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一种 真空 镀膜的制备方法

阅读：763发布：2020-05-13

专利汇可以提供一种真空镀膜的制备方法专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且本发明涉及材料表面处理技术领域，尤其涉及一种真空镀膜的制备方法。它包括以下步骤：a.高压离子清洗活化：工件放入真空室，抽真空，当真空室的压力为3~20Pa时，停止抽真空，启动高压变压器，当高压变压器的输出电压 2500~4000V，电流 1~6A时，空气在辉光放电的状况下被电离成等离子，工件经等离子体进行轰击清洗活化时间为1~5分钟，关闭轰击电源；b. 真空镀膜：将高压离子清洗活化后的工件，在真空室内进行真空镀膜处理，在表面制备金属镀膜。本法制备的真空镀膜，其能够破坏非极性类材料表面的组织结构，提高产品的表面能量和性能。，下面是一种真空镀膜的制备方法专利的具体信息内容。

权利要求

1.一种用于非极性材料的真空镀膜的制备方法，其特征在于：它包括以下步骤：
a.高压离子清洗活化：工件放入真空室，抽真空，当真空室的压力为10Pa时，停止抽真空，启动高压变压器，当高压变压器的输出电压3000~3500V，电流2~4A时，空气在辉光放电的状况下被电离成等离子，非极性材料的工件经等离子体进行轰击清洗活化时间为2.5分钟，关闭轰击电源；
b.真空镀膜：将高压离子清洗活化后的工件，在真空室内进行真空镀膜处理，在表面-2 -2
制备金属镀膜；所述步骤b的真空镀膜步骤为：抽真空，真空度为4×10 ~5×10 Pa时，开启真空镀膜电源，蒸发电压为0~5V，电流为0~2000A，镀膜时间为25-45秒。
2.根据权利要求1所述的一种用于非极性材料的真空镀膜的制备方法，其特征在于：
所述步骤a的高压变压器的输出电压控制为3000V，电流控制为3A。

说明书全文

一种真空 镀膜的制备方法

技术领域

[0001] 本发明涉及材料表面处理技术领域，尤其涉及一种真空镀膜的制备方法。

背景技术

[0002] 真空镀膜能在金属、半导体、绝缘体、塑料、纸张、织物等表面上沉积金属、半导体、绝缘体、不同成分比的合金、化合物及部分有机聚合物等得薄膜，其应用范围极广。

[0003] 目前，真空镀膜要获得较好的附着力，在镀膜前经常需要进行底涂。底涂施工时无论是采用喷涂还是采用浸涂，都需要镀膜油。而镀膜油的价格较昂贵，大大增加生产成本。特别是非极性类材料的表面活性较差，表面附着力极低，需要涂镀膜油来增大材料的表面活性。

发明内容

[0004] 本发明提供一种真空镀膜的制备方法，其能够有效地提高非极性类材料的表面能量和性能。通过这种工艺，能够破坏非极性类材料表面的非极性组织结构，形成新型的带极性的表面组织，大大地提高材料表面的活性和附着力，提高产品的性能。

[0005] 一种真空镀膜的制备方法，它包括以下步骤：

[0006] a.高压离子清洗活化：工件放入真空室，抽真空，当真空室的压力为3~20Pa时，停止抽真空，启动高压变压器，当高压变压器的输出电压2500~4000V，电流1~6A时，空气在辉光放电的状况下被电离成等离子，工件经等离子体进行轰击清洗活化时间为1~5分钟，关闭轰击电源；

[0007] b. 真空镀膜：将高压离子清洗活化后的工件，在真空室内进行真空镀膜处理，在表面制备金属镀膜。

[0008] 其中，步骤b的真空镀膜步骤为：抽真空，真空度为4×10-2~5×10-2Pa时，开启真空镀膜电源，蒸发电压为0~5V，电流为0~2000A，镀膜时间为25-45秒。

