专利汇可以提供壳体及其制作方法专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且一种壳体,该壳体包括基体、结合层以及色彩层,所述结合层形成于基体的表面,所述色彩层形成于结合层的表面,所述色彩层为氮 氧 铬膜(Cr-O-N),该色彩层呈现的 色度 区域于CIE LAB表色系统的L*坐标值介于67至100之间,a*坐标值介于-14至-13之间,b*坐标值介于-5至-3之间。本 发明 还提供一种上述壳体的制作方法。该壳体呈现出碧绿色的外观,丰富了 真空 镀 膜 层的 颜色 。,下面是壳体及其制作方法专利的具体信息内容。
1.一种壳体,包括基体、结合层以及色彩层,所述结合层形成于基体的表面,所述色彩层形成于结合层的表面,其特征在于:所述色彩层为氮氧铬膜(Cr-O-N),该色彩层呈现的* *
色度区域于CIE LAB表色系统的L 坐标值介于67至100之间,a 坐标值介于-14至-13*
之间,b 坐标值介于-5至-3之间。
2.如权利要求1所述的壳体,其特征在于:所述色彩层中Cr、O、N的质量百分含量分别为Cr:40%,O:45%,N:15%。
3.如权利要求1所述的壳体,其特征在于:所述色彩层中Cr、O、N的质量百分含量分别为Cr:50%,O:40%,N:10%。
4.如权利要求1所述的壳体,其特征在于:所述色彩层中Cr、O、N的质量百分含量分别为Cr:60%,O:35%,N:5%。
5.如权利要求1所述的壳体,其特征在于:所述色彩层的厚度为0.5~1.0μm。
6.如权利要求1所述的壳体,其特征在于:所述基体为金属材料、玻璃、或塑料。
7.如权利要求1所述的壳体,其特征在于:所述结合层为一铬金属膜,其厚度为0.1~
0.3μm。
8.一种壳体的制作方法,其包括如下步骤:
提供一基体;
在该基体的表面磁控溅射一结合层;
在该结合层的表面磁控溅射一色彩层,磁控溅射所述色彩层的工艺参数为:以铬为靶材,以氩气为工作气体,以氮气、氧气为反应气体,氮气流量为30~60sccm,氧气流量40~
80sccm;所述色彩层为氮氧铬膜(Cr-O-N),所述色彩层呈现的色度区域于CIE LAB表色系* * *
统的L 坐标值介于67至100之间,a 坐标值介于-14至-13之间,b 坐标值介于-5至-3之间。
9.如权利要求8所述的壳体的制作方法,其特征在于:所述结合层为铬金属膜,磁控溅射该结合层的工艺参数为:铬靶的电源功率为8~10kw,对基体施加的偏压为0~-200V,占空比为0~100%,镀膜时间为5~10分钟。
10.如权利要求8所述的壳体的制作方法,其特征在于:磁控溅射该色彩层的工艺参数为:铬靶的电源功率为8~10kw,对基体施加的偏压为0~-200V,占空比为0~100%,镀膜时间为10~60分钟。
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