专利汇可以提供电子束加速器及其具有导电层或涂层的陶瓷级专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本 发明 公开了一种 电子 束 加速 器及其具有导电层或涂层的陶瓷级。该陶瓷电子束加速器在 X射线 电子 电路 成像和测试应用中特别有用。这种陶瓷级设计消除了在加速器的邻接的级之间放置金属加固物的必要,从而提高了加速器的机械强度和可靠性,同时还降低了制造成本。,下面是电子束加速器及其具有导电层或涂层的陶瓷级专利的具体信息内容。
1.一种用于电子束加速器的级,所述级包括含陶瓷体,所述体包括内 部部分和外部部分,中心孔穿过所述内部部分设置并限定内表面,所述外 部部分具有外表面,所述内表面具有置于其上的导电层或涂层,所述外表 面具有置于其上的电阻层或涂层。
2.根据权利要求1所述的级,其中,所述级还包括中间部分,所述中 间部分包括置于所述内表面和所述外表面之间的中间表面。
3.根据权利要求2所述的级,其中,所述中间表面和所述中间部分中 的至少一个是电绝缘的。
4.根据权利要求2所述的级,其中,所述中间表面和所述中间部分中 的至少一个是基本非电导的。
5.根据权利要求2所述的级,其中,所述中间部分包括形成在所述内 部部分和所述外部部分之间的凹进。
6.根据权利要求1所述的级,其中,所述外表面的截面基本为圆形。
7.根据权利要求1所述的级,其中,所述内表面的截面基本为圆形。
8.根据权利要求1所述的级,其中,所述含陶瓷体包括氧化铝、铝硅 酸盐、氮化铝、氧化铍、碳化硼、硼硅玻璃、玻璃、石墨、碳化铪、铅玻 璃、可加工玻璃陶瓷、镁、镁粉、部分稳定氧化锆、莫来石、氮化物结合 碳化硅、石英玻璃、反应结合碳化硅陶瓷、硅结合亚硝酸盐、蓝宝石、硅 铝氧氮化物、硅、氮化硅、碳化硅、烧结碳化硅、碳化钛、碳化钨、碳化 钒、碳化钨、氧化钇、氧化锆、锆、碳化锆、锆强化氧化铝、所有上述材 料的各种组合物、混合物和合金中的至少一种。
9.根据权利要求1所述的级,其中,所述导电层或涂层包括铝、锑、 钡、铍、铋、镉、钙、铯、铬、钴、铜、铒、锗、金、铪、铟、铱、铁、 镧、铅、锰、镁、钼、镍、铌、锇、钯、铂、钚、镨、铼、铑、钐、硒、 硅、银、钽、锝、铥、钛、钨、铀、钒、塑料、所有上述材料的各种组合 物、混合物和合金中的至少一种。
10.根据权利要求1所述的级,其中,所述电阻层或涂层包括铝、 锑、钡、铍、铋、镉、钙、铯、铬、钴、铜、铒、锗、金、铪、铟、铱、 铁、镧、铅、锰、镁、钼、镍、铌、锇、钯、铂、钚、镨、铼、铑、钐、 硒、硅、银、镧、钽、锝、铥、钛、钨、铀、钒、塑料、用于电阻器的阻 性混合物、所有上述材料的各种组合物、混合物和合金中的至少一种。
11.根据权利要求1所述的级,其中,至少部分所述导电层或涂层是 通过钎焊、阴极电弧沉积、化学汽相沉积、覆层、电弧喷射、无电镀、电 子束汽相沉积、电解沉积、电镀、离子镀、离子注入、激光表面熔合、激 光覆层、物理汽相沉积、等离子体沉积、等离子体喷射、溅射、溅射沉 积、热喷涂、真空涂层沉积、汽相沉积、所有上述方法的各种组合或混合 中的至少一种形成的。
12.根据权利要求1所述的级,其中,至少部分所述电阻层或涂层是 通过钎焊、阴极电弧沉积、化学汽相沉积、覆层、电弧喷射、无电镀、电 子束汽相沉积、电解沉积、电镀、离子镀、离子注入、激光表面熔合、激 光覆层、物理汽相沉积、等离子体沉积、等离子体喷射、溅射、溅射沉 积、热喷涂、真空涂层沉积、汽相沉积、所有上述方法的各种组合或混合 中的至少一种形成的。
