专利汇可以提供MgO薄膜电子束蒸发制备方法及装置专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且一种MgO 薄膜 电子 束 蒸发 制备方法及装置,它包括至少一个MgO薄膜 电子束蒸发 装置,安装在 真空 室(12)内,它包括成膜速率调整装置(101)、 坩埚 (301)、蒸发 角 度控制装置(121)和电子枪(501),各成膜速率调整装置(101)的一端安装在真空室(12)的顶部,另一端与相应的所需制备MgO薄膜的玻璃 基板 相连,在玻璃基板的正下方安装有用于盛放MgO原料的坩埚(301),蒸发角度控制装置(121)安装在坩埚(301)上,电子枪(501)安装在坩埚(301)的下方。本 发明 具有工艺 稳定性 高、设备利用率高、减少对真空系统的污染和降低清洗 衬板 的成本的优点。,下面是MgO薄膜电子束蒸发制备方法及装置专利的具体信息内容。
1、一种MgO薄膜电子束蒸发制备方法,其特征是它包括以下步骤:
a.将基板放置在蒸发源的正上方,设置成膜速率调整装置(101)调节基板与 蒸发源的距离范围是30-60cm;
b.调节蒸发源上的蒸发角度控制装置(121)使得蒸发角在50°-130°范围内, 调整好后,打开真空镀膜机排气;
c.镀膜机排气完毕,真空度达到1.0×10-3Pa后,打开电子枪电源(601)使 电子枪(501)发射电子束对蒸发源的MgO原料进行蒸发,同时打开氧气引 入管道控制氧气通入的方向对已真空的室内通入10-200Sccm的氧气;
d.MgO原料蒸发的粒子从蒸发源发射出来,当蒸发粒子碰到基板时,冷却形 成MgO薄膜。
2、根据权利要求1所述的MgO薄膜电子束蒸发制备方法,其特征是所述的 蒸发源为装有MgO原料的坩埚(301)。
3、根据权利要求1所述的MgO薄膜电子束蒸发制备方法,其特征是所述的 MgO薄膜电子束蒸发装置为多个。
4、一种MgO薄膜电子束蒸发制备装置,其特征是它包括至少一个MgO薄膜 电子束蒸发装置,所述的MgO薄膜电子束蒸发装置安装在真空室(12)内, 它包括成膜速率调整装置(101)、坩埚(301)、蒸发角度控制装置(121)和 电子枪(501),各成膜速率调整装置(101)的一端安装在真空室(12)的顶 部,另一端与相应的所需制备MgO薄膜的玻璃基板相连,在玻璃基板的正下 方安装有用于盛放MgO原料的坩埚(301),蒸发角度控制装置(121)安装 在坩埚(301)上,电子枪(501)安装在坩埚(301)的下方。
本发明涉及一种MgO薄膜制备方法和装置,尤其是一种等离子显示屏中 MgO薄膜的制备方法及装置,具体的说是一种MgO薄膜电子束蒸发制备方 法及装置。
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