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一种锌金属抛光

阅读:1024发布:2020-05-20

专利汇可以提供一种锌金属抛光专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本 发明 公开了一种 镀 锌 金属 抛光 剂 ,以 质量 份计,包括如下原料:甘油单硬酯酸酯8-15份、羟基乙叉二膦酸4-9份、单 乙醇 胺6-10份、丁醇6-12份、 琥珀酸 钠12-18份、 水 玻璃3-6份、去离子水120-150份。所述的镀锌金属抛光剂的使用方法为:1)将甘油单硬酯酸酯、羟基乙叉二膦酸、单乙醇胺、丁醇、琥珀酸钠、水玻璃依次加入去离子水中,加热, 温度 为50-60℃,搅拌均匀;2)将待处理的镀锌金属件表面进行 砂纸 磨平和 喷砂 处理;3)将步骤1)处理的镀锌金属件放入50-60℃的抛光剂,放入时间为10-20min;4)将镀锌金属件取出,降温清洗后即可。,下面是一种锌金属抛光专利的具体信息内容。

1.一种锌金属抛光剂,其特征在于,以质量份计,包括如下原料:甘油单硬酯酸酯8-
15份、羟基乙叉二膦酸4-9份、单乙醇胺6-10份、丁醇6-12份、琥珀酸钠12-18份、玻璃3-6份、去离子水120-150份。
2.根据权利要求1所述的镀锌金属抛光剂的使用方法,其特征在于:
1)将甘油单硬酯酸酯、羟基乙叉二膦酸、单乙醇胺、丁醇、琥珀酸钠、水玻璃依次加入去离子水中,加热,温度为50-60℃,搅拌均匀;
2)将待处理的镀锌金属件表面进行砂纸磨平和喷砂处理;
3)将步骤1)处理的镀锌金属件放入50-60℃的抛光剂,放入时间为10-20min;
4)将镀锌金属件取出,降温清洗后即可。

说明书全文

一种锌金属抛光

技术领域

[0001] 本发明涉及金属表面处理技术领域,具体涉及一种镀锌金属抛光剂及其使用方法。

背景技术

[0002] 金属表面抛光因能降低金属制品表面粗糙度,具有增加金属制品光泽度和消除锈迹等优点,但现有用于镀锌金属件的抛光剂产品存在抗腐蚀性能差,稳定性差,处理时间较长等问题。

发明内容

[0003] 本发明的目的是为了解决现有技术的不足,提供一种镀锌金属抛光剂及其使用方法,制得的抛光剂尤其适用于镀锌件,抗抗腐蚀性能强,稳定性好。
[0004] 本发明采用如下技术方案:一种镀锌金属抛光剂,以质量份计,包括如下原料:甘油单硬酯酸酯8-15份、羟基乙叉二膦酸4-9份、单乙醇胺6-10份、丁醇6-12份、琥珀酸钠12-18份、玻璃3-6份、去离子水
120-150份。
[0005] 本发明还提供一种镀锌金属抛光剂的使用方法,具体步骤为:1)将甘油单硬酯酸酯、羟基乙叉二膦酸、单乙醇胺、丁醇、琥珀酸钠、水玻璃依次加入去离子水中,加热,温度为50-60℃,搅拌均匀;
2)将待处理的镀锌金属件表面进行砂纸磨平和喷砂处理;
3)将步骤1)处理的镀锌金属件放入50-60℃的抛光剂,放入时间为10-20min;
4)将镀锌金属件取出,降温清洗后即可。
[0006] 本发明的有益效果为:本发明抛光剂不仅能够有效的去除镀锌金属表面的油污和锈斑,使其表面光泽明亮,而且本发明组分中的甘油单硬酯酸酯、羟基乙叉二膦酸有效提高镀锌金属件的抗腐蚀性能。

具体实施方式

[0007]下面结合实施例对本发明作进一步的详细描述。
[0008] 实施例1一种镀锌金属抛光剂,以质量份计,包括如下原料:甘油单硬酯酸酯12份、羟基乙叉二膦酸7份、单乙醇胺9份、丁醇10份、琥珀酸钠16份、水玻璃5份、去离子水130份。
[0009] 所述镀锌金属抛光剂的使用方法,具体步骤为:1)将甘油单硬酯酸酯、羟基乙叉二膦酸、单乙醇胺、丁醇、琥珀酸钠、水玻璃依次加入去离子水中,加热,温度为50-60℃,搅拌均匀;
2)将待处理的镀锌金属件表面进行砂纸磨平和喷砂处理;
3)将步骤1)处理的镀锌金属件放入50-55℃的抛光剂,放入时间为18min;
4)将镀锌金属件取出,降温清洗后即可。
[0010] 本发明油污去除率为99.7%,锈斑去除率为99.2%,表面光泽度优异,稳定性优异。
[0011] 抗腐蚀性能测试中采用静态不接触加速试验,分别将对比例和实施例1成品对25mm×25mm×3mm的镀锌钢片抛光后,将试片按照GB/T4879-1999的规定置于装置中,电解质溶液分别为HCO3-1000mg/L、SO4-22500mg/L、Cl-1500 mg/L,放入大烧杯中,将电解质溶液保持为40℃。
[0012] 实施例1中出锈时间为124h.对比例1
不加入本发明金属抛光剂的空白组,其他同实施例1.
对比例1中出锈时间为3h.
对比例2
一种镀锌金属抛光剂,以质量份计,原料中不含甘油单硬酯酸酯和羟基乙叉二膦酸,其他同实施例1.
对比例2中出锈时间为38h.
上述实施方案仅用以说明本发明的技术方案而非对本发明的构思和保护范围进行限定,本发明的普通技术人员在本发明的精神内对本发明的技术方案进行修改或者等同替换,不脱离技术方案的宗旨和范围,均应涵盖在本发明的权利要求范围中。
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