技术领域
[0001] 本
发明涉及柔性显示制造工艺领域，尤其涉及一种刻蚀设备。
背景技术
[0002] 随着柔性显示技术的发展，柔性显示装置的应用越来越广泛，而柔性显示装置对
半导体制造设备的要求很高。目前，主流的AMOLED柔性显示技术，一般需要先在整片
基板上制作Array
电路，将制备有Array电路的基板切成两半后分别进行
发光层蒸
镀，然后同时在蒸镀有发光层的两片半板上进行触控电路制作，以实现柔性显示触摸的目的。双半板触控电路的制作需要用到干刻工艺，但目前双半板生产干刻设备，刻蚀的均一性只能做到20％以上，严重影响产品良率。
发明内容
[0003] 为了解决
现有技术的不足，本发明提供一种刻蚀设备，能够优化刻蚀环境、提高刻蚀均一性、提升产品良率。
[0004] 本发明提出的具体技术方案为：提供一种刻蚀设备，所述刻蚀设备包括密封罩、承载板、
挡板、边框以及多个第一排气结构，所述承载板、挡板及边框位于所述密封罩内，所述边框和所述挡板设于所述承载板上，所述挡板位于所述边框的中间并与所述边框围合成两个收容部，所述两个收容部用于放置触摸面板，所述多个第一排气结构环绕所述边框设置，所述多个第一排气结构用于将密封罩中的空气排出。
[0005] 进一步地，所述刻蚀设备还包括第一排气管道和第二排气结构，所述第一排气管道贯穿所述挡板及所述承载板并连通所述密封罩与所述第二排气结构。
[0006] 进一步地，所述第二排气结构包括第一控制
阀和第一抽气
泵，所述第一
控制阀设于所述第一排气管道与所述第一抽气泵之间。
[0007] 进一步地，所述第一排气管道包括
水平部及与所述水平部连通的垂直部，所述垂直部贯穿所述挡板和所述承载板并连通所述密封罩与所述水平部，所述水平部连接于所述垂直部与所述第一控制阀之间。
[0008] 进一步地，所述第一排气管道的材质为耐
腐蚀、绝缘材质。
[0009] 进一步地，所述第一排气结构对称的设置于所述承载板的相对的两侧。
[0010] 进一步地，所述第一排气结构包括第二排气管道、第二控制阀以及第二抽气泵，所述第二排气管道与所述密封罩连通，所述第二控制阀设于所述第二排气管道与所述第二抽气泵之间。
[0011] 进一步地，所述刻蚀设备还包括第三抽气泵，所述第三抽气泵分别与所述第一抽气泵、第二抽气泵连接。
[0012] 进一步地，所述第一抽气泵、第二抽气泵均为分子泵。
[0014] 本发明提出的刻蚀设备包括多个第一排气结构，在
干法刻蚀时，可以通过多个第一排气结构促进密封罩内的工艺气体的流动，使得工艺气体均匀分布在密封罩内，从而优化刻蚀环境、提高刻蚀均一性以及提升产品良率。
附图说明
[0015] 下面结合附图，通过对本发明的具体实施方式详细描述，将使本发明的技术方案及其它有益效果显而易见。
[0016] 图1为刻蚀设备的结构示意图；
[0017] 图2为图1中刻蚀设备的剖面图；
[0018] 图3为图1中刻蚀设备的另一剖面图。
具体实施方式
[0019] 以下，将参照附图来详细描述本发明的
实施例。然而，可以以许多不同的形式来实施本发明，并且本发明不应该被解释为限制于这里阐述的具体实施例。相反，提供这些实施例是为了解释本发明的原理及其实际应用，从而使本领域的其他技术人员能够理解本发明的各种实施例和适合于特定预期应用的各种
修改。在附图中，相同的标号将始终被用于表示相同的元件。
[0020] 参照图1、图2、图3，本实施例提供的刻蚀设备包括密封罩1、承载板2、挡板3、边框4以及多个第一排气结构5，承载板2、挡板3及边框4位于密封罩1内，边框4和挡板3设于承载板2上，挡板3位于边框4的中间并与边框4围合成两个收容部6，两个收容部6用于放置触摸面板7，多个第一排气结构5环绕边框4设置，多个第一排气结构5用于将密封罩1中的空气排出。
[0021] 本实施例中的刻蚀设备可以同时对两
