一种用于CMP设备的抛光垫活化器施压机构及其运行方法
专利汇可以提供一种用于CMP设备的抛光垫活化器施压机构及其运行方法专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且一种用于CMP设备的 抛光 垫 活化器施压机构，包括 轴承 组件、动 力 臂组件、传动组件和气路组件；轴承组件中的两个球轴承端面之间套装有轴承隔套； 气缸 缸体的下端面的轴承内端盖与 活塞 轴之间设密封防损套；转动轴的 法兰 盘与气缸缸体的上端面的结合端面之间设 密封圈 进行密封；活塞轴的内腔体内有与转动轴导向键配合的导向毂孔，外端面上嵌设有O型密封圈和开口磁环，下端面上固连有 水 平设置的 砂轮 盘，轴承座上固连有压力 传感器 。本 发明 转动轴、气缸缸体和活塞轴配合密封圈、O型密封圈形成密闭腔体，替代了传统的气囊腔体，节约资源，降低成本，损耗小，寿命长，可靠性好， 精度 高，保证压力可控，提高 晶圆 的良品率。，下面是一种用于CMP设备的抛光垫活化器施压机构及其运行方法专利的具体信息内容。
1.一种用于CMP设备的抛光垫活化器施压机构，其特征在于：
包括轴承组件、动力臂组件、传动组件和气路组件；
所述轴承组件包括气缸缸体（12）、活塞轴（24）、转动轴（19）和套设在气缸缸体外、中间带圆柱腔体的轴承座（10）；所述轴承座（10）圆柱腔体的内壁面与气缸缸体（12）的外壁面之间套装有用于实现砂轮盘（18）旋转动作的一对球轴承（13），两个球轴承（13）上下并行设置，在两个球轴承（13）靠近的端面之间套装有轴承隔套；所述气缸缸体（12）的下端面上固连有轴承内端盖（16），所述轴承内端盖（16）与活塞轴（24）之间的环形间隙内设有密封防损套（27）；所述轴承座（10）的下端面上固连有轴承外端盖（17）；所述转动轴（19）设于活塞轴（24）的内腔腔体内，为顶部带有进气通孔的法兰轴，其法兰盘与气缸缸体（12）的上端面固定，结合端面之间设密封圈（20）进行密封，中间的轴体上固定有用于实现活塞轴（24）上下往复运动的导向键（25）；所述活塞轴（24）的内腔体内有与导向键（25）配合的导向毂孔，外端面上嵌设有O型密封圈（23）和开口磁环（22），下端面上固连有水平设置的砂轮盘（18）；所述转动轴（19）、气缸缸体（12）和活塞轴（24）配合密封圈（20）、O型密封圈（23）形成密闭腔体；所述轴承座（10）上固连有压力传感器（11），压力传感器（11）连接数据处理设备；
所述动力臂组件包括基座（1）和旋转座（2）；所述基座（1）为中空腔体，内设动力供给装置；所述旋转座（2）设于基座（1）之上，与动力供给装置的输出端固连；
所述传动组件包括摆臂（3）、主动带轮（4）、从动带轮（9）和同步带（6），所述摆臂（3）设于旋转座（2）之上，其一端固连在底部的旋转座（2）上，另一端与轴承座（10）固连，间接地带动轴承座（10）实现摆动功能；所述主动带轮（4）设在靠近旋转座（2）一端的摆臂（3）之上，与动力供给装置的输出端固连；所述从动带轮（9）固连在转动轴（19）的顶端；所述主动带轮（4）和从动带轮（9）之间通过同步带（6）实现传动；
所述气路组件包括气管（7），所述气管（7）的一端通过气管接头一（5）与气源控制回路相连，另一端通过气管接头二（8）与转动轴（19）的顶部的进气通孔连通形成气路通道，所述气管接头二（8）旋紧在转动轴（19）的顶部法兰端面的螺纹孔内，从而间接地带动砂轮盘（18）实现转动功能。
2.根据权利要求1所述的一种用于CMP设备的抛光垫活化器施压机构，其特征在于：所述转动轴（19）轴体的轴向和径向分别带有通气孔。
3.根据权利要求1所述的一种用于CMP设备的抛光垫化器施压机构，其特征在于：所述气缸缸体（12）为抗磁性干扰材料的缸体。
4.根据权利要求1所述的一种用于CMP设备的抛光垫活化器施压机构，其特征在于：所述活塞轴（24）为抗磁性干扰材料的活塞轴，且活塞轴（24）的内腔在底部封闭形成盲孔。
5.根据权利要求1所述的一种用于CMP设备的抛光垫活化器施压机构，其特征在于：所述轴承隔套包括轴承内隔套（14）和轴承外隔套（15），所述轴承内隔套（14）沿球轴承（13）的内边沿设置，所述轴承外隔套（15）沿球轴承（13）的外边沿设置。
6.根据权利要求1所述的一种用于CMP设备的抛光垫活化器施压机构，其特征在于：所述转动轴（19）的中间部分设有导向键槽，两个导向键（25）用螺钉（26）固连在转动轴（19）的导向键槽内。
7.根据权利要求1所述的一种用于CMP设备的抛光垫活化器施压机构，其特征在于：所述导向键（25）的个数为两个。
8.根据权利要求1所述的一种用于CMP设备的抛光垫活化器施压机构，其特征在于：所述活塞轴（24）的外端面上设有密封圈定位槽和磁环定位沟槽，分别用于嵌设O型密封圈（23）和插装开口磁环（22）。
9.根据权利要求1所述的一种用于CMP设备的抛光垫活化器施压机构，其特征在于：所述活塞轴（24）的下端面设有用于安装砂轮盘（18）的定位凸台。
10.根据权利要求1-9任意一项所述的一种用于CMP设备的抛光垫活化器施压机构的运行方法，其特征在于：
基座（1）内的动力供给装置启动后，相应的动力装置驱动摆臂（3）以一定的速度在持续输送研磨抛光液的抛光垫工作区域摆动，另一动力装置带动主动带轮（4）旋转，将力矩传递给转动轴（19）上的从动带轮（9），借助传动轴（19）实现固连在活塞轴（24）底部端面的砂轮盘（18）相对于抛光垫作同向连续旋转运动；
同时，外部气路控制系统通过气管（7）、气管接头一（5）、气管接头二（8）和转动轴（19）的进气通孔将气源充满在由转动轴（19）、密封圈（20）、气缸缸体（12）、O型密封圈（23）和活塞轴（24）组成的密闭腔体内，当腔体内气体压力逐渐升高，密闭腔体重心将沿转动轴（19）轴线方向向下膨胀，从而驱动活塞轴（24）以导向键（25）侧面为导向工作面向下运动，产生的下压力直接作用在抛光垫的工作区域；
整个过程中，通过压力传感器（11）在线监测压力值，并对反馈结果进行修正，控制外部气路控制系统调整气源的驱动力；当淀积在抛光垫蜂窝孔中研磨液量少时，给予小的下压力，当淀积在抛光垫蜂窝孔中研磨液量大时，给予大的下压力。
一种用于CMP设备的抛光垫活化器施压机构及其运行方法
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