镜片镀膜治具
专利汇可以提供镜片镀膜治具专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且一种镜片 镀 膜 治具，其用于夹持镀膜过程中的镜片，该镜片具有一个中心光学部以及一个围绕该中心光学部的承载部，该承载部上具有多个沿圆周方向分布的缺口，该治具包括一个基体以及一个与该基体相配合的盖体，该基体具有多个第一通孔，该盖体具有多个与该第一通孔相对应的第二通孔。每个第一通孔与每个第二通孔的内壁分别具有多个朝其内径方向凸出的且沿圆周方向分布的第一凸起与第二凸起，该第一凸起的高度以及该第二凸起的高度分别小于或等于该多个缺口的高度，该基体的多个第一凸起与该盖体的多个第二凸起分别与该镜片的多个缺口相配合用以夹持上述镜片。，下面是镜片镀膜治具专利的具体信息内容。
1.一种镜片镀膜治具，其用于夹持镀膜过程中的镜片，该镜片具有一个中心光学部以及一个围绕该中心光学部的承载部，该承载部上具有多个沿圆周方向分布的缺口，该治具包括一个基体以及一个与该基体相配合的盖体，该基体具有多个第一通孔，该盖体具有多个与该第一通孔相对应的第二通孔，其特征在于： 每个第一通孔与每个第二通孔的内壁分别具有多个朝其内径方向凸出的且沿圆周方向分布的第一凸起与第二凸起，该第一凸起的高度以及该第二凸起的高度分别小于或等于该多个缺口的高度，该基体的多个第一凸起与该盖体的多个第二凸起分别与该镜片的多个缺口相配合用以夹持上述镜片。
2.如权利要求l所述的镜片镀膜治具，其特征在于，该多个第一通孔 与该多个第二通孔阵列排布。
3.如权利要求l所述的镜片镀膜治具，其特征在于，该基体具有一个第一表面， 一个与该第一表面相对的第二表面，该多个第一凸起的远离该基体第一表面的表 面与该基体的第二表面在同一平面上。
4.如权利要求l所述的镜片镀膜治具，其特征在于，该盖体具有一个 与该基体相配合的第三表面， 一个与该第三表面相对的第四表面，该多个第二凸起的远离该 盖体的第三表面的表面与该盖体的第四表面在同一平面上。
5.如权利要求l所述的镜片镀膜治具，其特征在于，该多个第一凸起 沿该第一通孔的圆周方向对称分布。
6 .如权利要求l所述的镜片镀膜治具，其特征在于，该多个第二凸起 沿该第二通孔的圆周方向对称分布。
镜片镀膜治具
技术领域
随着光学产品的发展，光学镜片的应用范围越来越广。相应地，业界采用各种方法来制 造光学镜片以适应市场对不同规格光学镜片的需求（请参阅"Fabrication of Diffractive Optical Lens for Beam splitting Using LIGA Process" ， Jauh Jung Yang ;Mechatronics and Automation, Proceedings of the 2006 IEEE International Conference on， pp. 1242-1247， 2006.06)。同时，为降低成本及提高效率，进行批量生 产以满足对光学镜片的需求。通常来说，制造出的光学镜片需经过后续处理以获得适于应用 的良好性能。
镀膜工序为后续处理中的重要步骤之一。镀膜是指以物理或化学方法在光学元件表面镀 上单层或多层薄膜，利用入射、反射及透射光线在薄膜界面产生的干涉作用实现聚焦、准直 、滤光、反射及折射等效果。光学元件的镀膜制程为：首先，将光学元件安装于镀膜治具上 ，镀膜治具设置于一容器中；其次，密闭容器，对容器抽真空；然后，以蒸镀或溅镀等方法 在光学元件需要镀膜的部位进行镀膜；最后，将经过镀膜的光学元件从镀膜治具上拆卸下来 。由于现有的镜片尺寸越来越小，在镀膜过程中，夹持镜片的治具将会对镜片产生遮蔽效应 ，导致镜片边缘出现反射或异色等现象，从而影响镜片镀膜的品质
发明内容
一种镜片镀膜治具，其用于夹持镀膜过程中的镜片，该镜片具有一个中心光学部以及一 个围绕该中心光学部的承载部，该承载部上具有多个沿圆周方向分布的缺口，该治具包括一 个基体以及一个与该基体相配合的盖体，该基体具有多个第一通孔，该盖体具有多个与该第 一通孔相对应的第二通孔。每个第一通孔与每个第二通孔的内壁分别具有多个朝其内径方向 凸出的且沿圆周方向分布的第一凸起与第二凸起，该第一凸起的高度以及该第二凸起的高度 分别小于或等于该多个缺口的高度，该基体的多个第一凸起与该盖体的多个第二凸起分别与 该镜片的多个缺口相配合用以夹持上述镜片。
与现有技术相比，所述治具的基体与盖体上均有多个相配合的第一通孔与第二通孔，且每个第一通孔与第二通孔的内壁分别具有多个朝其内径方向凸出的第一凸起与第二凸起，该 多个第一凸起与该多个第二凸起相配合以夹持具有缺口的镜片，且大于等于该第一凸起的高 度以及该第二凸起的高度分别小于或等于该多个缺口的高度，因此，所述镜片的中心光学部 不会被治具所遮蔽，从而有利于镀膜的顺利进行。 附图说明
图l是本发明实施例提供的镜片镀膜治具的结构分解示意图。 图2是图1中的镜片镀膜治具所承载的镜片的结构示意图。 图3是图1中的镜片镀膜治具的使用状态剖面示意图。 具体实施方式
下面将结合附图对本发明实施方式作进一步的详细说明。
