专利汇可以提供一种干法刻蚀设备专利检索,专利查询,专利分析的服务。并且本 发明 公开了一种干法 刻蚀 设备,属于 半导体 技术领域。所述 干法刻蚀 设备包括上 电极 、下电极、倒挂式 基座 、升降机构、制品托盘,制品托盘内设有用于固定芯片的通孔,上电极和下电极相对设置,倒挂式基座、升降机构、制品托盘设置在上电极和下电极之间,倒挂式基座和升降机构固定在上电极上,制品托盘在升降机构的作用下压在倒挂式基座上。本发明通过倒挂式基座和升降机构固定在上电极上,制品托盘在升降机构的作用下压在倒挂式基座上, 等离子体 轰击制品托盘内固定的芯片时,产生的固体颗粒在重 力 的作用下掉落到下电极上,不会附着在芯片表面,因此不存在由于固体颗粒附着在芯片表面而无法刻蚀出所需形貌的问题。,下面是一种干法刻蚀设备专利的具体信息内容。
1.一种干法刻蚀设备,其特征在于,所述干法刻蚀设备包括上电极、下电极、倒挂式基座、升降机构、制品托盘,所述制品托盘内设有用于固定芯片的通孔,所述上电极和所述下电极相对设置,所述倒挂式基座、所述升降机构、所述制品托盘设置在所述上电极和所述下电极之间,所述倒挂式基座和所述升降机构固定在所述上电极上,所述制品托盘在升降机构的作用下压在所述倒挂式基座上。
2.根据权利要求1所述的干法刻蚀设备,其特征在于,所述升降机构包括气缸和升降臂,所述气缸包括缸体和活塞杆,所述缸体设置在所述上电极上,所述活塞杆的一端可滑动地设置在所述缸体内,所述活塞杆的另一端与所述升降臂连接,所述制品托盘设置在所述升降臂上。
3.根据权利要求2所述的干法刻蚀设备,其特征在于,所述升降臂为环形臂。
4.根据权利要求1-3任一项所述的干法刻蚀设备,其特征在于,所述气缸的数量为三个,三个所述气缸为等边三角形的顶点。
5.根据权利要求1-3任一项所述的干法刻蚀设备,其特征在于,所述干法刻蚀设备还包括上射频电源,所述上射频电源与所述上电极连接。
6.根据权利要求1-3任一项所述的干法刻蚀设备,其特征在于,所述干法刻蚀设备还包括下射频电源,所述下射频电源与所述下电极连接。
7.根据权利要求1-3任一项所述的干法刻蚀设备,其特征在于,所述干法刻蚀设备还包括传输臂,所述传输臂内设有电磁线圈,所述制品托盘上对应设有磁性凸块。
8.根据权利要求7所述的干法刻蚀设备,其特征在于,所述电磁线圈的数量为三个,三个所述电磁线圈为等边三角形的顶点。
9.根据权利要求7所述的干法刻蚀设备,其特征在于,所述传输臂为U型臂。
10.根据权利要求1-3任一项所述的干法刻蚀设备,其特征在于,所述制品托盘和所述下电极之间通入有反应气体。
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