基于电子束蒸发设备的自动换靶装置
专利汇可以提供基于电子束蒸发设备的自动换靶装置专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且本 发明 公开了一种基于 电子 束 蒸发 设备的自动换靶装置，包括升降机构和位于 真空 镀 膜 腔内的靶容器，还包括备用靶材腔和控制单元，备用靶材腔设置在 真空镀膜 腔外且位于所述靶容器的下方，备用靶材腔与所述真空镀膜腔相连接，且中间设有 阀 门 以隔离或连通；升降机构贯穿备用靶材腔、真空镀膜腔与靶容器的底部相连接；升降机构用于在进行蒸镀工艺时将靶材实时根据靶材的消耗量向上移动靶材和当消耗完一个靶材后将备用靶材腔中的靶材移动至真空镀膜腔内；备用靶材腔设有腔门，且备用靶材腔连接有真空 泵 和气阀；控制单元包括升降控制单元和真空控制单元；升降控制单元与升降机构相连接；真空控制单元与 真空泵 、机械泵和气阀相连接。，下面是基于电子束蒸发设备的自动换靶装置专利的具体信息内容。
1.一种基于电子束蒸发设备的自动换靶装置，包括升降机构和位于真空镀膜腔内的靶容器，其特征在于，还包括备用靶材腔和控制单元，所述备用靶材腔设置在所述真空镀膜腔外且位于所述靶容器的下方，所述备用靶材腔与所述真空镀膜腔相连接，且中间设有阀门以隔离或连通；所述升降机构贯穿所述备用靶材腔、真空镀膜腔与所述靶容器的底部相连接；所述升降机构用于在进行蒸镀工艺时将靶材实时根据靶材的消耗量向上移动和当消耗完一个靶材后将备用靶材腔中的靶材移动至真空镀膜腔内；所述备用靶材腔设有腔门，且所述备用靶材腔连接有真空泵和气阀；所述控制单元包括升降控制单元和真空控制单元；
所述升降控制单元与所述升降机构相连接；所述真空控制单元与真空泵、机械泵和气阀相连接。
2.根据权利要求1所述的基于电子束蒸发设备的自动换靶装置，其特征在于，所述升降机构包括上推机构和推进机构，所述上推机构包括第一伺服电机、上推平台和第一感应器；
所述第一伺服电机通过第一丝杆与所述上推平台相连接，所述第一感应器设置在所述备用靶材腔内用于感应所述上推平台上是否的靶材；所述推进机构包括第二伺服电机、推进平台和第二感应器；所述第二伺服电机通过第二丝杆与所述推进平台相连接，所述第二感应器设置在所述靶容器内用于检测靶容器内的靶材。
3.根据权利要求2所述的基于电子束蒸发设备的自动换靶装置，其特征在于，所述靶容器为圆柱形空腔，所述靶容器的直径大于靶材的直径且所述靶容器的内壁与靶材的外壁的直线距离不超过0.5cm；所述靶容器的下方设置有可旋转的靶材盘，所述靶材盘内设有第一靶材腔和第二靶材腔，所述第一靶材腔和第二靶材腔均为圆柱形空腔，用于容纳备用靶材；
所述靶材盘的底部通过第三丝杆贯穿真空镀膜腔在真空镀膜腔外连接有第三伺服电机用于旋转靶材盘。
4.根据权利要求3所述的基于电子束蒸发设备的自动换靶装置，其特征在于，所述备用靶材腔通过连接管腔与所述真空镀膜腔相连接且伸入真空镀膜腔内与靶材盘相连接，所述阀门设置在所述连接管腔与所述靶材盘的连接处；所述连接管腔的直径与所述靶容器、第一靶材腔和第二靶材腔的直径相同，所述连接管腔与靶容器的位置是错开设置的。
5.根据权利要求3所述的基于电子束蒸发设备的自动换靶装置，其特征在于，所述靶材盘经过旋转可以使靶材盘上的第一靶材腔和第二靶材腔分别与所述靶容器的圆柱形空腔相重合。
6.根据权利要求4或5所述的基于电子束蒸发设备的自动换靶装置，其特征在于，所述靶材盘的第一靶材腔和第二靶材腔内均设有第三感应器和第四感应器。
