成塞贝克器件包括:
-提供被重掺杂为第一导电类型的半导体衬底(2);
-形成向第二主表面延伸的多个孔、沟槽或网孔,所述多个孔、沟槽或网孔具有朝向第一主表面的第一端以及朝向第二主表面的第二端;
-在所述多个孔、沟槽或网孔的侧壁上形成绝缘层(34);
-在所述孔、沟槽或网孔中沉积与第一导电类型相反导电类型的半导体(36),该半导体通过所述绝缘层(34)与衬底(2)绝缘;
-从所述孔、沟槽或网孔的第一端去除相反导电类型的半导体(36)以及绝缘层(34);
-在所述孔、沟槽或网孔的第一端形成至少一个顶部电极(38);
-从第二主表面部分去除衬底,以露出所述孔、沟槽或网孔的第二端;和-在所述孔、沟槽或网孔与顶部电极相反的一端形成底部电极(40),用于根据顶部电极和底部电极之间的电势生成电功率。
15.一种收集热电功率的方法,通过将电子移至根据权利要求1-10中任一项所述的集成器件中的电池,以及将热能移至根据权利要求1-10中任一项所述的集成器件中的珀耳帖阵列,来收集热电功率。
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