13.根据权利要求1所述的级,其中,所述级被配置为耐受从下面组 中选择的两端的电压梯度:范围在大约1keV与大约200keV之间、范围 在大约2keV与大约150keV之间、范围在大约4keV与大约100keV之 间、范围在大约10keV与大约50keV之间,以及范围在大约15keV与大 约45keV之间。
14.根据权利要求1所述的级,其中,所述级被配置为耐受从下面组 中选择的两端的电压梯度:大约10keV、大约20keV、大约30keV、大 约40keV、大约50keV、大约60keV、大约70keV、大约80keV、大约 90keV和大约100keV。
15.根据权利要求1所述的级,其中,所述级被配置为用在用于对印 刷电路板中的焊点进行成像的X射线管中。
16.用于电子束加速器的至少第一和第二级,所述第一和第二级分别 包括第一和第二含陶瓷体,所述第一和第二体分别具有第一和第二内部部 分和外部部分,第一和第二中心孔分别穿过所述第一和第二内部部分设置 并分别限定第一和第二内表面,所述第一和第二外部部分分别具有第一和 第二外表面,所述第一和第二内表面分别具有置于其上的第一和第二导电 层或涂层,所述第一和第二外表面分别具有置于其上的第一和第二电阻层 或涂层,所述第一级的体具有下端并且所述第二级的体具有上端,所述第 一级的下端通过钎焊连接和焊接连接中的至少一种连接到所述第二级的上 端。
17.根据权利要求16所述的至少第一和第二级,其中,所述钎焊或焊 接连接包括铝、铝硅、铬、钴、至少一种钴结合物、铜、至少一种填充金 属、金、铟、铱、镁、钼、镍、铌、碳化铌、非铁金属、磷、铂、银、 钽、碳化钽、钛、碳化钛、钨、碳化钨、锌、以上所有材料的各种组合 物、混合物和合金中的至少一种。
18.根据权利要求16所述的至少第一和第二级,其中,所述第一和第 二含陶瓷体中的至少一个包括氧化铝、铝硅酸盐、氮化铝、氧化铍、碳化 硼、硼硅玻璃、玻璃、石墨、碳化铪、铅玻璃、可加工玻璃陶瓷、镁、镁 粉、部分稳定氧化锆、莫来石、氮化物结合碳化硅、石英玻璃、反应结合 碳化硅陶瓷、硅结合亚硝酸盐、蓝宝石、硅铝氧氮化物、硅、氮化硅、碳 化硅、烧结碳化硅、碳化钛、碳化钨、碳化钒、碳化钨、氧化钇、氧化 锆、锆、碳化锆、锆强化氧化铝、所有上述材料的各种组合物、混合物和 合金中的至少一种。
19.根据权利要求16所述的至少第一和第二级,其中,所述第一和第 二导电层或涂层中的至少一个包括铝、锑、钡、铍、铋、镉、钙、铯、 铬、钴、铜、铒、锗、金、铪、铟、铱、铁、镧、铅、锰、镁、钼、镍、 铌、锇、钯、铂、钚、镨、铼、铑、钐、硒、硅、银、钽、锝、铥、钛、 钨、铀、钒、塑料、所有上述材料的各种组合物、混合物和合金中的至少 一种。
20.根据权利要求16所述的至少第一和第二级,其中,所述第一和第 二电阻层或涂层中的至少一个包括铝、锑、钡、铍、铋、镉、钙、铯、 铬、钴、铜、铒、锗、金、铪、铟、铱、铁、镧、铅、锰、镁、钼、镍、 铌、锇、钯、铂、钚、镨、铼、铑、钐、硒、硅、银、镧、钽、锝、铥、 钛、钨、铀、钒、塑料、用于电阻器的阻性混合物、所有上述材料的各种 组合物、混合物和合金中的至少一种。
21.根据权利要求16所述的至少第一和第二级,其中,所述第一和第 二导电层或涂层中的至少一个的至少部分是通过钎焊、阴极电弧沉积、化 学汽相沉积、覆层、电弧喷射、无电镀、电子束汽相沉积、电解沉积、电 镀、离子镀、离子注入、激光表面熔合、激光覆层、物理汽相沉积、等离 子体沉积、等离子体喷射、溅射、溅射沉积、热喷涂、真空涂层沉积、汽 相沉积、所有上述方法的各种组合或混合中的至少一种形成的。