7.根据权利要求6所述的基于电子束蒸发设备的自动换靶装置，其特征在于，所述靶容器的下方与所述靶材盘相交接的地方设有卡门，所述卡门的中心设有圆孔。
8.根据权利要求7所述的基于电子束蒸发设备的自动换靶装置，其特征在于，所述靶材盘上的第一靶材腔和第二靶材腔的底部均设有托台，所述托台的中心有圆孔以供所述推进平台穿越。
9.根据权利要求7所述的基于电子束蒸发设备的自动换靶装置，其特征在于，所述上推平台和推进平台的直径均比靶材的直径小0.8cm；所述备用靶材腔的高度比靶材的高度高不超过1.5cm。
10.根据权利要求8所述的基于电子束蒸发设备的自动换靶装置，其特征在于，所述托台和卡门为横向伸缩式。
基于电子束蒸发设备的自动换靶装置
技术领域
背景技术
发明内容
具体实施方式
201，所述靶材盘201内设有第一靶材腔2011和第二靶材腔2012，所述第一靶材腔2011和第二靶材腔2012均圆柱形空腔，用于容纳备用靶材；所述靶材盘201的底部通过第三丝杆801贯穿真空镀膜腔在真空镀膜腔外连接有第三伺服电机8用于旋转靶材盘201；所述备用靶材腔3通过连接管腔302与所述真空镀膜腔1相连接且伸入真空镀膜腔1内与靶材盘201相连接，所述阀门设置在所述连接管腔302与所述靶材盘201的连接处；所述连接管腔302的直径与所述靶容器2、第一靶材腔2011和第二靶材腔2012的直径相同，所述连接管腔302与靶容器2的位置是错开设置的；所述靶材盘201经过旋转可以使靶材盘201上的第一靶材腔2011和第二靶材腔2012分别与所述靶容器2的圆柱形空腔相重合；所述靶材盘201的第一靶材腔
2011和第二靶材腔2012内均设有第三感应器和第四感应器；所述靶容器2的下方与所述靶材盘201相交接的地方设有卡门，所述卡门的中心设有圆孔，以供推进平台7上下移动时穿越，当靶容器2相对接的靶材盘201内第一靶材腔2011或第二靶材腔2012内的靶材没有了时卡门关闭，此时由卡门托住靶容器2内的靶材；所述靶材盘201上的第一靶材腔2011和第二靶材腔2012的底部均设有托台，所述托台的中心有圆孔以供所述推进平台7和上推平台5穿越；所述上推平台5和推进平台7的直径均比靶材的直径小0.8cm；所述备用靶材腔3的高度比靶材的高度高不超过1.5cm；所述托台和卡门为横向伸缩式。
2内且与靶容器2内的靶材紧密结合，推进机构则停止；上推机构启动，真空镀膜腔1与备用靶材腔室3之间的阀门打开，第一伺服电机4带动上推平台5上移，则将上推平台5上的备用靶材上移至靶材盘中没有靶材的第一靶材腔2011内；靶材盘201的托台则关闭托住靶材，第一伺服电机4则带动上推平台5向下移动至备用靶材腔3内的原始位置，真空镀膜腔1与备用靶材腔3室之间的阀门关闭；此时备用靶材腔3里则没有了靶材，可以在蒸镀工艺没有进行的任何时候操作；由控制单元控制气阀打开将备用靶材腔3内的通入空气，直至备用靶材腔
3内的真空度与大气相同，再将备用靶材腔3的腔门301打开，将靶材放入备用靶材腔301里的上推平台5上，且保证上推平台5在靶材的中心位置，关闭腔门301，再由控制单元控制真空泵对备用靶材腔抽真空，待备用靶材腔真空度达到真空镀膜腔1室的真空度后；真空泵停止。这样的设置，镀膜真空腔室1不用频繁的打开，可以通过打开备用靶材腔添加靶材以实现镀膜工艺的连续进行。
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