一种电容屏ITO膜曝光蚀刻版
专利汇可以提供一种电容屏ITO膜曝光蚀刻版专利检索，专利查询，专利分析的服务。并且本实用新型涉及电容屏技术领域，尤其涉及一种电容屏ITO膜曝光蚀刻版，包括多个蚀刻版本体（1）以及分别设置在多个蚀刻版本体（1）上的不同的蚀刻图案（2），不同的蚀刻图案（2）中均包括多条宽度相同的线条，其宽度为X，且不同的蚀刻图案（2）中的相邻线条之间的间距相同，其为Y，所述多个蚀刻版本体（1）的其中一边的相同 位置 上均设有方便用户检测且形状相同的固定检测图案（3），且所述固定检测图案（3）包括至少两条宽度为X的线条，且所述两条线条之间的距离为Y。这种蚀刻版检测方便且不会影响被检测产品。，下面是一种电容屏ITO膜曝光蚀刻版专利的具体信息内容。
1.一种电容屏ITO膜曝光蚀刻版，包括多个蚀刻版本体（1）以及分别设置在多个蚀刻版本体（1）上的不同的蚀刻图案（2），不同的蚀刻图案（2）中均包括多条宽度相同的线条，其宽度为X，且不同的蚀刻图案（2）中的相邻线条之间的间距相同，其为Y，其特征在于：所述多个蚀刻版本体（1）的其中一边的相同位置上均设有方便用户检测且形状相同的固定检测图案（3），且所述固定检测图案（3）包括至少两条宽度为X的线条，且所述两条线条之间的距离为Y。
2.根据权利要求1所述的一种电容屏ITO膜曝光蚀刻版，其特征在于：所述每个蚀刻版本体（1）上均设有四个固定检测图案（3），且所述四个固定检测图案（3）分别设置在蚀刻版本体（1）的四条边上。
3.根据权利要求1所述的一种电容屏ITO膜曝光蚀刻版，其特征在于：所述固定检测图案（3）还包括两条矩形螺旋线且两条矩形螺旋线相互交缠设置。
一种电容屏ITO膜曝光蚀刻版
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