[0009] 其中，步骤a的真空室的压力控制为5~15Pa时，停止抽真空。

[0010] 其中，步骤a的真空室的压力控制为10Pa时，停止抽真空。

[0011] 其中，步骤a的高压变压器的输出电压控制为3000~3500V，电流控制为2~4A。

[0012] 其中，步骤a的高压变压器的输出电压控制为3000V，电流控制为3A。

[0013] 其中，步骤a的轰击清洗活化时间为2~4分钟。

[0014] 其中，步骤a的轰击清洗活化时间为2.5分钟。

[0015] 本发明的有益效果是：它包括以下步骤：a.高压离子清洗活化：工件放入真空室，抽真空，当真空室的压力为3~20Pa时，停止抽真空，启动高压变压器，当高压变压器的输出电压2500~4000V，电流1~6A时，空气在辉光放电的状况下被电离成等离子，工件经等离子体进行轰击清洗活化时间为1~5分钟，关闭轰击电源；b. 真空镀膜：将高压离子清洗活化后的工件，在真空室内进行真空镀膜处理，在表面制备金属镀膜。本法制备的真空镀膜，其能够破坏非极性类材料表面的组织结构，形成新型的带极性的表面组织，大大地提高材料表面的活性和附着力，提高产品的表面能量和性能。而且，不需要对工件进行表面预处理和底涂，减少工作时间，不需要使用涂镀膜油，大大降低了生产成本。

具体实施方式

[0016] 下面结合实施例来对本实发明进行进一步的说明。

[0017] 实施例1。

[0018] 一种真空镀膜的制备方法，包括如下步骤：

[0019] a.高压离子清洗活化：工件放入真空室，抽真空，当真空室的压力为3Pa时，停止抽真空，启动高压变压器，当高压变压器的输出电压2500V，电流1A时，空气在辉光放电的状况下被电离成等离子，工件经等离子体进行轰击清洗活化时间为1分钟，关闭轰击电源；

[0020] b. 真空镀膜：抽真空，真空度为4×10-2Pa时，开启真空镀膜电源，蒸发电压为0.5V，电流为10A，镀膜时间为25秒。

[0021] 实施例2。

[0022] 一种真空镀膜的制备方法，包括如下步骤：

[0023] a.高压离子清洗活化：工件放入真空室，抽真空，当真空室的压力为20Pa时，停止抽真空，启动高压变压器，当高压变压器的输出电压4000V，电流6A时，空气在辉光放电的状况下被电离成等离子，工件经等离子体进行轰击清洗活化时间为5分钟，关闭轰击电源；

[0024] b. 真空镀膜：抽真空，真空度为5×10-2Pa时，开启真空镀膜电源，蒸发电压为5V，电流为2000A，镀膜时间为45秒。

[0025] 实施例3。

[0026] 一种真空镀膜的制备方法，包括如下步骤：

[0027] a.高压离子清洗活化：工件放入真空室，抽真空，当真空室的压力为10Pa时，停止抽真空，启动高压变压器，当高压变压器的输出电压3000V，电流3A时，空气在辉光放电的状况下被电离成等离子，工件经等离子体进行轰击清洗活化时间为2.5分钟，关闭轰击电源；

[0028] b. 真空镀膜：抽真空，真空度为4.5×10-2Pa时，开启真空镀膜电源，蒸发电压为2V，电流为1000A，镀膜时间为35秒。

[0029] 实施例4。

[0030] 一种真空镀膜的制备方法，包括如下步骤：

[0031] a.高压离子清洗活化：工件放入真空室，抽真空，当真空室的压力为5Pa时，停止抽真空，启动高压变压器，当高压变压器的输出电压3000V，电流2A时，空气在辉光放电的状况下被电离成等离子，工件经等离子体进行轰击清洗活化时间为2分钟，关闭轰击电源；

[0032] b. 真空镀膜：抽真空，真空度为4×10-2Pa时，开启真空镀膜电源，蒸发电压为3V，电流为1500A，镀膜时间为30秒。

[0033] 实施例5。

[0034] 一种真空镀膜的制备方法，包括如下步骤：

[0035] a.高压离子清洗活化：工件放入真空室，抽真空，当真空室的压力为15Pa时，停止抽真空，启动高压变压器，当高压变压器的输出电压3500V，电流4A时，空气在辉光放电的状况下被电离成等离子，工件经等离子体进行轰击清洗活化时间为4分钟，关闭轰击电源；

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