专利汇可以提供磁控溅射镀膜设备专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本 发明 属于材料表面 镀 膜 技术领域,具体涉及一种 磁控溅射 镀膜设备,本发明采用隐藏式的气路设计,使惰性气体从靶材的边缘自然扩散至靶材表面,有效降低了靶材表面的气压 波动 ,保证了镀膜工艺的重复性;另外,本发明采用非平衡 磁场 和补偿式气路设计,有效解决了现行结构中的均匀气路和均匀磁场导致的镀膜厚度不均匀的问题,使 基板 各个区域的镀层厚度保持均匀。,下面是磁控溅射镀膜设备专利的具体信息内容。
1.一种磁控溅射镀膜设备,包括水平设置在底座(10)上的阴极靶材(11),所述阴极靶材(11)为长方形板状结构,阴极靶材(11)上方设有基片(12),阴极靶材(11)下方布设有磁铁(15),所述磁铁(15)在阴极靶材(11)上表面形成拱形磁场,设备还包括用于向阴极靶材(11)上表面吹送惰性气体的供气单元,其特征在于:所述供气单元包括沿阴极靶材长度方向布设的供气管路,所述供气管路(13)上沿管长方向间隔开设有多个出气孔(131),且出气孔(131)在供气管路(13)中段的布设密度小于两端的布设密度;所述磁铁(15)为多个沿阴极靶材(11)长度方向间隔布置,且磁铁在阴极靶材(11)两端的布设密度大于中段的布设密度。
2.根据权利要求1所述的磁控溅射镀膜设备,其特征在于:所述阴极靶材周边设有围板(14),所述围板(14)上端设有向内弯折的翻边(141),所述翻边(141)延伸至阴极靶材(11)表面的边缘区域上方,所述翻边(141)内侧设有阳极挡板,且阳极挡板与阴极靶材(11)上表面之间存在间隙,所述供气管路(13)位于阴极靶材(11)、围板(14)以及底座(10)三者围合而成的空腔内,惰性气体从阳极挡板与阴极靶材(11)之间的间隙扩散至阴极靶材(11)表面。
3.根据权利要求1所述的磁控溅射镀膜设备,其特征在于:所述阴极靶材(11)与底座(10)之间设有绝缘板(16)。
4.根据权利要求2所述的磁控溅射镀膜设备,其特征在于:所述供气管路(13)为两条且分别对应阴极靶材(11)的两条长边布置。
5.根据权利要求4所述的磁控溅射镀膜设备,其特征在于:同一供气管路上的各出气孔(131)朝同一方向开设即朝向围板(14)内壁开设。
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