22.根据权利要求16所述的至少第一和第二级,其中,所述第一和第 二电阻层或涂层中的至少一个的至少部分是通过钎焊、阴极电弧沉积、化 学汽相沉积、覆层、电弧喷射、无电镀、电子束汽相沉积、电解沉积、电 镀、离子镀、离子注入、激光表面熔合、激光覆层、物理汽相沉积、等离 子体沉积、等离子体喷射、溅射、溅射沉积、热喷涂、真空涂层沉积、汽 相沉积、所有上述方法的各种组合或混合中的至少一种形成的。
23.根据权利要求16所述的至少第一和第二级,其中,所述第一和第 二级被配置为用在用于对印刷电路板中的焊点进行成像的X射线管中。
24.一种X射线管,包括:
(a)电子枪组件;
(b)具有上部部分和下部部分的电子束加速器,所述电子枪组件连 接到所述上部部分,所述电子束加速器包括至少一个级,所述 至少一个级包括含陶瓷体,所述体具有内部部分和外部部分, 中心孔穿过所述内部部分设置并且限定内表面,所述外部部分 具有外表面,所述内表面具有置于其上的导电层或涂层,所述 外表面具有置于其上的电阻层或涂层;
(c)电子束漂移组件,包括上端和下端,所述上端连接到所述电子 束加速器的所述下部部分,以及
(d)连接到所述电子束漂移组件的下端的靶。
25.根据权利要求24所述的X射线管,其中,所述管包括多个级,所 述级通过至少一种钎焊或焊接连接而被钎焊或焊接到另一个级。
26.根据权利要求25所述的X射线管,其中,每个连接包括铝、铝 硅、铬、钴、至少一种钴结合物、铜、至少一种填充金属、金、铟、铱、 镁、钼、镍、铌、碳化铌、非铁金属、磷、铂、银、钽、碳化钽、钛、碳 化钛、钨、碳化钨、锌、以上所有材料的各种组合物、混合物和合金中的 至少一种。
27.根据权利要求25所述的X射线管,其中,所述管包括两个与八个 之间的一个堆叠在另一个之上的级,所述级通过钎焊或焊接连接而连接。
28.根据权利要求27所述的X射线管,其中,所述管的每个级被配置 为在大约10keV与大约100keV之间工作。
29.根据权利要求27所述的X射线管,其中,所述管的每个级被配置 为在大约20keV与大约75keV之间工作。
30.根据权利要求27所述的X射线管,其中,所述管的每个级被配置 为在大约30keV与大约50keV之间工作。
31.一种制造用于电子束加速器的级的方法,所述级包括含陶瓷体, 所述体具有内部部分和外部部分,中心孔穿过所述内部部分设置并限定内 表面,所述外部部分具有外表面,所述内表面具有置于其上的导电层或涂 层,所述外表面具有置于其上的电阻层或涂层,所述方法包括:
(a)形成所述含陶瓷体;
(b)在所述体的内表面上形成所述导电层或涂层。
32.根据权利要求31所述的方法,还包括在所述体的外表面上形成所 述电阻层或涂层。
33.根据权利要求31所述的方法,还包括在所述级中形成中间部分, 所述中间部分包括置于所述内表面和所述外表面之间的中间表面。
34.根据权利要求33所述的方法,其中所述中间表面和所述中间部分 中的至少一个是电绝缘的。
35.根据权利要求33所述的方法,其中所述中间表面和所述中间部分 中的至少一个是基本非电导的。
36.根据权利要求33所述的方法,其中所述中间部分形成步骤还包括 在所述内部部分和所述外部部分之间形成凹进。
