一种铜材料表面的电化学抛光方法
专利汇可以提供一种铜材料表面的电化学抛光方法专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且本 发明 涉及一种 铜 材料表面的电化学 抛光 方法，包括如下步骤：配制抛光溶液；将待抛光铜材料浸入抛光溶液中，开通电源进行抛光；其中，配制抛光溶液包括：根据要配制溶液的总体积计算各溶质的用量，溶质包括 磷酸 、丙三醇、硫脲和聚 氧 乙烯烷醇酰胺；根据计算结果，称取磷酸、丙三醇导入耐 腐蚀 容器中，加 水 至达到所述总体积，搅拌溶解得到第一中间溶液；根据计算结果，称取硫脲并加入到第一中间溶液中，搅拌溶解得到第二中间溶液；根据计算结果，量取聚氧乙烯烷醇酰胺并加入到第二中间溶液中，搅拌均匀得到抛光溶液。本发明能使铜精密零件的表面粗糙度从Ra0.4μm提高至Ra0.2μm，以满足 真空 电子 器件使用要求。，下面是一种铜材料表面的电化学抛光方法专利的具体信息内容。
1.一种铜材料表面的电化学抛光方法，其特征在于，包括如下步骤：
(1)配制抛光溶液；
(2)将待抛光铜材料浸入抛光溶液中，开通电源进行抛光；
其中，步骤(1)具体包括：
(11)根据要配制溶液的总体积计算各溶质的用量，溶质包括磷酸、丙三醇、硫脲和聚氧乙烯烷醇酰胺；
(12)根据计算结果，称取磷酸、丙三醇导入耐腐蚀容器中，加水至达到所述总体积，搅拌溶解得到第一中间溶液；
(13)根据计算结果，称取硫脲并加入到所述第一中间溶液中，搅拌溶解得到第二中间溶液；
(14)根据计算结果，量取聚氧乙烯烷醇酰胺并加入到所述第二中间溶液中，搅拌均匀得到所述抛光溶液。
2.根据权利要求1所述的铜材料表面的电化学抛光方法，其特征在于，还包括如下步骤：
(3)关闭电源，取出铜材料，脱水并烘干。
3.根据权利要求1所述的铜材料表面的电化学抛光方法，其特征在于，步骤(11)具体包括：每配制总体积为1L抛光溶液，各溶质的用量分别为：
磷酸：50-60mL；
丙三醇：80-100mL；
硫脲：2-3g；
聚氧乙烯烷醇酰胺：0.5-0.8mL。
4.根据权利要求1所述的铜材料表面的电化学抛光方法，其特征在于，步骤(2)中，所开通的电源的电流密度为5-6A/dm2，频率为5000Hz，占空比为5％-15％。
5.根据权利要求1所述的铜材料表面的电化学抛光方法，其特征在于，步骤(2)中，抛光时间为15-20s。
6.根据权利要求1所述的铜材料表面的电化学抛光方法，其特征在于，步骤(2)中，抛光在室温下进行。
一种铜材料表面的电化学抛光方法
技术领域
发明内容
具体实施方式
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