请参见图l，本发明实施例提供的镜片镀膜治具100，其包括一个基体ll、 一个与该基体 11相配合的盖体12。
该基体11具有一个第一表面1101， 一个与该第一表面1101相对的第二表面1102，以及多 个贯穿该第一表面1101与该第二表面1102的第一通孔111。每个第一通孔111的内壁1110具有 多个朝其内径方向凸出的第一凸起112。在本实施例中，该多个第一凸起112沿该第一通孔 lll的圆周方向对称分布，且该多个第一凸起112的远离该基体11的第一表面1101的表面 1121与该基体11的第二表面1102相平齐，即该多个第一凸起11的表面1121与该第基体11的第 二表面1102在同一平面上。
该盖体12具有一个与该基体11的第一表面1101相配合的第三表面1201， 一个与该第三表 面1201相对的第四表面1202，以及多个贯穿该第三表面1201与该第四表面1202的第二通孔 121，该多个第二通孔121的开口位置与该第一通孔111的开口位置分别相对应。每个第二通 孔121的内壁1210具有多个朝其内径方向凸出的第二凸起122。在本实施例中，该多个第二凸 起122沿该第二通孔121的圆周方向对称分布，且该多个第二凸起122的远离该盖体12的第三 表面1201的表面1221与该盖体12的第四表面1202相平齐，即该多个第二凸起122的表面1221 与该盖体12的第四表面1202在同一平面上。
请参见图2，本发明实施例提供的镜片镀膜治具100所承载的镜片20的结构示意图。该镜 片20包括一个中心光学部201与一个围绕该中心光学部201的承载部202。
该承载部202包括一个第一表面2021以及一个与该第一表面2021相对的第二表面2022， 在该承载部202的第一表面2021与该第二表面2022上的远离该中心光学部201的边缘处分别形 成多个向该镜片20内延伸的缺口203，在本实施例中，该多个缺口203沿该镜片20的圆周方向对称分布，且形成在该承载部202的第一表面2021的多个缺口203与形成在该第二表面2022上 的多个缺口203分别相对设置。
请参见图3，本发明实施例提供的镜片镀膜治具100的使用状态示意图。该基体ll的多个 第一凸起112与该盖体12的多个第二凸起122分别与该镜片20的多个缺口203相配合用以夹持 上述镜片20。且该第一凸起112的高度H2以及该第二凸起122的高度H3分别等于该多个缺口 203的高度H1，因此，该镜片20的承载部202的第一表面2021与该盖体12的第四表面1202在同 一个平面上，该镜片20的承载部202的第二表面2022与该基体11的第二表面1102在同一个平 面上，从而使得所述镜片20的中心光学部201不会被治具所遮蔽，从而有利于镀膜的顺利进 行。
可以理解的是，在本实施例中，该多个第一凸起112、该多个第二凸起122以及该多个缺 口20也可以沿圆周方向不对称分布。该第一凸起112的高度H2以及该第二凸起122的高度H3也 可以分别小于该多个缺口203的高度H1。因此，在使用镜片镀膜治具100时，该镜片20的承载 部202的第一表面2021高出该盖体12的第四表面1202，该镜片20的承载部202的第二表面 2022高出该基体11的第二表面1102，从而使该镜片20的中心光学部201不会被镀膜治具100所 遮蔽。
可以理解的是，本领域技术人员还可于本发明精神内做其它变化用于本发明的设计，例 如改变该多个第一凸起112、该多个第二凸起122以及该多个缺口203的形状、数量、分布情 况以用于上述发明，只要其不偏离本发明的技术效果均可，这些依据本发明精神所做的变化 ，都应包含在本发明所要求保护的范围之内。
| 标题 | 发布/更新时间 | 阅读量 |
|---|---|---|
| 镀膜小车 | 2020-05-11 | 71 |
| 镀膜玻璃用磁控镀膜真空腔室 | 2020-05-11 | 268 |
| 低温真空镀膜装置 | 2020-05-12 | 856 |
| 一种多功能PVD镀膜机 | 2020-05-12 | 766 |
| 一种间色镀膜的方法 | 2020-05-12 | 887 |
| 一种磁控溅射镀膜系统 | 2020-05-12 | 929 |
| 双开式感应加热镀膜机 | 2020-05-12 | 458 |
| 镜片镀膜治具 | 2020-05-11 | 606 |
| 环保金镀膜 | 2020-05-13 | 80 |
| 镀膜机支架 | 2020-05-13 | 797 |
高效检索全球专利专利汇是专利免费检索,专利查询,专利分析-国家发明专利查询检索分析平台，是提供专利分析，专利查询，专利检索等数据服务功能的知识产权数据服务商。
我们的产品包含105个国家的1.26亿组数据，免费查、免费专利分析。
专利汇分析报告产品可以对行业情报数据进行梳理分析，涉及维度包括行业专利基本状况分析、地域分析、技术分析、发明人分析、申请人分析、专利权人分析、失效分析、核心专利分析、法律分析、研发重点分析、企业专利处境分析、技术处境分析、专利寿命分析、企业定位分析、引证分析等超过60个分析角度，系统通过AI智能系统对图表进行解读，只需1分钟，一键生成行业专利分析报告。