37.根据权利要求31所述的方法,其中,所述形成含陶瓷体的步骤还 包括使用氧化铝、铝硅酸盐、氮化铝、氧化铍、碳化硼、硼硅玻璃、玻 璃、石墨、碳化铪、铅玻璃、可加工玻璃陶瓷、镁、镁粉、部分稳定氧化 锆、莫来石、氮化物结合碳化硅、石英玻璃、反应结合碳化硅陶瓷、硅结 合亚硝酸盐、蓝宝石、硅铝氧氮化物、硅、氮化硅、碳化硅、烧结碳化 硅、碳化钛、碳化钨、碳化钒、碳化钨、氧化钇、氧化锆、锆、碳化锆、 锆强化氧化铝、所有上述材料的各种组合物、混合物和合金中的至少一种 来形成所述体。
38.根据权利要求31所述的方法,其中,所述形成导电层或涂层的步 骤还包括使用铝、锑、钡、铍、铋、镉、钙、铯、铬、钴、铜、铒、锗、 金、铪、铟、铱、铁、镧、铅、锰、镁、钼、镍、铌、锇、钯、铂、钚、 镨、铼、铑、钐、硒、硅、银、钽、锝、铥、钛、钨、铀、钒、塑料、所 有上述材料的各种组合物、混合物和合金中的至少一种来形成所述导电层 或涂层。
39.根据权利要求32所述的方法,其中,所述形成电阻层或涂层的步 骤还包括使用铝、锑、钡、铍、铋、镉、钙、铯、铬、钴、铜、铒、锗、 金、铪、铟、铱、铁、镧、铅、锰、镁、钼、镍、铌、锇、钯、铂、钚、 镨、铼、铑、钐、硒、硅、银、镧、钽、锝、铥、钛、钨、铀、钒、塑 料、用于电阻器的阻性混合物、所有上述材料的各种组合物、混合物和合 金中的至少一种来形成所述电阻层或涂层。
40.根据权利要求31所述的方法,其中,所述级是第一级,所述含陶 瓷体是第一体,所述内部部分是第一内部部分,所述外部部分是第一外部 部分,所述中心孔是第一中心孔,所述内表面是第一内表面,所述外表面 是第一外表面,所述导电层或涂层是第一导电层或涂层,所述电阻层或涂 层是第一电阻层或涂层,所述方法还包括形成第二级,所述第二级包括第 二含陶瓷体,所述第二体具有第二内部部分和第二外部部分,所述第二中 心孔穿过所述第二内部部分设置并限定第二内表面,所述第二外部部分具 有第二外表面,所述第二内表面具有置于其上的第二导电层或涂层,所述 第二外表面具有置于其上的第二电阻层或涂层,所述第一级的体具有下端 并且所述第二级的体具有上端。
41.根据权利要求40所述的方法,还包括将所述第一级的下端连接到 所述第二级的上端。
42.根据权利要求41所述的方法,其中,所述连接的步骤还包括钎 焊、阴极电弧沉积、化学汽相沉积、覆层、电弧喷射、无电镀、电子束汽 相沉积、电解沉积、电镀、离子镀、离子注入、激光表面熔合、激光覆 层、物理汽相沉积、等离子体沉积、等离子体喷射、溅射、溅射沉积、热 喷涂、真空涂层沉积、汽相沉积、所有上述方法的各种组合或混合中的至 少一种。
43.一种使用X射线管的方法,所述X射线管包括电子枪组件,具有 上部部分和下部部分的电子束加速器,所述电子枪组件被连接到所述上部 部分,所述电子束加速器包括至少一个级,所述至少一个级包括含陶瓷 体,所述体具有内部部分和外部部分,中心孔穿过所述内部部分设置并且 限定内表面,所述外部部分具有外表面,所述内表面具有置于其上的导电 层或涂层,所述外表面具有置于其上的电阻层或涂层,电子束漂移组件包 括上端和下端,所述上端被连接到所述电子束加速器的下端,并且靶被连 接到所述电子束漂移组件的下端,所述方法包括:
(a)激励所述电子枪组件;
(b)将来自所述电子枪组件的电子射入所述电子束加速器;
(c)经所述电子束加速器加速电子进入所述电子束漂移组件,以及
(d)使所述电子碰撞所述靶。
44.根据权利要求43所述的方法,还包括使用从所述靶发出的X射线 对印刷电路板中的焊点进行成像。
本发明涉及电子束加速器领域,更具体地,涉及用于通过X射线成像 对印刷电路板中的焊点进行测试的装置、系统和方法。
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