块触摸面板7进行刻蚀，边框4为矩形框状结构，挡板3设置于边框4的中间并与边框4相对的两边垂直，边框4和挡板3用于对两块触摸面板7进行限位。多个第一排气结构5与密封罩1连通，用于将密封罩1中的空气排出。
[0022] 在干法刻蚀时，通过多个第一排气结构5可以促进密封罩1内的工艺气体的流动，使得工艺气体均匀分布在密封罩1内，从而优化刻蚀环境、提高刻蚀均一性以及提升产品良率。
[0023] 较佳地，多个第一排气结构5对称分布于边框4的两侧，这样可以进一步使得工艺气体均匀分布在密封罩1内，优化刻蚀环境、提高刻蚀均一性以及提升产品良率。
[0024] 第一排气结构5包括第二排气管道51、第二控制阀52以及第二抽气泵53，第二排气管道51与密封罩1连通，第二控制阀52设于第二排气管道51与第二抽气泵53之间。第二控制阀52为APC阀，用于控制密封罩1中的压
力大小。
[0025] 本实施例中的第二排气管道51的材质为耐腐蚀、绝缘材质，例如，陶瓷材料或者经过
阳极氧化coating制作后的
铝材料。这样，密封罩1中的工艺气体不会对第二排气管道51进行腐蚀。
[0026] 刻蚀设备还包括第一排气管道8和第二排气结构9，承载板2和挡板3上设有用于放置第一排气管道8的通孔，第一排气管道8位于通孔中，第一排气管道8贯穿承载板2及挡板3并连通密封罩1与第二排气结构9。通过第一排气管道8和第二排气结构9可以将挡板3上方的工艺气体排出，从而避免因挡板3处没有放置触摸面板7而导致挡板3的上方的工艺气体的浓度比较大，挡板3上方的工艺气体会向挡板3两侧扩散，触摸面板7靠近挡板3的一侧的刻蚀速度较快，导致刻蚀均一性降低、产品良率也降低。
[0027] 本实施例中的第一排气管道8的数目可以为多个，第二排气结构9的数目也为多个，每一个第一排气管道8均对应一个第二排气结构9。多个第一排气管道8的形状和尺寸可以不相同，从而可以通过多个第一排气管道8的形状和尺寸的不同来控制第一排气管道8的排气量，或者，多个第一排气管道8的形状和尺寸相同，通过控制多个第二排气结构9的排气速度来控制第一排气管道8的排气量。
[0028] 第二排气结构9包括第一控制阀91和第一抽气泵92，第一控制阀91设于第一排气管道8与第一抽气泵92之间。第一控制阀91为APC阀，用于控制密封罩1中的压力大小。
[0029] 本实施例中的第一排气管道8的材质为耐腐蚀、绝缘材质，例如，陶瓷材料或者经过阳极氧化coating制作后的铝材料。这样，密封罩1中的工艺气体不会对第一排气管道8进行腐蚀。
[0030] 如图3所示，在另一实施方式中，本实施例中的多个第一排气管道8可以共用一个第二排气结构9。此时，第一排气管道8包括水平部81及与水平部81连通的垂直部82，垂直部82贯穿承载板2和挡板3并连通密封罩1与水平部81，水平部81连接于垂直部82与第一控制阀91之间。第二排气结构9设于多个第一排气管道8的中间，这样多个第一排气管道8均可以通过水平部81与第二排气结构9连通。
[0031] 本实施例中的刻蚀设备还包括第三抽气泵10，第三抽气泵10分别与第一抽气泵92、第二抽气泵53连接。具体地，第一抽气泵92、第二抽气泵53为分子泵(TMP)，用于在密封罩1的真空度较高的情况下进行排气，第三抽气泵10为
真空泵，用于在密封罩1的真空度较低的情况下进行排气。每一个第一抽气泵92、第二抽气泵53均连接一个第三抽气泵10。
[0032] 本实施例中多个第一排气结构5还用于
支撑整个刻蚀设备，承载板2搁置于第一排气结构5的顶部并部分
覆盖第一排气结构5的顶部，这样，第一排气结构5在排气的过程中还可以支撑整个刻蚀设备。
[0033] 以上所述仅是本
申请的具体实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本申请原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本申请的保护范围。
